公开(公告)号：CN103370437B

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201280000487.2

申请日：2012-02-16

Applicant: 新柯隆株式会社

Inventor： 菅原卓哉 ,  青岛光 ,  姜友松 ,  盐野一郎

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/10

CPC classification number: C23C14/0635 ,  C03C17/3441 ,  C03C2217/78 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/10 ,  C23C28/04 ,  C23C28/42 ,  Y10T428/24975

Abstract: 本发明提供一种透过率和膜强度高的透光性硬质薄膜。本发明的透光性硬质薄膜由形成于基板(S)表面的层叠膜(102)构成，层叠膜(102)具有将SiO2层(104)和SiC层(106)交替地层叠多个而成的超晶格结构，整体膜厚为3000nm以上。各层(104、106)的每一层的膜厚为，SiO2层：5～30nm，SiC层：SiO2层的30～60％。

公开(公告)号：CN103140598B

公开(公告)日：2014-03-26

申请号：CN201180019919.X

申请日：2011-09-30

Applicant: 新柯隆株式会社

Inventor： 盐野一郎 ,  宫内充祐 ,  姜友松

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/22

CPC classification number: B05D1/00 ,  C23C14/022 ,  C23C14/06 ,  C23C14/22 ,  C23C14/546

Abstract: 本发明提供一种成膜方法，该成膜方法能够有效地形成在实用中耐用的并且耐磨耗性能被进一步提高的疏油膜。在成膜装置(1)具有离子源(38)和蒸发源(34)，该成膜装置(1)以在真空容器(10)内能转动的方式配置基板座(12)，该基板座(12)具有用于保持多个基板(14)的基体保持面；所述离子源(38)，以能够仅向着所述基体保持面的一部分区域照射离子的结构、配置以及/或方向被设置在所述真空容器(10)内；蒸发源(34)，以能够向着所述基体保持面的全部区域提供疏油膜的成膜材料的配置以及方向被设置在所述真空容器(10)内，该成膜装置被构成为：在所述蒸发源(34)的动作开始前，使所述离子源(38)的动作停止。

公开(公告)号：CN103370437A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201280000487.2

申请日：2012-02-16

Applicant: 新柯隆株式会社

Inventor： 菅原卓哉 ,  青岛光 ,  姜友松 ,  盐野一郎

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/10

CPC classification number: C23C14/0635 ,  C03C17/3441 ,  C03C2217/78 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/10 ,  C23C28/04 ,  C23C28/42 ,  Y10T428/24975

Abstract: 本发明提供一种透过率和膜强度高的透光性硬质薄膜。本发明的透光性硬质薄膜由形成于基板(S)表面的层叠膜(102)构成，层叠膜(102)具有将SiO2层(104)和SiC层(106)交替地层叠多个而成的超晶格结构，整体膜厚为3000nm以上。各层(104、106)的每一层的膜厚为，SiO2层：5～30nm，SiC层：SiO2层的30～60％。

公开(公告)号：CN103140598A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：CN201180019919.X

申请日：2011-09-30

Applicant: 新柯隆株式会社

Inventor： 盐野一郎 ,  宫内充祐 ,  姜友松

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/22

CPC classification number: B05D1/00 ,  C23C14/022 ,  C23C14/06 ,  C23C14/22 ,  C23C14/546

Abstract: 本发明提供一种成膜方法，该成膜方法能够有效地形成在实用中耐用的并且耐磨耗性能被进一步提高的疏油膜。在成膜装置(1)具有离子源(38)和蒸发源(34)，该成膜装置(1)以在真空容器(10)内能转动的方式配置基板座(12)，该基板座(12)具有用于保持多个基板(14)的基体保持面；所述离子源(38)，以能够仅向着所述基体保持面的一部分区域照射离子的结构、配置以及/或方向被设置在所述真空容器(10)内；蒸发源(34)，以能够向着所述基体保持面的全部区域提供疏油膜的成膜材料的配置以及方向被设置在所述真空容器(10)内，该成膜装置被构成为：在所述蒸发源(34)的动作开始前，使所述离子源(38)的动作停止。

公开(公告)号：CN102725435A

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN201180004548.8

申请日：2011-08-30

Applicant: 新柯隆株式会社 ,  中国科学技术大学

Inventor： 孔为 ,  林子敬 ,  李明 ,  谢斌 ,  王海千 ,  姜友松 ,  长江亦周

IPC: C23C14/35 ,  C03C17/245 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/351 ,  C23C14/35 ,  H01F7/081 ,  H01J25/50 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3461

Abstract: 本发明提供一种提高靶材的利用率的磁场产生装置(10)。其配置于靶材(8)的背面并在靶材(8)的表面(8a)根据磁力线(11)产生磁场，其包括：将极轴保持在与靶材(8)的面平行的方向(X方向)上的外周磁体(144)；配置于外周磁体(144)内侧并将极轴保持在与外周磁体(144)的极轴的方向平行的方向(X方向)上的中心磁体(142)；从背面支承外周磁体(144)及中心磁体(142)的轭板(12)；改变靶材(8)的表面(8a)的磁场分布的导磁板(16)。导磁板(16)配置于外周磁体(144)及中心磁体(142)之间。另外导磁板(16)配置为由轭板(12)从背面支承。

公开(公告)号：CN101288928B

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：CN200810106217.5

申请日：2008-05-09

Applicant: 中国科学技术大学 ,  新柯隆株式会社

Inventor： 谢斌 ,  杨鹏飞 ,  王海千 ,  姜友松 ,  宋亦周

IPC: B23K35/30

CPC classification number: B23K35/22 ,  B23K35/00 ,  B23K35/28 ,  B23K35/286 ,  C22C1/0466 ,  C22C1/05

Abstract: 本发明涉及一种用于陶瓷/陶瓷或陶瓷/金属钎焊的陶瓷颗粒增强复合钎料。所述陶瓷颗粒增强复合钎料由90～99.8质量％的金属粉末A与0.2～10质量％的陶瓷颗粒B组成，金属粉末A由Ag粉和Cu粉混合而成，相对于金属粉末A，Ag粉摩尔比占80～99.5％，Cu粉摩尔比占0.5～20％。本发明的陶瓷颗粒增强复合钎料减少焊缝中气孔的产生，可以胜任工作温度在800℃左右的高温，并且增强焊缝在高温下氧化气氛和还原气氛中的寿命，从而得到具有高接头性能的焊接。

公开(公告)号：CN102725435B

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：CN201180004548.8

申请日：2011-08-30

Applicant: 新柯隆株式会社 ,  中国科学技术大学

Inventor： 孔为 ,  林子敬 ,  李明 ,  谢斌 ,  王海千 ,  姜友松 ,  长江亦周

IPC: C23C14/35 ,  C03C17/245 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/351 ,  C23C14/35 ,  H01F7/081 ,  H01J25/50 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3452 ,  H01J37/3461

Abstract: 本发明提供一种提高靶材的利用率的磁场产生装置(10)。其配置于靶材(8)的背面并在靶材(8)的表面(8a)根据磁力线(11)产生磁场，其包括：将极轴保持在与靶材(8)的面平行的方向(X方向)上的外周磁体(144)；配置于外周磁体(144)内侧并将极轴保持在与外周磁体(144)的极轴的方向平行的方向(X方向)上的中心磁体(142)；从背面支承外周磁体(144)及中心磁体(142)的轭板(12)；改变靶材(8)的表面(8a)的磁场分布的导磁板(16)。导磁板(16)配置于外周磁体(144)及中心磁体(142)之间。另外导磁板(16)配置为由轭板(12)从背面支承。

公开(公告)号：CN101570853B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN200910116727.5

申请日：2009-05-08

Applicant: 中国科学技术大学 ,  新柯隆株式会社

Inventor： 吴炳俊 ,  李明 ,  王海千 ,  谢斌 ,  姜友松 ,  宋亦周

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/08 ,  C23C14/14

Abstract: 本发明涉及利用磁控溅射制备形貌可控的锌和锌氧化物纳米材料的方法，其包括以下操作步骤：(1)、将清洁衬底固定于真空腔内位于靶材正前方的夹具筒的筒壁上或靶材侧的真空腔腔壁上，夹具筒筒壁与靶材表面的最小距离在2cm以上，靶材是平板状金属锌靶，夹具筒的直径大于靶材的宽度尺寸；(2)、将真空腔抽真空，然后通入工作气体，工作气体气压范围在0.02Pa～5Pa之间；(3)、在靶材表面施加300V～900V的频率低于100KHz的交流电压进行中低频磁控溅射；通过调节溅射功率以及氧分压控制薄膜的氧化程度获得形貌可控的锌及锌氧化物纳米结构薄膜；这些锌或锌氧化物薄膜在含氧气氛中退火氧化后可以可获得到纳米线状薄膜、纳米棒状薄膜和纳米颗粒状薄膜。

公开(公告)号：CN102124136A

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200980100663.8

申请日：2009-08-24

Applicant: 新柯隆株式会社

Inventor： 盐野一郎 ,  长江亦周 ,  姜友松 ,  菅原卓哉

IPC: C23C14/02 ,  C03C17/42

CPC classification number: C23C14/022 ,  C03C17/42 ,  C03C19/00 ,  C03C2217/77 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/505 ,  C23C14/568 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32513 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/34

Abstract: 本发明的成膜方法具有：对基板(101)的表面照射具有能量的粒子的第一照射工序；使用干式法在所述第一照射工序后的基板(101)的表面成膜第一膜(103)的第一成膜工序；在第一膜(103)的表面成膜具有防油性的第二膜(105)的第二成膜工序。根据该发明，能够提供可以制造具有防油性膜的防油性基材的成膜方法，其中的防油性膜具备能够耐用的耐磨损性。

公开(公告)号：CN102084025A

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：CN200980100652.X

申请日：2009-08-24

Applicant: 新柯隆株式会社

Inventor： 盐野一郎 ,  长江亦周 ,  姜友松 ,  菅原卓哉

IPC: C23C14/58 ,  C03C17/42 ,  C23C14/02

CPC classification number: C23C16/56 ,  C03C17/42 ,  C03C2217/76 ,  C03C2217/77 ,  C03C2218/32 ,  C09D1/00 ,  C09D5/00 ,  C23C14/0652 ,  C23C14/08 ,  C23C14/12 ,  C23C14/22 ,  C23C14/221 ,  C23C14/24 ,  C23C14/541 ,  C23C14/5833 ,  Y10T428/265

Abstract: 本发明提供一种成膜方法，该成膜方法具有：在基板(101)的表面成膜硬度比基板(101)的硬度高的第一膜(103)的第一成膜工序；对第一膜(103)照射具有能量的粒子的第一照射工序；在第一照射工序后的第一膜(103)的表面成膜防油性膜(105)的第二成膜工序。根据该发明提供的成膜方法，能够制造具有防油性膜的防油性基材，该防油性膜具备能够耐用的耐磨损性。