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公开(公告)号：KR1020160138124A
公开(公告)日：2016-12-02
申请号：KR1020167028627
申请日：2015-02-06
Applicant: 마이크로-엡실론 옵트로닉 게엠바하
Inventor： 오토,토비아스
CPC classification number: G01J3/14 , G01J3/0208 , G01J3/0256 , G01J3/18 , G01J3/22 , G01J3/2803 , G01J2003/1208
Abstract: 적어도하나의격자(1) 및적어도하나의프리즘(2)의조합을포함하는분광기로서, 소형의분광기를이루기위해, 적어도하나의프리즘(2)에서전반사가이용된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种包括至少一个格栅（1）和至少一个棱镜（2）的组合的光谱仪，其特征在于，全反射用于在至少一个棱镜（2）中产生紧凑的光谱仪。
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公开(公告)号：KR1020130054428A
公开(公告)日：2013-05-24
申请号：KR1020137009187
申请日：2011-09-07
Applicant: 마이크로-엡실론 옵트로닉 게엠바하
Inventor： 스타우트메이스터,토르스텐
CPC classification number: G01C3/08 , G01B11/25 , G01S7/4814 , G01S17/08
Abstract: 어떠한 종류의 측정 상황에서도 측정 가능한, 최고로 신뢰성있는 거리 측정을 고려하여 설계되고 개발된, 센서 장치(조사광 빔을 발생하는 광원과 피측정물의 표면에서 반사된 조사광 빔의 일부를 검출하는 검출기를 포함함)와 피측정물(적어도 가시광 파장 범위에 대해서 투명하게 설계됨) 사이의 거리를 결정하기 위한 측정 시스템으로서, 본 측정 시스템에서, 조사광 빔은 자색 또는 자외선 영역의 파장을 가지며, 피측정물은 조사광 빔이 피측정물의 표면에서 확산 반사되도록 설계된다. 아울러, 본 측정 시스템은 본질적으로 불투광성인 피측정물을 측정하는 데에 특정되어 있다.
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公开(公告)号：KR101504582B1
公开(公告)日：2015-03-20
申请号：KR1020127016281
申请日：2010-10-12
Applicant: 마이크로-엡실론 옵트로닉 게엠바하
IPC: G01P3/36
Abstract: 본 발명은 적어도 하나의 센서(4, 5; 41
Ⅰ 내지 41
Ⅳ ; 51)와 공간 필터를 구비하며, 전자기 복사선, 특히 측정 대상(13)으로부터 방출되거나 반사되는 광이 공간 필터에 의하여 상기 센서(4, 5; 41
Ⅰ 내지 41
Ⅳ ; 51, 52) 상으로 이미징되는 공간 필터 측정 장치(1) 및 공간 필터 측정 디바이스(2)에 관한 것이다. 본 발명은 공간 필터 측정을 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 공간 필터 측정 디바이스는 공간 필터가 각 각도 위치에 대하여 이동할 수 있는 미러 요소(21-21"')를 구비하는 마이크로 미러 어레이로 설계되게 구성된다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101501536B1
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：KR1020137009187
申请日：2011-09-07
Applicant: 마이크로-엡실론 옵트로닉 게엠바하
Inventor： 스타우트메이스터,토르스텐
CPC classification number: G01C3/08 , G01B11/25 , G01S7/4814 , G01S17/08
Abstract: 어떠한 종류의 측정 상황에서도 측정 가능한, 최고로 신뢰성있는 거리 측정을 고려하여 설계되고 개발된, 센서 장치(조사광 빔을 발생하는 광원과 피측정물의 표면에서 반사된 조사광 빔의 일부를 검출하는 검출기를 포함함)와 피측정물(적어도 가시광 파장 범위에 대해서 투명하게 설계됨) 사이의 거리를 결정하기 위한 측정 시스템으로서, 본 측정 시스템에서, 조사광 빔은 자색 또는 자외선 영역의 파장을 가지며, 피측정물은 조사광 빔이 피측정물의 표면에서 확산 반사되도록 설계된다. 아울러, 본 측정 시스템은 본질적으로 불투광성인 피측정물을 측정하는 데에 특정되어 있다.
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公开(公告)号：KR1020120120174A
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：KR1020127016281
申请日：2010-10-12
Applicant: 마이크로-엡실론 옵트로닉 게엠바하
IPC: G01P3/36
Abstract: 본 발명은 적어도 하나의 센서(4, 5; 41
Ⅰ 내지 41
Ⅳ ; 51)와 공간 필터를 구비하며, 전자기 복사선, 특히 측정 대상(13)으로부터 방출되거나 반사되는 광이 공간 필터에 의하여 상기 센서(4, 5; 41
Ⅰ 내지 41
Ⅳ ; 51, 52) 상으로 이미징되는 공간 필터 측정 장치(1) 및 공간 필터 측정 디바이스(2)에 관한 것이다. 본 발명은 공간 필터 측정을 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 공간 필터 측정 디바이스는 공간 필터가 각 각도 위치에 대하여 이동할 수 있는 미러 요소(21-21"')를 구비하는 마이크로 미러 어레이로 설계되게 구성된다.-
公开(公告)号：KR1020120104268A
公开(公告)日：2012-09-20
申请号：KR1020127016795
申请日：2010-12-22
Applicant: 마이크로-엡실론 옵트로닉 게엠바하
Inventor： 스타우트메이스터,토르스텐 , 오토,토비아스
CPC classification number: G01S7/4814 , G01S17/06 , G01S17/88
Abstract: 측정 대상 물체의 거리, 위치, 및/또는 프로필을 광학적으로 측정하는 센서에 관한 발명. 상기 측정 대상 물체는 그 온도로 인해서 전자기 복사파를 방출하고, 본 발명의 센서는, 측정 대상 물체의 표면에 광을 조사하는 광원과, 측정 물체에서 반사되는 광을 검출하는 검출기를 가지며, 상기 전자기 복사파를 방출하는 물체에 대한 측정 능력에 있어서는, 광원에서 발생된 광의 파장이 상기 측정 대상 물체의 플랑크 복사 스펙트럼의 최고치보다 낮은 값에 해당하는 파장인 것을 특징으로 한다. 본 발명은 또한, 이에 상응하는 방법에 관한 것이다.
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公开(公告)号：KR101493310B1
公开(公告)日：2015-02-23
申请号：KR1020127016795
申请日：2010-12-22
Applicant: 마이크로-엡실론 옵트로닉 게엠바하
Inventor： 스타우트메이스터,토르스텐 , 오토,토비아스
CPC classification number: G01S7/4814 , G01S17/06 , G01S17/88
Abstract: 측정 대상 물체의 거리, 위치, 및/또는 프로필을 광학적으로 측정하는 센서에 관한 발명. 상기 측정 대상 물체는 그 온도로 인해서 전자기 복사파를 방출하고, 본 발명의 센서는, 측정 대상 물체의 표면에 광을 조사하는 광원과, 측정 물체에서 반사되는 광을 검출하는 검출기를 가지며, 상기 전자기 복사파를 방출하는 물체에 대한 측정 능력에 있어서는, 광원에서 발생된 광의 파장이 상기 측정 대상 물체의 플랑크 복사 스펙트럼의 최고치보다 낮은 값에 해당하는 파장인 것을 특징으로 한다. 본 발명은 또한, 이에 상응하는 방법에 관한 것이다.
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