公开(公告)号：WO2017114794A1

公开(公告)日：2017-07-06

申请号：PCT/EP2016/082618

申请日：2016-12-23

Applicant: MAPPER LITHOGRAPHY IP BV

Inventor： STEENSTRA, Herre Tjerk

IPC: H04J3/06 ,  G06F13/40 ,  G06F1/14 ,  H04L7/00 ,  G03F7/20 ,  H01J37/00

CPC classification number: H01J37/243 ,  G03F7/2059 ,  G05B2219/45028 ,  G06F1/14 ,  G06F13/40 ,  H01J37/00 ,  H01J37/045 ,  H01J37/3174 ,  H04J3/0638 ,  H04L7/0008

Abstract: A method for initializing a first operation in a first module (120) at a first start time value in a first time base, the method comprising generating a clock signal (402, 116), generating a second time base (403) in the first module (120) based on the clock signal (116), determining a second sync value (405) in the second time base, determining a first sync value (406) in the first time base corresponding to a second sync value in the second time base, determining a start trigger value (410) in the second time base based on the first sync value and the start time value in the first time base, and initializing the first operation (411) in the first module (120) based on the start trigger value and a current value of the second time base in the first module.

Abstract translation: 一种用于在第一时基中以第一开始时间值在第一模块（120）中初始化第一操作的方法，所述方法包括：生成时钟信号（402,116）;生成第二时钟信号 基于时钟信号（116）确定第一模块（120）中的时基（403），确定第二时基中的第二同步值（405），确定第一时基中的第一同步值 第二时基中的第二同步值，基于第一时基中的第一同步值和开始时间值确定第二时基中的开始触发值（410），并且初始化第一时基中的第一操作（411） 第一模块（120）基于第一模块中的开始触发值和第二时间基准的当前值。

公开(公告)号：WO2017015191A1

公开(公告)日：2017-01-26

申请号：PCT/US2016/042740

申请日：2016-07-18

Applicant: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.

Inventor： DUNLOP, John A. ,  HUBERT, Kevin T. ,  RUZICKA, Jacob C. ,  WRAGG, Andrew N.A. ,  BLONDELL, Michael D. ,  JARDEE, William P. ,  JOHN, Phillip F. ,  LARA, Edward P. ,  MEYER, Wayne D. ,  DAUB, Adam P. ,  BUCKHART, Scott A. ,  JUNTTILA, Travis C.

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/203

CPC classification number: H01J37/00 ,  C23C14/34

Abstract: A high surface area coil for use with a physical vapor deposition apparatus comprising a first surface. At least a portion of the first surface has a macrotexture with a surface roughness between about 15 µm and about 150 µm. At least a portion of the first surface has a microtexture with a surface roughness between about 2 µm and 15 µm.

Abstract translation: 一种用于物理气相沉积设备的高表面积线圈，包括第一表面。 第一表面的至少一部分具有约15μm至约150μm之间的表面粗糙度的宏观纹理。 第一表面的至少一部分具有表面粗糙度在约2μm和15μm之间的微纹理。

公开(公告)号：WO2016114107A1

公开(公告)日：2016-07-21

申请号：PCT/JP2016/000036

申请日：2016-01-06

Applicant: HITACHI ZOSEN CORPORATION

Inventor： BAKHTARI, Kaveh

IPC: A61L2/08 ,  A61L2/20 ,  B29C49/06 ,  B67B3/00 ,  H01J35/14 ,  H01J37/00

CPC classification number: A61L2/087 ,  A61L2/202 ,  A61L2202/23 ,  B29C49/06 ,  B29C2049/4635 ,  B65B55/08 ,  H01J37/00

Abstract: The present invention has its objective to reduce the size of an electron beam sterilization system so as to lower the cost and complexity of the overall system. An electron beam emitter according to the present invention includes a power supply (11), a cathode (12) connected to the power supply (11), an electron lens (13) that surrounds the cathode (12) and has a plurality of apertures (13a), a flange (14) having a plurality of nozzles (14a), and a chamber (15) that keeps a vacuum, with the flange (14), around the electron lens (13) and the cathode (12). The cathode (12) is partially provided on a straight line passing through the aperture (13a) and the nozzle (14a).

Abstract translation: 本发明的目的是减小电子束灭菌系统的尺寸，以降低整个系统的成本和复杂性。 根据本发明的电子束发射器包括电源（11），连接到电源（11）的阴极（12），围绕阴极（12）的电子透镜（13），并且具有多个孔 （13a），具有多个喷嘴（14a）的凸缘（14）和与所述凸缘（14）在电子透镜（13）和阴极（12）周围保持真空的室（15）。 阴极（12）部分地设置在通过孔（13a）和喷嘴（14a）的直线上。

公开(公告)号：WO2016080365A1

公开(公告)日：2016-05-26

申请号：PCT/JP2015/082177

申请日：2015-11-17

Applicant: 日立造船株式会社

Inventor： 佐々木　万晶 ,  横林　孝康 ,  武田　真一

IPC: B65B55/08 ,  A61L2/08 ,  B65B55/04

CPC classification number: A61L2/087 ,  A61L2202/121 ,  A61L2202/23 ,  H01J37/00

Abstract: 　電子線滅菌装置（１）は、鉛直方向の回転軸（３３），（３４）の周りに回転される回転体（２２）に、上段部（２５）、中段部（２７）および下段部（２６）が設けられたものである。上段部（２５）に、周方向に沿って複数の電子線照射器（１５）が配置される。中段部（２７）に、容器（２）を保持する保持装置（１７）が配置される。下段部（２６）に、各電子線照射器（１５）にそれぞれ電力を供給する複数の電源装置（７１）が配置される。各電源装置（７１）から回転軸（３３），（３４）に沿って上段部（２５）まで、電源ケーブル（７２）が配線され各電子線照射器（１５）に接続される。

Abstract translation: 一种电子束消毒装置（1），其中围绕垂直旋转轴（33）和（34）旋转的旋转体（22）设置有上段部分（25），中间段部分（27）和 下段段（26）。 多个电子束照射器（15）沿圆周方向布置在上段部分（25）中。 保持容器（2）的保持器（17）布置在中间部分（27）中。 向下级部（26）配置多个向每个电子束照射器（15）供电的供电装置（71）。 沿着旋转轴（33）和（34）的每个电源装置（71）将电源电缆（72）连接到上级部分（25）并连接到每个电子束照射器（15） 。

公开(公告)号：WO2015196399A1

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：PCT/CN2014/080783

申请日：2014-06-26

Applicant: 上海凯世通半导体有限公司

Inventor： 洪俊华 ,  沈培俊

IPC: H01L21/00 ,  H01J37/00

CPC classification number: H01J37/00 ,  H01L21/00

Abstract: 一种离子注入设备，其包括：在该真空制程腔中移动的承载框架，该承载框架包括边框部和由该边框部围成的中空部，该边框部用于通过支撑晶片的边缘来承载晶片；位于晶片表面一侧的至少一个第一离子注入装置，用于将离子从晶片的表面注入至晶片中；位于晶片背面一侧的至少一个第二离子注入装置，用于将离子从晶片的背面注入至晶片中，离子束所在平面与该承载框架的运动方向垂直，该承载框架用于承载晶片经过每个第一离子注入装置和每个第二离子注入装置的离子束的作用区域。所述离子注入设备通过在同一真空制程腔中在晶片的两侧设置离子注入装置来实现对晶片两个表面的离子注入，提高了加工效率，且无需设置额外的支撑装置，精简了结构。

公开(公告)号：WO2014030430A1

公开(公告)日：2014-02-27

申请号：PCT/JP2013/067756

申请日：2013-06-28

Applicant: 株式会社 日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 大南　祐介 ,  伊東　祐博

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/16 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20

CPC classification number: H01J37/16 ,  H01J37/00 ,  H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/244 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/24455 ,  H01J2237/2605

Abstract: 　一次荷電粒子線を試料上に照射して、前記照射により得られる二次荷電粒子信号を検出し、前記試料を観察する試料観察方法において、真空状態に保たれた荷電粒子光学鏡筒内で発生する前記一次荷電粒子線を、前記試料が載置された空間と前記荷電粒子光学鏡筒とを隔離するように配置された隔膜を透過または通過させ、大気圧または大気圧より若干の負圧状態の所定のガス雰囲気におかれた前記試料に前記一次荷電粒子線を照射することによって得られる透過荷電粒子線を検出することを特徴とする。

Abstract translation: 提供了一次带电粒子束投射在样本上的样本观察方法，检测出通过投影获得的二次带电粒子信号，观察到样本。 在保持在真空状态的带电粒子光学筒中产生的初级带电粒子束被隧穿或透过隔膜，隔膜被定位成分离样品被加载的空间和带电粒子光学镜筒。 检测隧道带电粒子束，所述穿隧带电粒子束通过将初级带电粒子束投射到放置在大气压或低于大气压的压力状态的规定气体环境中的样品上而获得。

公开(公告)号：JP6404998B2

公开(公告)日：2018-10-17

申请号：JP2017112815

申请日：2017-06-07

Applicant: ツィンファ ユニバーシティ ,  鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司

Inventor： 柳 鵬 ,  趙 偉 ,  林 暁陽 ,  周 段亮 ,  張 春海 ,  姜 開利 ,  ▲ハン▼ 守善

IPC: G01N23/2055

CPC classification number: G03F7/2037 ,  G03F7/2059 ,  H01J37/00

公开(公告)号：JP6319729B2

公开(公告)日：2018-05-09

申请号：JP2016140656

申请日：2016-07-15

Applicant: ▲コウ▼康科技股▲フン▼有限公司

Inventor： 張平 ,  洪英展 ,  陳弘仁

IPC: G02B21/34 ,  G02B5/00 ,  G01N1/00

CPC classification number: G01N1/02 ,  G01N23/2204 ,  G02B5/208 ,  G02B21/00 ,  H01J37/00

公开(公告)号：JP2016225436A

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：JP2015109567

申请日：2015-05-29

Applicant: 東京エレクトロン株式会社

Inventor： 澤田石 真之 ,  三輪 智典 ,  金子 雄基

IPC: H01L21/8247 ,  H01L27/115 ,  H01L21/336 ,  H01L29/788 ,  H01L29/792 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/31116 ,  H01J37/00

Abstract: 【課題】第1の誘電体膜及びシリコン窒化膜である第2の誘電体膜が交互に積層されることによって構成された多層膜を有する第1領域と、単層のシリコン酸化膜を有する第2領域とをエッチングする方法を提供する。 【解決手段】一実施形態の方法は、プラズマ処理装置の処理容器内で、フルオロカーボンガス、及び酸素ガスを含む第1の処理ガスのプラズマを生成する第1プラズマ処理工程と、処理容器内で、水素ガス、三フッ化窒素ガス、及、炭素含有ガスを含む第2の処理ガスのプラズマを生成する第2プラズマ処理工程と、を含む。この方法では、第1プラズマ処理工程では、静電チャックの温度が第1の温度に設定され、第2プラズマ処理工程では、静電チャックの温度が第1の温度よりも低い第2の温度に設定される。 【選択図】図1

Abstract translation: 第一具有具有多层膜，其中所述第二电介质膜是第一电介质膜和氮化硅膜通过被交替层叠，单层的氧化硅膜形成的第一区域 的第二区域，以提供蚀刻的方法。 一个实施例的方法中，在等离子体处理装置中，碳氟化合物气体，并产生含氧气体的第一处理气体的等离子体，在所述处理容器的第一等离子体处理工序的处理容器中， 含氧气体，三氟化氮气体，及，生成含有含碳气体的第二工艺气体的等离子体的第二等离子体处理步骤氢。 以这种方式，在第一等离子体处理步骤中，在静电卡盘的温度设定为第一温度，第二等离子体处理步骤中，以第二温度低于所述静电卡盘的第一温度的温度 它被设置。 点域1

公开(公告)号：JP4279720B2

公开(公告)日：2009-06-17

申请号：JP2004120084

申请日：2004-04-15

Applicant: トロリラ ギレルモ ,  株式会社島津製作所

Inventor： トロリラ ギレルモ

IPC: G01N23/225 ,  G01R31/302 ,  G01R31/00 ,  G01R31/305 ,  G09G3/00 ,  H01J37/00 ,  H01J37/28

CPC classification number: G09G3/006 ,  G01R31/305 ,  H01J37/00 ,  H01J2237/2813 ,  H01J2237/2817

Abstract: A CRT gun is used to inspect substrates in a voltage contrast system. The CRT gun directs a beam of electrons at the substrate, which is at least partially disposed in a vacuum chamber. The vacuum chamber is evacuated and provided with an electron detector to sense secondary electron emission due to impingement of the electron stream on the substrate. In an alternative embodiment, a plurality of CRT guns are used in conjunction with a common vacuum chamber. The plural CRTs may share a common electron detector, or may each be provided with an associated electrostatically isolated detector. The system is preferably used to detect flat panel displays (FPDs) during manufacture.