公开(公告)号：WO2013041323A1

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：PCT/EP2012/066449

申请日：2012-08-23

Applicant: ASML Netherlands B.V. ,  VAN SCHOOT, Jan ,  KREUWEL, Hermanus ,  BANINE, Vadim ,  YAKUNIN, Andrei ,  MOORS, Roel ,  FRIJNS, Olav ,  SWINKELS, Gerardus ,  VANDERHALLEN, Ivo ,  STAMM, Uwe

Inventor： VAN SCHOOT, Jan ,  KREUWEL, Hermanus ,  BANINE, Vadim ,  YAKUNIN, Andrei ,  MOORS, Roel ,  FRIJNS, Olav ,  SWINKELS, Gerardus ,  VANDERHALLEN, Ivo ,  STAMM, Uwe

IPC: H05G2/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70058 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: A radiation source having a fuel stream generator (110) that generates and directs a fuel stream (102) along a trajectory towards a plasma formation location (104). A pre-pulse laser radiation assembly directs a first beam of laser radiation (100) at the fuel stream at the plasma formation location to generate a modified fuel target (106). A main pulse laser radiation assembly directs a second beam of laser radiation (108) at the modified fuel target at the plasma formation location to generate a radiation generating plasma (117). A collector (122) collects the radiation and directs it along an optical axis (105) of the radiation source. The first beam of laser radiation being directed toward the fuel stream substantially along the optical axis.

Abstract translation: 一种具有燃料流发生器（110）的辐射源，其产生并引导燃料流（102）沿轨迹朝向等离子体形成位置（104）。 预脉冲激光辐射组件在等离子体形成位置处的燃料流处引导第一激光辐射束（100）以产生经修改的燃料靶（106）。 主脉冲激光辐射组件在等离子体形成位置处引导在修改的燃料靶处的第二激光辐射束（108）以产生辐射产生等离子体（117）。 收集器（122）收集辐射并沿辐射源的光轴（105）引导辐射。 激光辐射的第一束基本上沿着光轴被引向燃料流。

公开(公告)号：WO2004031854A3

公开(公告)日：2004-04-15

申请号：PCT/EP2003/010605

申请日：2003-09-24

Applicant: CARL ZEISS SMT AG ,  ASML Netherlands B.V. ,  SINGER, Wolfgang ,  ANTONI, Martin ,  WANGLER, Johannes ,  WEISS, Markus ,  BANINE, Vadim, Yevgenyevich ,  DIERICHS, Marcel ,  MOORS, Roel ,  SCHUSTER, Karl-Heinz

Inventor： SINGER, Wolfgang ,  ANTONI, Martin ,  WANGLER, Johannes ,  WEISS, Markus ,  BANINE, Vadim, Yevgenyevich ,  DIERICHS, Marcel ,  MOORS, Roel ,  SCHUSTER, Karl-Heinz

IPC: G03F7/20

Abstract: Die Erfindung betrifft ein Beleuchtungssystem für Wellenlängen ≤ 193 nm, wobei das Beleuchtungssystem eine Lichtquelle umfasst, die in einer Ebene eine vorbestimmte Ausleuchtung zur Verfügung stellt und a) eine erste optische Komponente mit ersten Rasterelementen, wobei die ersten Rasterelemente auf einem Trägerelement angeordnet sind und die erste optische Komponente in oder nahe der Ebene, in der die Ausleuchtung zur Verfügung gestellt wird, angeordnet ist. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass i) auf dem Trägerelement der ersten optischen Komponente mindestens ein Sensor zur Detektion von auf das Trägerelement auftreffendem Licht angeordnet ist. ii) Spiegel des Beleuchtungssystems durch Auswertung der Sensorsignale so gestellt werden, dass die Lage und Stärke der Beleuctung konstant gehalten werden.

公开(公告)号：WO2010015508A2

公开(公告)日：2010-02-11

申请号：PCT/EP2009/059398

申请日：2009-07-22

Applicant: ASML Netherlands B.V. ,  SJMAENOK, Leonid ,  BANINE, Vadim ,  MOORS, Roel ,  GLUSHKOV, Denis ,  YAKUNIN, Andrei, Mikhailovich

Inventor： SJMAENOK, Leonid ,  BANINE, Vadim ,  MOORS, Roel ,  GLUSHKOV, Denis ,  YAKUNIN, Andrei, Mikhailovich

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70916

Abstract: A lithographic apparatus include an optical element that includes an oriented carbon nanotube sheet. The optical element has an element thickness in the range of about 20-500 nm and has a transmission for EUV radiation having a wavelength in the range of about 1-20 nm of at least about 20% under perpendicular irradiation with the EUV radiation. The oriented carbon nanotube sheet may be used per se as optical element, and may be designed to reduce debris and/or improve the ratio of EUV/non-desired radiation. The sheet, due to its strength, does not necessarily need a support. The optical element of the invention may be unsupported.

Abstract translation: 光刻设备包括包括定向碳纳米管片的光学元件。 光学元件具有在约20-500nm范围内的元件厚度，并且在与EUV辐射的垂直照射下具有至少约20％的波长在约1-20nm范围内的EUV辐射的透射。 定向碳纳米管片本身可以用作光学元件，并且可以被设计为减少碎片和/或改善EUV /非期望辐射的比例。 该表由于其实力，不一定需要支持。 本发明的光学元件可以不被支撑。

公开(公告)号：WO2012119672A1

公开(公告)日：2012-09-13

申请号：PCT/EP2011/073537

申请日：2011-12-21

Applicant: ASML Netherlands B.V. ,  BANINE, Vadim ,  LOOPSTRA, Erik ,  MOORS, Roel ,  VAN SCHOOT, Jan ,  SWINKELS, Gerardus ,  YAKUNIN, Andrei ,  VAN DIJSSELDONK, Antonius ,  DE BOEIJ, Wilhelmus

Inventor： BANINE, Vadim ,  LOOPSTRA, Erik ,  MOORS, Roel ,  VAN SCHOOT, Jan ,  SWINKELS, Gerardus ,  YAKUNIN, Andrei ,  VAN DIJSSELDONK, Antonius ,  DE BOEIJ, Wilhelmus

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06

CPC classification number: G03F7/70191 ,  B82Y10/00 ,  G02B1/11 ,  G02B5/1838 ,  G02B5/281 ,  G02B5/283 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70575 ,  G21K1/062 ,  G21K1/067 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/067 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008

Abstract: A lithographic apparatus for patterning a beam of radiation and projecting it onto a substrate, comprising at least two spectral purity filters configured to reduce the intensity of radiation in the beam of radiation in at least one undesirable range of radiation wavelength, wherein the two spectral purity filters are provided with different radiation filtering structures from each other.

Abstract translation: 一种光刻设备，用于将辐射束图案化并将其投影到衬底上，包括至少两个光谱纯度滤光器，其被配置为在至少一个不期望的辐射波长范围内降低辐射束中的辐射强度，其中两个光谱纯度 过滤器具有彼此不同的辐射过滤结构。

公开(公告)号：WO2011098169A1

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：PCT/EP2010/069192

申请日：2010-12-08

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V. ,  KEMPEN, Antonius ,  BRULS, Richard ,  LOOPSTRA, Erik ,  MOORS, Roel ,  SWINKELS, Gerardus ,  MESTROM, Wilbert

Inventor： KEMPEN, Antonius ,  BRULS, Richard ,  LOOPSTRA, Erik ,  MOORS, Roel ,  SWINKELS, Gerardus ,  MESTROM, Wilbert

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70908 ,  B08B3/08 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/708 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925

Abstract: A radiation source generates extreme ultraviolet radiation for a lithographic apparatus as a chamber that is provided with a low pressure hydrogen environment. A trace amount of a protective compound, e.g., H 2 O, H 2 O 2 , O 2 , NH 3 or NO x , is provided to the chamber to assist in maintaining a protective oxide film on metal, e.g., titanium, components in the chamber.

Abstract translation: 辐射源为光刻设备产生极紫外辐射，作为设置有低压氢环境的室。 向腔室提供痕量的保护性化合物，例如H 2 O，H 2 O 2，O 2，NH 3或NO x，以有助于在室中的金属（例如钛）组分上维持保护性氧化膜。

公开(公告)号：WO2010015508A3

公开(公告)日：2010-04-01

申请号：PCT/EP2009059398

申请日：2009-07-22

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  SJMAENOK LEONID ,  BANINE VADIM ,  MOORS ROEL ,  GLUSHKOV DENIS ,  YAKUNIN ANDREI MIKHAILOVICH

Inventor： SJMAENOK LEONID ,  BANINE VADIM ,  MOORS ROEL ,  GLUSHKOV DENIS ,  YAKUNIN ANDREI MIKHAILOVICH

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F7/70191 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70308 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70916

Abstract: A lithographic apparatus include an optical element that includes an oriented carbon nanotube sheet. The optical element has an element thickness in the range of about 20-500 nm and has a transmission for EUV radiation having a wavelength in the range of about 1-20 nm of at least about 20% under perpendicular irradiation with the EUV radiation. The oriented carbon nanotube sheet may be used per se as optical element, and may be designed to reduce debris and/or improve the ratio of EUV/non-desired radiation. The sheet, due to its strength, does not necessarily need a support. The optical element of the invention may be unsupported.

Abstract translation: 光刻设备包括包含定向碳纳米管片的光学元件。 光学元件的元件厚度在约20-500nm的范围内，并且在EUV辐射的垂直照射下具有用于具有在约1-20nm范围内的波长的至少约20％的EUV辐射的透射率。 取向的碳纳米管片本身可以用作光学元件，并且可以设计成减少碎片和/或改善EUV /非期望辐射的比率。 由于其强度，该片材不一定需要支撑。 本发明的光学元件可以不被支撑。

公开(公告)号：WO2004031854A2

公开(公告)日：2004-04-15

申请号：PCT/EP0310605

申请日：2003-09-24

Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  ASML NETHERLANDS BV ,  SINGER WOLFGANG ,  ANTONI MARTIN ,  WANGLER JOHANNES ,  WEISS MARKUS ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DIERICHS MARCEL ,  MOORS ROEL ,  SCHUSTER KARL-HEINZ

Inventor： SINGER WOLFGANG ,  ANTONI MARTIN ,  WANGLER JOHANNES ,  WEISS MARKUS ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DIERICHS MARCEL ,  MOORS ROEL ,  SCHUSTER KARL-HEINZ

IPC: G03F7/20 ,  G03F

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70558

Abstract: The invention relates to an illumination system for wavelengths

Abstract translation: 本发明涉及一种用于波长的照明系统<= 193纳米，其中所述照明系统包括一个光源，其提供可用的预定照明在一个平面和a）用第一光栅元件，其特征在于，所述第一光栅元件被布置在支撑元件上和第一光学部件 所述第一光学部件被布置在或在其上提供照明的平面附近。 本发明的特征在于：i）中设置在第一光学元件的至少一个传感器，用于在承载元件上的检测入射光的支撑元件上。 ⅱ）的照明系统的反射镜由传感器信号，使得Beleuctung的位置和强度被保持恒定的评价提供。