蒸镀源和蒸镀装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116240500A

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN202211278909.4

    申请日:2022-10-19

    Abstract: 本发明提供蒸镀源和具备这种蒸镀源的蒸镀装置,可以抑制蒸镀材料向坩埚的开口部及其周边析出,从而使蒸镀材料稳定扩散。所述蒸镀源是感应加热方式的蒸镀源,其包括:具有开口部的坩埚;以及电线螺旋状缠绕形成的以覆盖上述坩埚的周围的方式配置的线圈,在上述线圈中,覆盖上述坩埚的开口部侧部分的周围的上述电线的间隔,小于覆盖上述坩埚的其他部分的周围的上述电线的间隔。

    蒸镀装置、蒸镀方法和控制板

    公开(公告)号:CN110004413A

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201811451481.2

    申请日:2018-11-30

    Abstract: 本发明提供蒸镀装置、蒸镀方法和控制板。所述蒸镀装置设计成能形成膜厚均匀性高且阴影少的蒸镀膜、对大型基板也能够进行良好的蒸镀。所述蒸镀方法使用所述蒸镀装置,所述控制板能进行所述的蒸镀。本发明的蒸镀装置包括蒸镀源,所述蒸镀源具有配置成直线状并喷射蒸镀材料的多个喷射喷嘴,上述多个喷射喷嘴包括:一对内侧喷射喷嘴,具有朝相对的方向倾斜的开口面;以及一对外侧喷射喷嘴,分别配置在上述一对内侧喷射喷嘴的外侧,具有朝向外侧倾斜的开口面,上述蒸镀源还具有控制板,上述控制板配置在上述一对内侧喷射喷嘴之间,控制喷射的蒸镀材料的分布。

    蒸镀装置和蒸镀方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109989000A

    公开(公告)日:2019-07-09

    申请号:CN201811453479.9

    申请日:2018-11-30

    Abstract: 本发明提供设计成能形成膜厚均匀性高且阴影少的蒸镀膜的蒸镀装置和使用该蒸镀装置的蒸镀方法。本发明的蒸镀装置包括:蒸镀源,具有配置成直线状并喷射蒸镀材料的多个喷射喷嘴;以及基板固定部,将基板固定成与上述多个喷射喷嘴平行,上述多个喷射喷嘴包括中央喷射喷嘴和一对外侧喷射喷嘴,该蒸镀装置满足以下的公式(1)和公式(2)。在公式(1)和公式(2)中,L1是多个喷射喷嘴与基板的距离(mm)。L2是上述中央喷射喷嘴与上述外侧喷射喷嘴的距离(mm)。θ是基板的表面与外侧喷射喷嘴的开口面所成的角的角度(°)。L1/2L2≤tanθ≤L1/L2···(1);60°≤θ≤70°···(2)。

    光发电装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105103307B

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201480017109.4

    申请日:2014-03-14

    Inventor: 小林英治

    Abstract: 本发明的目的是提供填充因子高的光发电装置。光发电装置(10)包括:多层状的光伏元件(11);以及层叠在光伏元件(11)的一个面上的第一集电构件(12)和层叠在另一个面上的第二集电构件(13),光伏元件(11)包括:n型晶体半导体基板(14);依次层叠在n型晶体半导体基板(14)的第一集电构件(12)侧的第一本征非晶系硅薄膜(15)、p型非晶系硅薄膜(16)和第一透明导电膜(17);依次层叠在n型晶体半导体基板(14)的第二集电构件(13)侧的n型非晶系硅薄膜(19)和第二透明导电膜(20),p型非晶系硅薄膜(16)的膜厚小于6nm,第一透明导电膜(17)表面中的第一集电构件(12)的非层叠区域(25)的最大宽度小于2mm。

    原料硅破碎装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104114490A

    公开(公告)日:2014-10-22

    申请号:CN201180073757.8

    申请日:2011-09-29

    CPC classification number: B02C23/00 B02C1/04 B02C1/10 C01B33/02

    Abstract: 本发明提供一种原料硅破碎装置(10),其不会使纯度下降,能够机械性地破碎原料硅,能够抑制微粉化损失。通过由第一壳体(22)、一部分从第一壳体(22)的开口向外方突出了的第一破碎用硅(20)、被夹装在了第一破碎用硅(20)及第一壳体(22)之间的第一防污构件(24)构成第一床身(12),由第二壳体(42)、一部分从第二壳体(42)的开口向外方突出了的第二破碎用硅(41)、对由一对破碎面(16、18)夹着的空间A的两侧面进行覆盖的一对侧硅(44)、被夹装在了第二破碎用硅(41)与第二壳体(42)之间的第二防污构件(48)、和被夹装在了侧硅(44)与侧硅壳体(45)之间的第三防污构件(49)构成第二床身(14),能够解决上述课题。

    掩模夹具的移动机构以及成膜装置

    公开(公告)号:CN101090993B

    公开(公告)日:2010-12-01

    申请号:CN200680001554.7

    申请日:2006-02-22

    CPC classification number: C23C14/042

    Abstract: 一种第一掩模夹具(20)的移动机构,是用于制造有机EL元件的成膜装置中的第一掩模夹具(20)的移动机构,包括:夹头(16),其与有机材料(12)的蒸发源(14)相对配置,使基板与掩模(34)重合;第一掩模夹具(20),其将前端(20a)形成钩形,以所述前端部(20a)保持重合在夹头(16)上的掩模(34);以及伸缩机构(22),其使所述基板夹具(18)移动,其中,所述伸缩机构(22),其第一伸缩机构(24)配置在装置本体(11)上,并且使进行伸缩动作的第一杆与板部件(23)连接,其第二伸缩机构(26)配置在所述板部件(23)上,并且使进行伸缩动作的第二杆与所述基板夹具(18)的基端部连接或接触。

    载冷剂供给装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1261727C

    公开(公告)日:2006-06-28

    申请号:CN02155778.0

    申请日:2002-12-04

    CPC classification number: G05D23/1393

    Abstract: 一种载冷剂供给装置,将纯水等的载冷剂调整成适合于所述负荷的目标温度于循环地供给至少一个负荷,具有:设在流动有从所述负荷侧返回的载冷剂载冷剂冷却流路中的、利用工业用水冷却所述载冷剂用的热交换器;对所述载冷剂加热用的加热器;设在所述冷却流路与所述加热流路的连接部上的混合部;设在所述混合部的出口侧的混合部出口侧温度传感器;根据来自所述混合部出口侧温度传感器的输出来调整冷却后的载冷剂与加热后的载冷剂的混合比的混合调整装置;作为设在所述混合部与所述负荷之间的储罐、即构成使所述载冷剂以缓慢低速度地通过其中的、具有约10升以上容积的储罐,因此,可降低装置的运转成本且使装置小型化,并可稳定控制载冷剂的温度。

    蒸镀装置以及蒸镀方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111206226B

    公开(公告)日:2023-09-08

    申请号:CN201911141003.6

    申请日:2019-11-20

    Abstract: 本发明提供蒸镀装置以及蒸镀方法,设计成形成膜厚均匀性高且阴影少的蒸镀膜,能够对大型的基板进行良好的蒸镀。本发明的蒸镀装置包括:具有多个喷射喷嘴的蒸镀源,所述多个喷射喷嘴以直线状且等间隔地配置,从喷射口喷射蒸镀材料;基板保持部,与所述多个喷射喷嘴的列平行地保持基板;以及控制板,相对于所述基板垂直地配置,对所述蒸镀材料的蒸镀区域进行控制,所述基板能够一边维持所述基板的平行状态一边相对于所述多个喷射喷嘴的列沿着垂直方向相对移动,在将相邻的所述喷射喷嘴的喷射口间的距离设为P的情况下,从所述移动方向观察时的从各喷射喷嘴相对于所述基板的蒸镀量的分布曲线实质上是底边的长度为2P的相同的等腰三角形。

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