公开(公告)号：CN101711341A

公开(公告)日：2010-05-19

申请号：CN200880020745.7

申请日：2008-04-21

Applicant: 克莫麦特公司

Inventor： 波库·昂费达盛

IPC: G01B9/02

CPC classification number: G01B9/02076 ,  G01B9/02068 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/06 ,  G01J3/453 ,  H01L41/0946 ,  H01L41/0973

Abstract: 本发明涉及干涉仪的至少一个可动装置相对于干涉仪主体的移动。根据本发明的系统包括至少两个干涉仪促动器，所述干涉仪促动器能够被独立操作，从而使得至少两个促动器能够移动干涉仪的至少一个可动装置。当激励至少两个干涉仪促动器中的至少一个时，干涉仪的至少一个可动装置以矫正诸如倾斜的情况的最低需要移动。在优选配置中，根据本发明的系统和方法包括三个能够被独立操作的干涉仪促动器。

公开(公告)号：CN101087989A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200580039773.X

申请日：2005-10-17

Applicant: 摩根研究股份有限公司

Inventor： J·L·威廉姆斯 ,  M·S·克兰茨 ,  L·C·海顿

IPC: G01B9/02

CPC classification number: G01B11/18 ,  G01B11/161 ,  G01B11/168 ,  G01J3/453 ,  G01J4/00 ,  G01M11/085

Abstract: 本发明提供了通过快速且简单的测量来确定经历可能导致降低结构寿命、强度或可靠性的损害的结构上的位置的能力。传感元件是偏振维持(“PM”)光纤的连接部分，其中PM光纤的长度表示完全分布的传感器阵列。应力引起的传感器的变化通过白光偏振干涉测量法来测量。测量的输出是表示沿传感器的长度的位置的阵列处的应力集中大小的数组。在一种应用中，已知结构上的光纤位置加上沿光纤长度的应力位置的测量允许用户确定结构上具有大的应力集中的位置。这些位置可表示结构损坏。该知识允许用户采用更加复杂的系统，尽管较大且较慢，以充分地表征和评价可能的损坏区域并采取适当的行动。

公开(公告)号：CN1079157C

公开(公告)日：2002-02-13

申请号：CN95192476.1

申请日：1995-03-09

Applicant: 奥普斯公司

Inventor： 卡杰·拉森

IPC: G01J3/45 ,  G01B9/02

CPC classification number: G01J3/453

Abstract: 一个干涉仪包含一个分光镜(BS)和平行安装在可被线性移动的公共滑动部件上的两个扫描反光镜(M1，M2)。干涉仪还包含两个补偿反光镜(M3，M4)，补偿反光镜被置于分光镜(BS)和扫描反光镜(M1，M2)之间。分光镜(BS)以及每个补偿反光镜(M3，M4)之间是正交的。对于扫描反光镜(M1，M2)位移的不准确干涉仪有很好的容许偏差。干涉仪可用于生产袖珍型的而且廉价的付里叶变换光谱仪。

公开(公告)号：CN1245570A

公开(公告)日：2000-02-23

申请号：CN97181653.0

申请日：1997-12-31

Applicant: 埃克森化学专利公司

Inventor： M·F·麦克唐纳 ,  R·L·朗 ,  C·J·托马斯

IPC: G05D21/02

CPC classification number: G05D21/02 ,  C08F210/12 ,  C08F2400/02 ,  G01J3/28 ,  G01J3/453 ,  G01N21/3563 ,  G01N21/359 ,  G01N21/84 ,  G01N2021/3595 ,  G01N2021/8411 ,  G01N2201/129 ,  C08F2/00 ,  C08F236/08

Abstract: 一个对控制产品性能的工艺参数实施在线监控和控制的、生产卤代丁基橡胶的加工车间。该车间装有一个不需从工艺流程中提取任何试样物质的现场测量系统。该系统采用了一台傅立叶变换近红外(FTNIR)光谱仪,纤维光缆、一个测量溶液粘度的粘度计以及一台测定温度的电阻温度计(RTD)。采用一种受约束主光谱分析(Constrained Principal SpectralAnalysis)程序的在线实时分析仪系统能预测聚合物产品的性能,并向工艺控制系统提供利用聚合物物理性能与这些光谱测量数据及流体粘度与温度测量值之间相互关系的数据分析。以产品的预测性能与要求性能之间的差值作为控制工艺参数。本方法可用于各种不同的化学加工车间。

公开(公告)号：CN1023729C

公开(公告)日：1994-02-09

申请号：CN90110258.X

申请日：1990-12-29

Applicant: 株式会社岛津制作所

Inventor： 辻史郎 ,  吉川治

IPC: G01J3/45

CPC classification number: G01J3/4535 ,  G01J3/453 ,  G01N2021/3595

Abstract: 一种干涉分光光度计。在收集数据的同时通过提供90°相位控制来监视可动反射镜的位置，以准确地进行数据的相干相加。包括主干涉仪，控制干涉仪，滑动控制器，模/数转换器，保持数据的寄存器和累积数据的存储器，可逆计数器，以及一个判定部件。当计数器的值改变时，计数器使模/数转换器执行其模/数转换，然后，判定部件在模/数转换后检查计数器的值。如果该值与模/数转换前得到的计数值不同，则废弃保持在寄存器中的数据。

公开(公告)号：TWI397715B

公开(公告)日：2013-06-01

申请号：TW093127328

申请日：2004-09-09

Applicant: 綜合醫院股份有限公司 ,  THE GENERAL HOSPITAL CORPORATION

Inventor： 勇錫亨 ,  YUN, SEOK-HYUN ,  布瑪布列特尤金 ,  BOUMA, BRETT EUGENE ,  提爾內吉勒摩 J ,  TEARNEY, GUILLENNO J. ,  戴柏爾約翰尼斯菲茲格拉德 ,  DEBOER, JOHANNES FITZGERALD

IPC: G02B27/00

CPC classification number: H01S5/5045 ,  A61B5/0059 ,  A61B5/0066 ,  A61B5/7257 ,  G01B9/02002 ,  G01B9/02004 ,  G01B9/02043 ,  G01B9/02075 ,  G01B9/02081 ,  G01B9/02083 ,  G01B9/02084 ,  G01B9/0209 ,  G01B9/02091 ,  G01B2290/45 ,  G01B2290/70 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/453 ,  G01J9/0215 ,  G01N21/4795 ,  G02B6/3604 ,  G02B26/12 ,  G02B27/48 ,  G02F1/093 ,  G02F1/11 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/0078 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08063 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1068 ,  H01S5/0071 ,  H01S5/0078 ,  H01S5/1025 ,  H01S5/14 ,  H01S5/141 ,  H01S5/146

公开(公告)号：KR1020150045523A

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：KR1020157008521

申请日：2013-10-02

Applicant: 고쿠리츠다이가쿠호우징 카가와다이가쿠

Inventor： 이시마루이치로

IPC: A61B5/1455 ,  A61B5/00 ,  G01J3/06 ,  G01J3/453 ,  G01N21/27 ,  G01N21/35

CPC classification number: G01J3/45 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0237 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0291 ,  G01J3/2803 ,  G01J3/4531 ,  G01J3/4532 ,  G01N2021/3595 ,  A61B5/1455 ,  A61B5/0075 ,  G01J3/06 ,  G01J3/453 ,  G01N21/27 ,  G01N21/35

Abstract: 본발명의분광측정장치는피측정물의측정영역내에위치하는복수의측정점으로부터각각발사된측정광속을제1 측정광속및 제2 측정광속으로분할하는분할광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속을간섭시키는결상광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속의사이에연속적인광로길이차분포를주는광로길이차부여수단과, 광로길이의연속적인분포에상응하는간섭광의강도분포를검출하는복수의픽셀을포함하는검출부와, 검출부에서검출되는간섭광의광강도분포에기초하여, 피측정물의측정점의인터페로그램을구하고, 이인터페로그램을푸리에변환함으로써스펙트럼을취득하는처리부와, 피측정물과분할광학계의사이에배치된, 그분할광학계와공통의공역면을가지는공역면결상광학계와, 공역면에배치되어복수의측정점으로부터발사된측정광속에공간적인주기변조를주는주기성부여수단을구비한다.

Abstract translation: 根据本发明的光谱特性测量装置包括：分割光学系统，用于将位于待测物体的测量区域内的多个测量点中的每一个发射的测量光束分成第一测量光束和第二测量 光束; 用于使第一测量光束和第二测量光束彼此干涉的成像光学系统; 光路长度差提供装置，用于提供第一测量光束和第二测量光束之间的光程长度差的连续分布; 用于检测干涉光的光强度分布的检测器; 基于由所述检测器检测出的干涉光的光强度分布获取被测量物体的测量点的干涉图并进行傅立叶变换以获得光谱的处理器; 位于被测量物体与分割光学系统之间的共轭平面成像光学系统，共轭平面成像光学系统具有与分割光学系统共享的共轭平面; 以及位于共轭平面上的周期性提供装置，用于在从多个测量点发射的测量光束之间提供周期性。

公开(公告)号：KR1020130029816A

公开(公告)日：2013-03-25

申请号：KR1020137003757

申请日：2004-09-08

Applicant: 더 제너럴 하스피탈 코포레이션

Inventor： 윤석현 ,  보우마,브레트,유진 ,  티어니,길레모,주니어 ,  보어,요한,피츠제럴드데

IPC: G01J9/02 ,  G01B9/02 ,  A61B5/00

CPC classification number: H01S5/5045 ,  A61B5/0059 ,  A61B5/0066 ,  A61B5/7257 ,  G01B9/02002 ,  G01B9/02004 ,  G01B9/02043 ,  G01B9/02075 ,  G01B9/02081 ,  G01B9/02083 ,  G01B9/02084 ,  G01B9/0209 ,  G01B9/02091 ,  G01B2290/45 ,  G01B2290/70 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/453 ,  G01J9/0215 ,  G01N21/4795 ,  G02B6/3604 ,  G02B26/12 ,  G02B27/48 ,  G02F1/093 ,  G02F1/11 ,  H01S3/0071 ,  H01S3/0078 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08063 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1068 ,  H01S5/0071 ,  H01S5/0078 ,  H01S5/1025 ,  H01S5/14 ,  H01S5/141 ,  H01S5/146

Abstract: 장치 및 방법이 개시된다. 특히 적어도 하나의 제1 전자기 방사가 하나의 샘플에 제공되며, 또한 적어도 하나의 제2 전자기 방사가 비 반사 기준물에 제공될 수 있다. 제1 및/또는 제2 방사의 주파수는 시간에 따라 변한다. 상기 샘플로부터 복귀된 적어도 하나의 제3 방사와 상기 기준물로부터 복귀된 적어도 하나의 제4 방사 사이의 간섭이 검출된다. 또한 제1 전자기 방사 및/또는 제2 전자기 방사는 시간에 따라 변화하는 스펙트럼을 갖는다. 스펙트럼은 특정 시간에 다수의 주파수들을 가질 수 있다. 또한, 제1 편광 상태에서 제3 방사와 제4 방사 사이의 간섭 신호를 검출할 수 있다. 또한, 제1 편광 상태와는 다른 제2 편광 상태에서 제3 방사와 제4 방사 사이의 간섭 신호를 검출하는 것이 바람직하다. 제1 및/또는 제2 전자기 방사는 밀리 초당 100 테라 헤르츠 이상의 조정 속도에서 시간에 따라 사실상 연속적으로 변화하는 중심 주파수 스펙트럼을 가질 수 있다.

Abstract translation: 公开了装置和方法。 具体而言，在一个样本中提供至少一个第一电磁辐射，并且还可以在非反射参考中提供至少一个第二电磁辐射。 第一和/或第二辐射的频率随时间变化。 检测从样本返回的至少一个第三辐射与从参考返回的至少一个第四辐射之间的干涉。 第一电磁辐射和/或第二电磁辐射也具有随时间变化的光谱。 频谱在特定时间可以有多个频率。 也可以检测第一偏振态下的第三和第四辐射之间的干涉信号。 还希望检测处于不同于第一偏振态的第二偏振态的第三和第四辐射之间的干涉信号。 第一和/或第二电磁辐射可具有以至少100THz /毫秒的调节速度随时间基本上连续变化的中心频谱。

公开(公告)号：KR1020110036944A

公开(公告)日：2011-04-12

申请号：KR1020117004575

申请日：2009-07-20

Applicant: 상뜨르 나쇼날 드 라 러쉐르쉬 샹띠피끄 ,  막스-플랑크-게젤샤프트 츄어 푀르더룽 데어 비쎈샤프텐 에.파우.

Inventor： 게라츠비리,가이 ,  한슈,데오도르,더블유. ,  픽끄,나탈리

IPC: G01J3/453

CPC classification number: G01J3/453 ,  G01B9/02

Abstract: 본 발명은 1) 제 1 주파수 빗, 2) 간섭을 만들기 위해 제 1 주파수 빗과 상호 작용하기 위해 구성된 제 2 주파수 빗, 3) 2 개의 빗들의 주파수 성분들 중에서 주파수 성분들의 서브셋 사이의 비팅 신호를 분리시키는 수단을 포함한 간섭계에 관한 것이다. 주파수 성분들의 이 서브셋은 제 1 주파수 빗의 신호 라인 및 제 2 주파수 빗의 신호 라인인 것이 바람직하지만, 반드시 그럴 필요는 없다. 본 발명은 4) 이 비팅 신호를 모니터링하고, 제 1 주파수 빗 및 제 2 주파수 빗의 전체 주파수 성분들 사이의 비팅 간섭 신호를 기록하는 획득 유닛 장치에 대한 트리거 또는 클럭으로서 상기 비팅 신호를 사용하는 수단을 포함한다.

公开(公告)号：KR1020030004450A

公开(公告)日：2003-01-14

申请号：KR1020027016150

申请日：2001-05-17

Applicant: 라이프스캔, 인코포레이티드

Inventor： 데브레체니,마틴피. ,  오닐,마이클피.

IPC: G01N21/35

CPC classification number: A61B5/1455 ,  A61B5/14532 ,  G01J3/453 ,  G01J3/4535 ,  G01N21/35 ,  G01N2021/3595

Abstract: 저 투과율의 샘플에서 적어도 하나의 분석물의 유무 및/또는 농도를 측정하기 위한 방법 및 장치가 제공된다. 본 방법에서, 전방빔 및 후방빔은 적어도 하나의 적외선 방사원으로부터 간섭계에 의해 발생되거나 또는 간섭계로 도입된다. 전방빔은 샘플로 통과하고, 다음에 샘플빔을 발생하도록 수집되고, 한편 후방빔은 기준물로 통과하여 기준빔을 발생하도록 수집된다. 샘플빔 및 기준빔은 재조합되어 단일 검출기에서 검출되는 광학적 무효빔이 되거나 또는 2개의 분리된 검출기에서 검출된 후 전자적으로 무효로 된다. 샘플에서 적어도 하나의 분석물의 유무 및 가끔 양은 검출된 무효빔으로부터 유도된다. 또한, 상기 방법들을 실시하는 장치들도 제공된다. 본 방법 및 장치들은 혈액, 조직 또는 이들의 유도체와 같은 생리적 샘플에서 하나 이상의 혈액 분석물의 유무 및 양의 검출을 포함하는 여러 가지 다른 적용분야에 사용하기에 적합하다.