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公开(公告)号：KR102229335B1
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：KR1020190054115A
申请日：2019-05-09
Applicant: (주)엘립소테크놀러지
CPC classification number: G01N21/211 , G01J4/04 , G01N21/21 , G01N21/27 , G01N21/274 , G01N2021/213
Abstract: 본 발명은 개구수가 큰 광학소자들에 의한 편광상태의 변화 및 타원상수의 왜곡을 보정하여 측정 정확도를 높일 수 있는 마이크로 스폿 분광타원법을 제공함에 있다.
이를 위한, 고배율 광학계를 적용하는 마이크로 스폿 분광타원계의 왜곡 보정 방법은 고배율 광학계에 의한 왜곡 크기를 구하는 단계, 상기 고배율 광학계에 의한 왜곡 크기를 이용하여 이상적인 타원상수를 계산하는 단계 및 상기 계산된 이상적인 타원상수를 이용하여 시료의 분광타원 데이터를 보정 및 적용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：WO2013036036A1
公开(公告)日：2013-03-14
申请号：PCT/KR2012/007140
申请日：2012-09-06
Applicant: (주)엘립소테크놀러지 , 김상열
Inventor： 김상열
CPC classification number: G01N21/474 , G01B11/0625 , G01N21/8422
Abstract: 본 발명은 텍스처가 형성된 시료의 막 두께 측정방법에 관한 것으로서, 텍스처가 형성되지 않은 평탄한 표면을 갖는 기본 시료의 기준 반사율을 측정하는 단계, 상기 기본 시료의 표면에 텍스처가 형성된 제 1 시료의 제 1 반사율을 측정하는 단계, 상기 기준 반사율과 제 1 반사율의 관계로부터 텍스처 구조 정보를 얻는 단계, 상기 제 1 시료의 표면에 박막이 형성된 제 2 시료의 제 2 반사율을 측정하는 단계, 상기 텍스처 구조 정보와 상기 제 2 반사율 정보로부터 상기 기본 시료의 표면에 박막이 형성된 제 3 시료의 제 3 반사율을 얻는 단계 및 상기 제 3 반사율로부터 상기 박막의 두께를 계산하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 텍스처 처리된 표면에 형성된 박막의 두께를 정확하게 측정할 수 있고, 보다 구체적으로 표면이 텍스처 처리된 태양전지의 경우 태양전지 표면의 반사 상태를 정확하게 확인할 수 있고, 그에 따라 공정을 제어할 수 있는 효과가 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于测量具有纹理表面的样品的膜厚度的方法，包括以下步骤：测量具有非纹理平坦表面的基础样品的参考反射率; 测量通过使基本样品的表面能够纹理获得的第一样品的第一反射率，以及从参考反射率和第一反射率之间的关系获得纹理结构信息; 测量通过在第一样品的表面上形成薄膜获得的第二样品的第二反射率; 使用所述纹理结构信息和所述第二反射率信息，获得在所述基本样品的表面上形成薄膜而形成的第三样品的第三反射率; 以及使用第三反射率计算薄膜的厚度。 根据本发明，可以精确地测量形成在纹理表面上的薄膜的厚度，更具体地说，如果太阳能电池具有纹理表面，则可以精确地检查太阳能电池的表面的反射状态，以及 因此可以控制过程。
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公开(公告)号：KR1020200129545A
公开(公告)日：2020-11-18
申请号：KR1020190054115
申请日：2019-05-09
Applicant: (주)엘립소테크놀러지
Abstract: 본발명은개구수가큰 광학소자들에의한편광상태의변화및 타원상수의왜곡을보정하여측정정확도를높일수 있는마이크로스폿분광타원법을제공함에있다. 이를위한, 고배율광학계를적용하는마이크로스폿분광타원계의왜곡보정방법은고배율광학계에의한왜곡크기를구하는단계, 상기고배율광학계에의한왜곡크기를이용하여이상적인타원상수를계산하는단계및 상기계산된이상적인타원상수를이용하여시료의분광타원데이터를보정및 적용하는단계를포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020110093253A
公开(公告)日：2011-08-18
申请号：KR1020100013175
申请日：2010-02-12
Applicant: (주)엘립소테크놀러지
Inventor： 김상열
IPC: G02F1/1337 , G02F1/13
CPC classification number: G01N21/21 , G02F1/133711
Abstract: PURPOSE: An alignment state measuring device of alignment layer and measuring method thereof are provided to exclude interference by a layer neighboring to an alignment layer. CONSTITUTION: An alignment state measuring device of the alignment layer includes as follows. A illuminating unit(10) illuminates light to a vertical direction. A polarizer(20) is located on a rear end of the illuminating unit and linearly polarizes the entered light from the illuminating unit. A beam splitter(30) reflects and transmits one part of the light emitted form the polarizer and is located on rear end of the polarizer. A compensator(40) is located on rear end of the beam splitter and circle-polarizes the transmitted light which passed through the beam splitter. A sample plate is formed on rear end of the compensator and has an alignment layer on a surface. An analyzer(60) penetrates the polarized light to a specific direction among linearly polarized light from the compensator at the alignment layer of the sample substrate and is located on a path of the light reflected from the beam splitter. An optical detector(70) detects the intensity of the light transmitted the analyzer. A control unit controls the rotation of the analyzer and the sample substrate by calculating alignment state information of the alignment layer form the intensity of the light detected from the optical detector.
Abstract translation: 目的：提供对准层的取向状态测量装置及其测量方法以排除与取向层相邻的层的干扰。 构成：对准层的取向状态测量装置包括如下。 照明单元（10）将光照射到垂直方向。 偏振器（20）位于照明单元的后端，并使来自照明单元的入射光线性偏振。 分束器（30）反射并透射从偏振器发射的光的一部分，并且位于偏振器的后端。 补偿器（40）位于分束器的后端，并且使穿过分束器的透射光圆偏振。 样品板形成在补偿器的后端，并且在表面上具有取向层。 分析器（60）在样品基板的取向层处的来自补偿器的线偏振光中沿着特定方向穿透偏振光，并且位于从分束器反射的光的路径上。 光学检测器（70）检测透射分析仪的光的强度。 控制单元通过计算取向层的取向状态信息来形成从光学检测器检测到的光的强度来控制分析器和样品基板的旋转。
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公开(公告)号：KR101922973B1
公开(公告)日：2018-11-28
申请号：KR1020170012035
申请日：2017-01-25
Applicant: (주)엘립소테크놀러지
Abstract: 본발명은 4개의반사경으로이루어지는집속광학계를편광제어모듈과시료사이및 시료와검광자모듈사이에배치하여광축의변화없이광학계의크기를증가시키지않고도시료에조사되는집속광을스폿형태로조사할수 있도록하는 4-반사경을적용한마이크로스폿분광타원계에관한것으로서, 광원에서발생된광을제어된편광상태로편광시키는편광제어모듈, 편광된광을시료에집속시키도록 4개의반사경으로구성되는제 1 집속광학계, 제 1 집속광학계로부터의집속광을입사받아광학적특성에따라편광상태를변화시키는시료, 제 1 집속광학계와대칭적으로위치하고, 시료의표면에서반사하여발산하는빛을평행광으로변환시키도록 4개의반사경으로구성되는제 2 집속광학계, 제 2 집속광학계를통해변환된광의편광상태를검지하는검광자모듈, 검지된광을파장별로분광시킨후, 분광된광의파장별광량을측정하기위한분광기로구성될수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100992839B1
公开(公告)日：2010-11-08
申请号：KR1020080092199
申请日：2008-09-19
Applicant: (주)엘립소테크놀러지
Abstract: 본 발명은 광원, 편광자, 집속광학계, 검광자 및 분광기를 포함하여 구성되는 분광타원계에 있어서, 상기 집속광학계는 반사면이 오목 거울 형태로서 중앙에 관통공이 형성되는 부경과 반사면이 볼록 거울 형태로서 상기 부경보다 작은 유효구경을 갖는 주경으로 구성되는 역 카세그레인(Inverse Cassegrain) 형 광학계가 사용되는 것을 특징으로 한다.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 자외선 영역에서부터 근 적외선 영역까지의 넓은 파장 대역에서 구동되며 시료위치에서 약 10 ㎛ 크기의 작은 빔 직경을 구현할 수 있고, 반사경을 이용하면서도 광축이 틀어지지 않아 편광상태가 변화되지 않아 측정 정밀도를 현저하게 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
분광타원계, 마이크로스폿, 분해능, 반사형, 거울, 미러, 집속광학계, 진공자외선.-
公开(公告)号：KR1020100033164A
公开(公告)日：2010-03-29
申请号：KR1020080092199
申请日：2008-09-19
Applicant: (주)엘립소테크놀러지
Abstract: PURPOSE: A spectroscopic ellipsometer with a microspot module is provided to apply the spectroscopic ellipsometer to a wide wavelength band from far-infrared rays to near-infrared rays. CONSTITUTION: A spectroscopic ellipsometer with a microspot module comprises a light source(100), a polarized light control module(200), and a light analyzer module(500). The light emitted from the light source is transferred through an optical fiber. The polarized light control module passes the light, emitted from the optical fiber, through a focusing lens. The light analyzer module changes the light to parallel rays, and measures light intensity. The light penetrated through the polarized light control module forms a microspot module.
Abstract translation: 目的：提供具有微点模组的光谱椭偏仪，以将分光椭偏仪应用于从远红外线到近红外线的宽波段。 构成：具有微型模块的分光椭偏仪包括光源（100），偏振光控制模块（200）和光分析器模块（500）。 从光源发射的光通过光纤传输。 偏振光控制模块将从光纤发射的光通过聚焦透镜。 光分析器模块将光线变为平行光线，并测量光强度。 穿过偏振光控制模块的光形成微点模组。
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公开(公告)号：KR100463084B1
公开(公告)日：2004-12-23
申请号：KR1020020024819
申请日：2002-05-06
Applicant: (주)엘립소테크놀러지
IPC: G02B23/24
Abstract: PURPOSE: An image optic system for monitoring inside of furnace is provided to reduce an installation cost by observing images of the inside of the furnace without additional devices. CONSTITUTION: An image optic system for monitoring inside of furnace includes a wide-angle lens group(1-3), a front lens group(4), an erect image lens(5), a rear lens group(6,7), and a screen(8). The wide-angle lens group(1-3) is used for processing the incident light from an opening portion of an incident portion. The wide-angle lens group(1-3) has a positive refractive index. The front lens group(4) is formed with an image transferring lens in order to transfer an image of the wide-angle lens group(1-3). The erect image lens(5) is used for converting the image of the front lens group to the erect image. The rear lens group(6,7) is formed with an image lens. The screen(8) is installed at the outside of the furnace.
Abstract translation: 目的：提供用于监测炉内的图像光学系统，通过观察炉内图像而不需要额外的装置来降低安装成本。 一种用于监测炉内的图像光学系统，包括广角透镜组（1-3），前透镜组（4），直立图像透镜（5），后透镜组（6,7）， 和屏幕（8）。 广角透镜组（1-3）用于处理来自入射部分的开口部分的入射光。 广角镜头组（1-3）具有正折射率。 前透镜组（4）形成有图像转移透镜以便转移广角透镜组（1-3）的图像。 正像透镜（5）用于将前透镜组的图像转换为直立图像。 后透镜组（6,7）形成有图像透镜。 筛网（8）安装在炉外。
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公开(公告)号：KR102229335B1
公开(公告)日：2021-03-18
申请号：KR1020190054115
申请日：2019-05-09
Applicant: (주)엘립소테크놀러지
Abstract: 본발명은개구수가큰 광학소자들에의한편광상태의변화및 타원상수의왜곡을보정하여측정정확도를높일수 있는마이크로스폿분광타원법을제공함에있다. 이를위한, 고배율광학계를적용하는마이크로스폿분광타원계의왜곡보정방법은고배율광학계에의한왜곡크기를구하는단계, 상기고배율광학계에의한왜곡크기를이용하여이상적인타원상수를계산하는단계및 상기계산된이상적인타원상수를이용하여시료의분광타원데이터를보정및 적용하는단계를포함하는것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR101479970B1
公开(公告)日：2015-01-08
申请号：KR1020120067165
申请日：2012-06-22
Applicant: (주)엘립소테크놀러지
IPC: G01N21/956 , G01B9/04
Abstract: 본 발명은 현미경을 이용한 터치스크린 패널의 ITO 패턴 검사방법에 관한 것으로서, 투광성 기판 상에 ITO 패턴이 형성된 시료를 준비하는 단계, 200 ~ 450 nm 대역의 광원을 상기 시료에 조사하는 단계, 상기 광원 파장대역의 촬상소자를 이용하여 상기 시료를 촬상하는 단계 및 상기 촬상소자의 출력 신호에 기초하여 상기 ITO 패턴 형상을 포함하는 영상 데이터를 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 현미경 영상에서 투명 유리기판과 투명 ITO 패턴 간의 콘트라스트 차이가 극대화됨에 따라 투명 ITO 패턴의 형상이 선명하게 표출되므로 투명 ITO 패턴의 정상 형성 여부를 보다 용이하게 알아낼 수 있고 그에 따라 전극패턴 검사시간을 현저하게 단축시킬 수 있는 효과가 있다.
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