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公开(公告)号：CN103370437B
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201280000487.2
申请日：2012-02-16
Applicant: 新柯隆株式会社
CPC classification number: C23C14/0635 , C03C17/3441 , C03C2217/78 , C23C14/0078 , C23C14/10 , C23C28/04 , C23C28/42 , Y10T428/24975
Abstract: 本发明提供一种透过率和膜强度高的透光性硬质薄膜。本发明的透光性硬质薄膜由形成于基板(S)表面的层叠膜(102)构成，层叠膜(102)具有将SiO2层(104)和SiC层(106)交替地层叠多个而成的超晶格结构，整体膜厚为3000nm以上。各层(104、106)的每一层的膜厚为，SiO2层：5～30nm，SiC层：SiO2层的30～60％。
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公开(公告)号：CN103370437A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201280000487.2
申请日：2012-02-16
Applicant: 新柯隆株式会社
CPC classification number: C23C14/0635 , C03C17/3441 , C03C2217/78 , C23C14/0078 , C23C14/10 , C23C28/04 , C23C28/42 , Y10T428/24975
Abstract: 本发明提供一种透过率和膜强度高的透光性硬质薄膜。本发明的透光性硬质薄膜由形成于基板(S)表面的层叠膜(102)构成，层叠膜(102)具有将SiO2层(104)和SiC层(106)交替地层叠多个而成的超晶格结构，整体膜厚为3000nm以上。各层(104、106)的每一层的膜厚为，SiO2层：5～30nm，SiC层：SiO2层的30～60％。
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公开(公告)号：CN102124136A
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200980100663.8
申请日：2009-08-24
Applicant: 新柯隆株式会社
CPC classification number: C23C14/022 , C03C17/42 , C03C19/00 , C03C2217/77 , C23C14/0078 , C23C14/3464 , C23C14/505 , C23C14/568 , H01J37/321 , H01J37/32422 , H01J37/32513 , H01J37/32633 , H01J37/32761 , H01J37/34
Abstract: 本发明的成膜方法具有：对基板(101)的表面照射具有能量的粒子的第一照射工序；使用干式法在所述第一照射工序后的基板(101)的表面成膜第一膜(103)的第一成膜工序；在第一膜(103)的表面成膜具有防油性的第二膜(105)的第二成膜工序。根据该发明，能够提供可以制造具有防油性膜的防油性基材的成膜方法，其中的防油性膜具备能够耐用的耐磨损性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102084025A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200980100652.X
申请日：2009-08-24
Applicant: 新柯隆株式会社
CPC classification number: C23C16/56 , C03C17/42 , C03C2217/76 , C03C2217/77 , C03C2218/32 , C09D1/00 , C09D5/00 , C23C14/0652 , C23C14/08 , C23C14/12 , C23C14/22 , C23C14/221 , C23C14/24 , C23C14/541 , C23C14/5833 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种成膜方法，该成膜方法具有：在基板(101)的表面成膜硬度比基板(101)的硬度高的第一膜(103)的第一成膜工序；对第一膜(103)照射具有能量的粒子的第一照射工序；在第一照射工序后的第一膜(103)的表面成膜防油性膜(105)的第二成膜工序。根据该发明提供的成膜方法，能够制造具有防油性膜的防油性基材，该防油性膜具备能够耐用的耐磨损性。
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公开(公告)号：CN102084025B
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN200980100652.X
申请日：2009-08-24
Applicant: 新柯隆株式会社
CPC classification number: C23C16/56 , C03C17/42 , C03C2217/76 , C03C2217/77 , C03C2218/32 , C09D1/00 , C09D5/00 , C23C14/0652 , C23C14/08 , C23C14/12 , C23C14/22 , C23C14/221 , C23C14/24 , C23C14/541 , C23C14/5833 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种成膜方法，该成膜方法具有：在基板(101)的表面成膜硬度比基板(101)的硬度高的第一膜(103)的第一成膜工序；对第一膜(103)照射具有能量的粒子的第一照射工序；在第一照射工序后的第一膜(103)的表面成膜防油性膜(105)的第二成膜工序。根据该发明提供的成膜方法，能够制造具有防油性膜的防油性基材，该防油性膜具备能够耐用的耐磨损性。
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公开(公告)号：CN102124136B
公开(公告)日：2013-05-29
申请号：CN200980100663.8
申请日：2009-08-24
Applicant: 新柯隆株式会社
CPC classification number: C23C14/022 , C03C17/42 , C03C19/00 , C03C2217/77 , C23C14/0078 , C23C14/3464 , C23C14/505 , C23C14/568 , H01J37/321 , H01J37/32422 , H01J37/32513 , H01J37/32633 , H01J37/32761 , H01J37/34
Abstract: 本发明的成膜方法具有：对基板(101)的表面照射具有能量的粒子的第一照射工序；使用干式法在所述第一照射工序后的基板(101)的表面成膜第一膜(103)的第一成膜工序；在第一膜(103)的表面成膜具有防油性的第二膜(105)的第二成膜工序。根据该发明，能够提供可以制造具有防油性膜的防油性基材的成膜方法，其中的防油性膜具备能够耐用的耐磨损性。
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公开(公告)号：CN103038387A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201180019967.9
申请日：2011-08-02
Applicant: 新柯隆株式会社
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/0078 , C23C14/0635 , C23C14/3464 , C23C14/5826 , G02B1/10
Abstract: 本发明提供一种成膜方法，该成膜方法能够以短时间、且安全地提供透过率和膜强度高、可用于光学用途的碳化硅薄膜，并且即使对于耐热性低的基板也能够有效地形成该薄膜。本发明的方法使用成膜装置(1)在移动中的基板(S)上形成碳化硅的薄膜，该成膜装置(1)构成为在真空容器(11)内将反应工序区域(60)和成膜工序区域(20、40)各自在空间上分离配置，并能够独立地控制各区域(20、40、60)的处理。首先，在惰性气体的气体氛围下，在区域(20)对硅靶材(29a、29b)进行溅射，并且在区域40对碳靶材(49a、49b)进行溅射。由此，在基板(S)上形成含有硅和碳的中间薄膜。接着，在区域(60)使中间薄膜暴露在惰性气体和氢的混合气体的气体氛围下产生的等离子中，使该中间薄膜变换为超薄膜。此后，对超薄膜反复进行中间薄膜的形成和向超薄膜的膜变换。
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公开(公告)号：CN103038387B
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：CN201180019967.9
申请日：2011-08-02
Applicant: 新柯隆株式会社
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/0078 , C23C14/0635 , C23C14/3464 , C23C14/5826 , G02B1/10
Abstract: 本发明提供一种成膜方法，该成膜方法能够以短时间、且安全地提供透过率和膜强度高、可用于光学用途的碳化硅薄膜，并且即使对于耐热性低的基板也能够有效地形成该薄膜。本发明的方法使用成膜装置(1)在移动中的基板(S)上形成碳化硅的薄膜，该成膜装置(1)构成为在真空容器(11)内将反应工序区域(60)和成膜工序区域(20、40)各自在空间上分离配置，并能够独立地控制各区域(20、40、60)的处理。首先，在惰性气体的气体氛围下，在区域(20)对硅靶材(29a、29b)进行溅射，并且在区域40对碳靶材(49a、49b)进行溅射。由此，在基板(S)上形成含有硅和碳的中间薄膜。接着，在区域(60)使中间薄膜暴露在惰性气体和氢的混合气体的气体氛围下产生的等离子中，使该中间薄膜变换为超薄膜。此后，对超薄膜反复进行中间薄膜的形成和向超薄膜的膜变换。
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