公开(公告)号：KR1020100124587A

公开(公告)日：2010-11-29

申请号：KR1020090043675

申请日：2009-05-19

Applicant: (주)미래컴퍼니

Inventor： 최범식 ,  원선호

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/302 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67219 ,  H01L21/67706

Abstract: PURPOSE: An apparatus and a method for processing a substrate are provided to improve yield by processing the substrate while transferring the substrate. CONSTITUTION: An input table(10) moves in a preset direction and supports an inputted substrate. A discharge table(14) moves in a preset direction and supports the substrate to be discharged.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理基板的装置和方法，以通过在转移基板的同时处理基板来提高产量。 构成：输入表（10）在预设方向上移动并支持输入的基板。 排出台（14）沿预设方向移动并支撑要排出的基板。

公开(公告)号：KR101084968B1

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：KR1020100015966

申请日：2010-02-23

Applicant: (주)미래컴퍼니

Inventor： 김현호 ,  최범식

IPC: H01L21/304 ,  G02F1/13

Abstract: 기판 가공장치 및 가공방법이 개시된다. 투입영역, 제1 가공영역, 제2 가공영역, 배출영역으로 구분되는 기판 가공장치에서, 소정 영역에 고정된 3개의 센터테이블과 각 영역 사이를 이동하는 2개의 사이드테이블이 서로 개별적으로 구동됨으로써 기판의 가공 및 배출과, 후속 기판의 투입 및 가공이 동시에 수행될 수 있어 가공 중 대기시간을 최소화하면서 연속적으로 기판 가공 공정을 수행하여 공정 택타임을 단축시키는 것이 가능한 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020110096628A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：KR1020100015966

申请日：2010-02-23

Applicant: (주)미래컴퍼니

Inventor： 김현호 ,  최범식

IPC: H01L21/304 ,  G02F1/13

CPC classification number: G02F1/1303 ,  B24B7/242 ,  B24B9/10

Abstract: 기판 가공장치 및 가공방법이 개시된다. 투입영역, 제1 가공영역, 제2 가공영역, 배출영역으로 구분되는 기판 가공장치에서, 소정 영역에 고정된 3개의 센터테이블과 각 영역 사이를 이동하는 2개의 사이드테이블이 서로 개별적으로 구동됨으로써 기판의 가공 및 배출과, 후속 기판의 투입 및 가공이 동시에 수행될 수 있어 가공 중 대기시간을 최소화하면서 연속적으로 기판 가공 공정을 수행하여 공정 택타임을 단축시키는 것이 가능한 효과가 있다.

Abstract translation: 公开了一种基板处理装置和处理方法。 在分为输入区域，第一加工区域，第二加工区域和排出区域的基板处理装置中，分别驱动固定到预定区域的三个中心台和在各个区域之间移动的两个侧台， 可以同时执行基板的处理和排出以及随后的基板输入和处理，由此在处理期间最小化等待时间的同时连续地执行基板处理过程，由此缩短处理时间。

公开(公告)号：KR101013418B1

公开(公告)日：2011-02-14

申请号：KR1020090043675

申请日：2009-05-19

Applicant: (주)미래컴퍼니

Inventor： 최범식 ,  원선호

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/677

Abstract: 기판 가공장치 및 가공방법이 개시된다. 소정 방향으로 이동하며, 투입된 가공 대상 기판을 지지하는 투입 테이블과, 소정 방향으로 이동하며, 기판이 배출되도록 지지하는 배출 테이블과, 투입 테이블 및 배출 테이블 사이에서 이동하는 센터 테이블과, 기판의 이동 방향에 교차하도록 투입 테이블과 센터 테이블 사이에 위치하는 에지 가공부와, 기판의 이동 방향에 교차하도록 배출 테이블에 인접하여 위치하는 코너 가공부를 포함하되, 센터 테이블은, 투입 테이블과 합체되어 기판의 에지가 가공되도록 에지 가공부를 통과하고, 배출 테이블과 합체되어 기판의 코너가 가공되도록 기판을 배출 테이블에 전달하는 것을 특징으로 하는 기판 가공장치는, 3개의 테이블을 합체, 분리하면서 기판의 에지 및 코너를 모두 연마할 수 있어, 기판의 아랫면만을 지지한 상태에서 하나의 이송라인을 따라 기판을 이동시키면서 기판을 가공할 수 있으며, 배출 테이블에 기판을 적재하여 코너 가공을 진행하는 동안 다른 기판을 투입하여 에지 가공을 병행하여 진행할 수 있어, 기판 가공의 택타임이 절감되고 기존 장비 대비 시간당 생산량을 증가시킬 수 있으며 수율이 향상된다는 효과가 있다.
기판, 가공, 에지 연마, 코너 연마

Abstract translation: 公开了一种基板处理装置和处理方法。 在规定方向上移动并支承被处理基板的移载台;向规定方向移动并支承排出基板的排出台;在充电台和排出台之间移动的中心台; 以及角部加工部分，该角部加工部分定位成邻近排出台以与基板的运动方向相交，其中中心台与插入台结合，使得基板的边缘 其中基板被转移到放电台上，使得基板穿过边缘处理部分进行处理并与放电台合并以处理基板的拐角。 可以进行抛光，并且仅支撑一条传输线，同时仅支撑衬底的下表面 而移动所述衬底可以被处理到基底上，而在放电表正在进行角处理所述衬底的所述负荷可以并行进行与边缘加工把另一衬底上，选择的基板处理的时间比现有设备保存一个小时 生产量可以增加，产量可以提高。