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公开(公告)号：WO2012134175A2
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/KR2012/002285
申请日：2012-03-28
CPC classification number: H05K1/0274 , G02F1/13338 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112
Abstract: 본 발명은 전도성 기판 및 이를 포함하는 터치스크린에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 전도성 기판은 기재, 및 상기 기재 상의 적어도 일면에 구비된 전기 전도성 패턴을 포함하고, 상기 전기 전도성 패턴은 연속하여 연결된 폐쇄도형들의 테두리 구조를 포함하며, 상기 전기 전도성 패턴은 임의의 단위면적 (1cm X 1cm) 내에서 동일한 형태의 폐쇄도형이 존재하지 않고, 상기 폐쇄도형들의 꼭지점 개수는, 상기 폐쇄도형들과 동일한 개수의 사각형들의 꼭지점 개수와 상이한 것을 특징으로 한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种导电基板和具有该导电基板的触摸屏，本发明的导电基板包括设置在基板的至少一个表面上的导电图案，其中导电图案包括封闭的轮廓结构 连续连接的图形，并且导电图案在随机单位区域（1cm×1cm）中不具有相同形式的封闭图形，并且闭合图形的顶点数量不同于顶点数量 矩形，其数量与封闭图形相同。
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公开(公告)号：WO2012134174A3
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/KR2012/002284
申请日：2012-03-28
Abstract: 본 발명은 a) 기재， b) 상기 기재의 적어도 일 면에 구비된 전도성 패턴， 및 c) 상기 전도성 패턴의 상부면 및 하부면에 구비되고， 상기 전도성 패턴의 측면의 적어도 일부에 구비되며， 상기 전도성 패턴에 대응되는 영역에 구비된 암색화 패턴 을 포함하는 전도성 구조체， 이를 포함하는 터치패널 및 이의 제조방법에 관한 것이 다.
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公开(公告)号：WO2012138139A2
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：PCT/KR2012/002563
申请日：2012-04-05
CPC classification number: C09D161/06 , B41M1/10 , C09D7/20 , C09D11/033 , H05K3/0076 , H05K3/0079 , H05K3/061
Abstract: 본 출원은 실리콘계 블랭킷을 이용하는 인쇄 방법에 사용되기 위한 조성물로서, 1) 바인더 수지, 2) 끓는 점이 100℃ 이하의 저비점 용매, 및 3) 끓는 점이 180℃ 이상의 고비점 용매를 포함하고, 상기 고비점 용매가 상기 바인더 수지와의 용해도 파라미터 차이가 3 (cal.cm) 1/2 이하이고, 상기 실리콘계 블랭킷과의 용해도 파라미터의 차이가 4 (cal.cm) 1/2 이상이며, 상기 실리콘계 블랭킷에 대한 스웰링 파라미터가 2 이하인 것을 특징으로 하는 인쇄 조성물 및 이를 이용한 인쇄 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本申请涉及一种用于使用硅橡皮布的印刷方法的印刷组合物及其印刷方法，所述印刷组合物包括：1）树脂粘合剂，2）沸点为100℃的低沸点溶剂 或更低，以及3）沸点为180℃以上的高沸点溶剂，其中高沸点溶剂和树脂粘合剂之间的溶解度参数的差为3（cal / cm）1/2以下 并且溶剂与硅橡皮布之间的溶解度参数的差为4（cal / cc）1/2以上，溶剂相对于硅橡皮布的溶胀参数为2以下。
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公开(公告)号：WO2012138138A2
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：PCT/KR2012/002561
申请日：2012-04-05
CPC classification number: C09D11/102 , B41M1/06 , B41M3/00 , C09D7/20 , C09D11/033 , C09D11/103 , H05K3/0076 , H05K3/0079 , H05K3/061
Abstract: 본 발명은 실리콘계 블랭킷을 이용하는 인쇄 조성물로서, 1) 바인더 수지, 2) 끓는 점이 100℃ 미만의 저비점 용매, 3) 끓는 점이 100℃ 이상 180℃ 미만의 중비점 용매, 및 4) 끓는 점이 180℃ 이상의 고비점 용매를 포함하고, 상기 저비점 용매 및 상기 고비점 용매가 상기 바인더 수지와의 용해도 파라미터 차이가 3 (cal.cm) 1/2 이하이고, 상기 실리콘계 블랭킷과의 용해도 파라미터의 차이가 4 (cal.cm) 1/2 이상이며, 상기 실리콘계 블랭킷에 대한 스웰링 파라미터가 2 이하인 것을 특징으로 하는 인쇄 조성물 및 이를 이용한 인쇄 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用硅橡皮布的印刷组合物及其印刷方法，该印刷组合物包括：1）树脂粘合剂，2）沸点低于100℃的低沸点溶剂，3） 沸点为100℃〜180℃的沸点溶剂，以及4）沸点为180℃以上的高沸点溶剂，其中低沸点溶剂和高沸点溶剂之间的溶解度参数的差异 树脂粘合剂低于3（cal / cm）1/2以下时，溶剂与硅橡皮布之间的溶解度参数的差为4（cal / cm）1/2以上，溶剂的溶胀参数为 相对于硅橡皮布为2以下。
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公开(公告)号：WO2012121519A2
公开(公告)日：2012-09-13
申请号：PCT/KR2012/001586
申请日：2012-03-02
IPC: H01B1/02 , H01B5/14 , H01B13/00 , G06F3/041 , H01L31/042
CPC classification number: H05K1/0274 , G06F3/041 , G06F3/044 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , H01B1/08 , H01L31/02366 , H01L31/05 , H01L31/18 , H02S40/38 , H03K17/962 , H05K1/0298 , H05K1/0353 , H05K1/09 , H05K3/10 , H05K3/16 , H05K3/4644 , H05K7/02 , H05K2201/0317 , Y10T29/49155 , Y10T428/24802
Abstract: 본 발명의 일 실시상태는 암색화 패턴층을 포함하는 전도성 구조체로서, 상기 암색화 패턴층은 AlOxNy를 포함하는 전도성 구조체 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시상태에 따른 전도성 구조체는 전도성 패턴층의 전도도에 영향을 미치지 않으면서도 전도성 패턴층에 의한 반사를 방지할 수 있고, 흡광도를 향상함으로써 전도성 패턴층의 은폐성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시상태의 전도성 구조체를 이용하여 시인성이 개선된 디스플레이 패널을 개발할 수 있다.
Abstract translation: 本发明的一个实施例涉及包括无光泽图案化层的导电结构，其中无光泽图案化层包含AlO x N y及其制造方法。 根据本发明的一个实施例的导电结构可以在不影响导电图案层的导电性的情况下防止导电图案层的反射，并且可以通过改善吸收率来改善导电图案层的隐藏特性。 因此，可以使用本发明的一个实施例的导电结构来开发具有改善的可视性的显示面板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：WO2012121518A2
公开(公告)日：2012-09-13
申请号：PCT/KR2012/001585
申请日：2012-03-02
CPC classification number: H05K1/0274 , G06F3/041 , G06F3/044 , G06F3/045 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , H01B1/08 , H01L31/02366 , H01L31/05 , H01L31/18 , H02S40/38 , H03K17/962 , H05K1/0298 , H05K1/0353 , H05K1/09 , H05K3/10 , H05K3/16 , H05K3/4644 , H05K7/02 , H05K2201/0317 , Y10T29/49155 , Y10T428/24802
Abstract: 본 발명의 일 실시상태는 암색화 패턴층을 포함하는 전도성 구조체로서， 상기 암색화 패턴층은 MOxNy를 포함하는 전도성 구조체 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시상태에 따른 전도성 구조체는 전도성 패턴층의 전도도에 영향을 미치지 않으면서도 전도성 패턴층에 의한 반사를 방지할 수 있고， 흡광도를 향상함으로써 전도성 패턴층의 은폐성을 향상시킬 수 있다. 따라서， 본 발명의 일 실시상태의 전도성 구조체를 이용하여 시인성이 개선된 디스플레이 패널을 개발할 수 있다.
Abstract translation:
作为导电结构，其包括示例性实施例将变暗，本发明的图案层，该图案层变暗涉及一种导电结构和包含该MOxNy的方法。 根据本发明，能够防止由偶数导电图案层的反射而不会影响导电图案层的导电性的示例性实施例的导电结构，有可能通过提高吸收以提高导电图案层的隐藏性能。 因此，可以使用本发明的一个实施例的导电结构来开发具有改善的可视性的显示面板。
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公开(公告)号：WO2010090487A3
公开(公告)日：2010-08-12
申请号：PCT/KR2010/000762
申请日：2010-02-08
IPC: H01L21/027 , G06F3/041 , G02B5/28
Abstract: 본 발명은 a) 기판상에 도전성 막을 형성하는 단계; b) 상기 도전성 막 상에 에칭 레지스트 패턴을 형성(forming)하는 단계; 및 c) 상기 에칭 레지스트 패턴을 이용하여 상기 도전성 막을 오버 에칭(over-etching)함으로써 상기 에칭 레지스트 패턴의 폭보다 작은 선폭을 갖는 도전성 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 터치스크린의 제조방법, 이에 의하여 제조된 터치스크린을 제공한다. 본 발명에 따르면, 초미세 선폭을 갖는 도전성 패턴을 포함하는 터치스크린을 효율적이고 경제적으로 제공할 수 있다.
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公开(公告)号：WO2012134173A2
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/KR2012/002283
申请日：2012-03-28
CPC classification number: H05K1/0274 , G02F1/13338 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112
Abstract: 본 발명은 전도성 기판 및 이를 포함하는 터치스크린에 관한 것으로서， 본 발명에 따른 전도성 기판은 기재， 상기 기재 상의 적어도 일면에 구비된 전기 전도 성 패턴， 및 상기 전기 전도성 패턴의 적어도 일면에 구비되고 상기 전기 전도성 패턴에 대웅되는 영역에 구비된 암색화층을 포함하고， 상기 암색화층이 가시되는 일면에 점광원으로부터 나온 빛을 조사하여 얻은 반사형 회절 이미지의 반사형 회 절 강도가， 상기 전기 전도성 패턴이 A1로 이루어지고 암색화층을 포함하지 않는 것을 제외하고 동일한 구성을 갖는 전도성 기판에 비하여 60% 이상 감소된 것을 특징으로 한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种导电基板及具有该导电基板的触摸屏，本发明的导电基板包括：设置在基板的至少一个表面上的导电图案; 以及设置在所述导电图案的至少一个表面上，并且在与所述导电图案对应的区域中设置的变暗层，以及通过将来自点光源的光照射到 与具有相同结构的导电基板相比，其上形成有黑化层的一个表面比除了导电图案由A1构成并且不包括变暗层的导电基板还原60％以上。
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9.发明申请오프셋 인쇄용 블랭킷 및 이의 제조방법 审中-公开用于偏移打印及其制造方法的空白纸（BLANKET FOR OFFSET PRINTING AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR）
公开(公告)号：WO2011115452A2
公开(公告)日：2011-09-22
申请号：PCT/KR2011/001891
申请日：2011-03-18
CPC classification number: B41N10/04 , B41N2207/02 , B41N2207/14 , B41N2210/02 , B41N2210/04 , B41N2210/14
Abstract: 본 발명은 오프셋 인쇄용 블랭킷 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 오프셋 인쇄용 블랭킷은 쿠션층, 지지층 및 적어도 2층의 표면 인쇄층을 포함하고, 상기 적어도 2층의 표면 인쇄층은 경도 값, 불소기 함량 값 값 및 실리콘 오일 함량 값 중 적어도 하나의 값이 상이한 값을 가지는 실리콘계 수지를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 오프셋 인쇄용 블랭킷은 2 이상의 층으로 형성된 표면 인쇄층을 포함함으로써 표면 인쇄층이 잉크에 의해 잘 팽윤되지 않으므로, 공정 대기시간을 감소시키고, 공정마진을 향상시키는 효과가 있다.
Abstract translation: 本发明涉及胶版印刷用橡皮布及其制造方法。 根据本发明的胶版印刷用橡皮布包括缓冲层，支撑层和至少两个表面印刷层，其中所述至少两个表面印刷层包括硅基树脂，其至少相对于至少相互不同的值 硬度值中的一个值，氟含量的值和硅油含量的值。 由于根据本发明的胶印用橡皮布包括以两层或更多层形成的表面印刷层，所以表面印刷层不容易被油墨溶胀，从而减少了处理等待时间，并提高了处理余量。
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公开(公告)号：WO2010090488A2
公开(公告)日：2010-08-12
申请号：PCT/KR2010/000763
申请日：2010-02-08
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H05K3/061 , H01L31/022425 , H05K3/0079 , H05K2203/0143 , H05K2203/1184 , Y02E10/50
Abstract: 본 발명은 a) 기판상에 도전성 막을 형성하는 단계; b) 상기 도전성 막 상에 에칭 레지스트 패턴을 형성하는 단계; 및 c) 상기 에칭 레지스트 패턴을 이용하여 상기 도전성 막을 오버 에칭(over-etching)함으로써 상기 에칭 레지스트 패턴의 폭보다 작은 선폭을 갖는 도전성 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 도전성 패턴의 제조방법, 이에 의하여 제조된 도전성 패턴을 제공한다. 본 발명에 따르면, 초미세 선폭을 갖는 도전성 패턴을 효율적이고 경제적으로 제공할 수 있다.
Abstract translation: ＆lt; p num =“0000”＆gt;本发明提供了一种制造半导体器件的方法，包括：a）在衬底上形成导电膜; b）在导电膜上形成抗蚀图案; 以及c）通过使用所述防蚀图案对所述导电膜进行过蚀刻，形成线宽小于所述防蚀图案的宽度的导电图案， 由此提供导电图案。 根据本发明，可以有效和经济地提供具有超细线宽的导电图案。
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