Controllable light detector
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:DE19814125C1

    公开(公告)日:1999-10-28

    申请号:DE19814125

    申请日:1998-03-30

    Applicant: STREIBL MARTIN

    Inventor: STREIBL MARTIN

    Abstract: The detector has a substrate (1) between a semiconductor system (2) and a detector structure (8), which operates as a frequency filter, so that a low-frequency photoluminescence signal (7) converted in the semiconductor system reaches the detector structure instead of a primary optic signal (6). An arrangement (5) for producing electric fields is provided in the semiconductor system, where the frequency change is controlled by an external voltage. The detector includes at least one arrangement for coupling in optical signals, a system for absorbing the optical signals, which emits light with a larger wavelength after the absorption, and a detector structure (8) for receiving the light with the larger wavelength. The absorption system is a semiconductor system (2), in which at least a part of the optical signals is converted to elementary excitations of the semiconductor, which can recombine within the semiconductor system through photoluminescence (7). A substrate (1) is arranged between the semiconductor system and the detector structure, which operates as a frequency filter, in such way, that not the primary optical signal (6), but the low-frequency photoluminescence signal converted in the semiconductor system, reaches the detector structure. An arrangement (5) for producing electric fields is provided in the semiconductor system, whereby the frequency change is controllable through an external voltage.

    METHOD FOR DETERMINING THE ESD/LATCH-UP RESISTANCE OF AN INTEGRATED CIRCUIT
    3.
    发明申请
    METHOD FOR DETERMINING THE ESD/LATCH-UP RESISTANCE OF AN INTEGRATED CIRCUIT 审中-公开
    确定集成电路ESD /闩锁上拉强度的方法

    公开(公告)号:WO03052824A2

    公开(公告)日:2003-06-26

    申请号:PCT/DE0204599

    申请日:2002-12-16

    Abstract: The invention relates to a method for determining the ESD/latch-up resistance of an integrated circuit, said method comprising the following steps: an integrated circuit (1, 2) and a test structure (N3) are simultaneously produced by means of the same process steps; electrical parameters of the test structure (N3) are measured; characteristic values are derived from the measured parameter values, said characteristic values characterising an ESD or latch-up characteristic curve associated with the integrated circuit (1, 2); and it is checked whether the characteristic values are respectively contained in a pre-determined range associated with the same. The ranges are selected in such a way that a desired ESD/latch-up resistance is achieved when the characteristic values are respectively contained in their range.

    Abstract translation: 一种用于确定集成电路的ESD /闭锁强度等,其包括以下步骤的方法:共享通过相同的工艺步骤制造集成电路(1,2)和一个测试结构(N3),在该测试结构(N3)的电气参数的测量, 从所测量的参数值,其中所述集成电路中的一个的特征值(1,2)与ESD相关联或表征闩锁的特性曲线导出特征值,并且检查所述参数是否内的分配给它们的预定范围内的每个,所述区域 被选择为使得如果特性各自在它们的范围内,则存在期望的ESD /闭锁强度。

    TRANSISTOR MIT FÜLLBEREICHEN IM SOURCE- UND/ODER DRAINGEBIET
    7.
    发明申请
    TRANSISTOR MIT FÜLLBEREICHEN IM SOURCE- UND/ODER DRAINGEBIET 审中-公开
    与可填写源和/或漏区晶体管

    公开(公告)号:WO2004049450A1

    公开(公告)日:2004-06-10

    申请号:PCT/DE2003/003914

    申请日:2003-11-26

    CPC classification number: H01L29/0847 H01L29/0646 H01L29/0653 H01L29/78

    Abstract: Ein Transistor weist ein Sourcegebiet (SO) und ein Draingebiet (D) auf. Eine Mehrzahl von Füllbereichen (FB) ist derart ausgebildet, dass die Füllbereiche (FB) und das Source- (SO) und/oder das Draingebiet (D) ineinander greifen. Die Füllbereiche (FB) weisen vertikale Ausmaße auf, die mindestens gleich groß den vertikalen Ausmaßen des Source- (SO) und/oder des Draingebietes (D) sind. Die Füllbereiche (FB) und das Source- (SO) und/oder Draingebiet (D) erstrecken sich zumindest teilweise über einen gemeinsamen vertikalen Abschnitt.

    Abstract translation: 一种晶体管包括源极区(SO)和漏极区域(D)。 多个填充区(FB)的形成为使得填充区域(FB)和源极(SO)和/或漏极区(D)彼此接合。 的填充区域(FB)具有垂直尺寸,至少等于源(SO)和/或漏极区(D)的上下方向的尺寸。 的填充区域(FB)和源极(SO)和/或漏极上的公共垂直部至少部分地延伸区域(D)。

    INTEGRIERTE SCHALTKREIS-ANORDNUNG UND SCHALTKREIS-ARRAY
    10.
    发明申请
    INTEGRIERTE SCHALTKREIS-ANORDNUNG UND SCHALTKREIS-ARRAY 审中-公开
    集成电路装置和电路阵列

    公开(公告)号:WO2006021181A1

    公开(公告)日:2006-03-02

    申请号:PCT/DE2005/001405

    申请日:2005-08-09

    CPC classification number: H01L27/0251

    Abstract: Die Erfindung betrifft eine integrierte Schaltkreis-Anordnung, mit einem ersten Anschluss, der auf ein erstes Versorgungspotential bringbar ist, mit einem zweiten Anschluss, der auf ein zweites Versorgungspotential bringbar ist, wobei zwischen dem ersten Anschluss und dem zweiten Anschluss ein Versorgungspotentialpfad gebildet ist, mit einem Electrostatic-Discharge-Element zumindest in dem Versorgungspotentialpfad, mit einem Signaleingangspad, an dem ein Eingangssignal anlegbar ist, mit einem Signalausgang, an dem ein Ausgabesignal bereitstellbar ist, mit einer ersten Induktivität, die zwischen dem Signaleingangspad und dem Signalausgang angeordnet ist, und mit einer zweiten Induktivität, die zwischen dem Signalausgang und dem ersten Anschluss angeordnet ist.

    Abstract translation: 本发明涉及一种集成电路装置,其具有第一端子,其可接合到第一电源电位,与第二终端,其可接合到第二电源电位,在第一端子和所述第二端子之间形成的电势路径, 静电放电元件至少在电源电位路径,具有Signaleingangspad到其的输入信号可以适用,但在可提供的输出信号的信号输出,具有第一电感,其被布置在所述Signaleingangspad和信号输出之间,并且 第二电感,其被布置在信号输出端和第一端之间。

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