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公开(公告)号：WO2012044060A3
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/KR2011/007140
申请日：2011-09-28
Applicant: (주)트리플코어스코리아 , 김성락 , 지영연 , 김익년
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
Abstract: 마이크로웨이브 발생 장치, 이 장치의 구동 방법 및 폐가스 제거 시스템을 공개한다. 마이크로웨이브 발생 장치는 마이크로웨이브를 발생하는 마그네트론, 및 상기 마그네트론을 구동하기 위한 서로 다른 위상을 갖는 복수개의 정류된 고전압 생성하는 전원 공급 회로를 구비한다. 따라서 낮은 제조비용으로 안정적으로 고출력의 마그네트론을 구동할 수 있으며, 마그네트론의 수명을 연장할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020130049481A
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020110114531
申请日：2011-11-04
Applicant: (주)트리플코어스코리아
CPC classification number: B01J19/088 , B01D53/32 , B01D2259/818
Abstract: PURPOSE: A plasma reactor and a gas scrubber using the same are provided to maintain bondage by weight without an adhesive member or a fastening member by inserting and coupling the discharge inner body with magnetic force generation unit. CONSTITUTION: A plasma reactor comprises a high-frequency oscillator (15); a waveguide module; a discharge outer body; cooling bodies (42) arranged inside the discharge outer body; and a discharge inner body (150). The waveguide module transmits the oscillated high frequency. The discharge outer body is perpendicularly arranged from the waveguide module and passes the high frequency transmitted along the waveguide module. The cooling bodies include slits in order for the high frequency transmitted from the waveguide module to be guided inside. The discharge inner body is arranged inside the cooling body and is inserted and coupled by weight and is combined with the discharge outer body. The outer periphery of the discharge inner body is formed in a conical shape in which the cross section becomes smaller as moving towards the lower side.
Abstract translation: 目的：提供等离子体反应器和使用该等离子体反应器的气体洗涤器，通过将放电内体与磁力产生单元插入和联接来提供重量而不用粘合构件或紧固构件。 构成：等离子体反应器包括高频振荡器（15）; 波导模块; 放电外体; 布置在排出外体内的冷却体（42） 和排出内体（150）。 波导模块传输振荡的高频。 放电外体从波导模块垂直布置，并通过沿波导模块传输的高频。 冷却体包括狭缝，以便从波导模块传输的高频被引导到内部。 排出内体布置在冷却体的内部，并通过重量插入和连接，并与排出外体结合。 排出内体的外周形成为朝向下侧移动时的截面变小的圆锥形状。
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公开(公告)号：KR1020130048576A
公开(公告)日：2013-05-10
申请号：KR1020110113497
申请日：2011-11-02
Applicant: (주)트리플코어스코리아
IPC: H05H1/46 , H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32669 , B01D53/92 , B01D2259/818 , H01J37/32082 , H01J37/32522 , H05H1/46 , H05H2001/4645
Abstract: PURPOSE: A plasma reactor and a gas scrubber using the same are provided to prevent efficiency degradation due to high temperature heat of a magnetic force generation member. CONSTITUTION: A high frequency oscillator(15) oscillates high frequency wave. A waveguide module(20) transmits the high frequency wave oscillated in the high frequency oscillator. A discharge outer body(32) is perpendicularly arranged to the waveguide module and passes the high frequency wave transmitted along the waveguide module. A magnetic force generation unit(40) is arranged inside the discharge outer body, generates a magnetic force and is cooled by a coolant circulating in the outside. [Reference numerals] (12) Power supply unit
Abstract translation: 目的：提供等离子体反应器和使用其的气体洗涤器，以防止由于磁力产生构件的高温热导致的效率降低。 构成：高频振荡器（15）振荡高频波。 波导模块（20）传输在高频振荡器中振荡的高频波。 放电外体（32）垂直地布置在波导模块上并使沿着波导模块传输的高频波通过。 磁力产生单元（40）布置在放电外体的内部，产生磁力并由在外部循环的冷却剂冷却。 （附图标记）（12）电源单元
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公开(公告)号：KR1020120049968A
公开(公告)日：2012-05-18
申请号：KR1020100111232
申请日：2010-11-10
Applicant: (주)트리플코어스코리아
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67034 , H01L21/67046 , H01L21/67098 , H05H1/46
Abstract: PURPOSE: An apparatus for scrubbing an atmospheric pressure plasma gas is provided to improve the process efficiency of a process gas by maintaining a process gas to be 150 degrees or more as an indirect heat source of plasma. CONSTITUTION: A process gas inflow line(140) is connected to a bottom portion of an exterior wall(130b). The process gas inflow line lets a process gas to be processed flow from the outside. A process gas exhaust line(150) is connected to an upper end of the exterior wall. The process gas exhaust line discharges the process gas flowing in. An injection portion injects water into a waveguide(110).
Abstract translation: 目的：提供一种用于洗涤大气压等离子体气体的装置，以通过将处理气体维持在等离子体的间接热源150度以上来提高处理气体的处理效率。 构成：工艺气体流入管线（140）连接到外壁（130b）的底部。 处理气体流入管线使处理气体被处理从外部流出。 工艺气体排出管线（150）连接到外壁的上端。 处理气体排出管线排出流入的工艺气体。注入部分将水注入波导管（110）。
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公开(公告)号：KR101113722B1
公开(公告)日：2012-02-27
申请号：KR1020090128740
申请日：2009-12-22
Applicant: (주)트리플코어스코리아
CPC classification number: B01D53/323 , B01D53/78 , B01D2258/0216 , B01D2259/818
Abstract: 플라즈마 가스 스크러버 장치가 제공된다.
본 발명에 따른 플라즈마 가스 스크러버 장치는 상기 플라즈마에 의하여 폐가스가 처리되는 복수개의 공정 챔버; 상기 공정 챔버 각각에 구비되어 상기 공정 챔버로부터 배출되는 폐가스에 물을 분사하기 위한 복수의 노즐; 상기 복수의 공정 챔버 및 노즐이 연결된 하나 이상의 물탱크; 및 상기 물탱크의 연결되며, 상기 공정 챔버 및 노즐로부터 발생한 수증기를 냉각, 응축시키기 위한 하나 이상의 응축기를 포함하는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 따른 플라즈마 가스 스크러버 장치는 복수개의 공정 챔버를 구비하므로, 처리되는 용량에 따라 상기 공정 챔버의 수를 적절히 선택함으로써 최적의 폐가스 처리가 가능하고, 처리하는 폐가스 용량이 증가하는 경우, 종래 기술에서는 복수개의 물탱크 및 응축기를 사용하여야 하므로, 장비가 차지하는 공간 또한 넓어지게 됨으로써 경제적인 손실이 발생하였지만, 본 발명에서는 물탱크 및 응축기를 복수의 공정 챔버가 공통으로 사용하므로, 적은 용량뿐 만 아니라 대용량의 경우에도 매우 경제적이며 효과적인 폐가스 처리가 가능하며, 더 나아가, 복수개의 공정 챔버를 각각 별도의 반도체 장비에 연결시키는 경우, 각 장비의 조건에 따라 탄력적인 폐가스 처리가 가능한 가스 스크러버 장치를 제공한다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110088021A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：KR1020100007725
申请日：2010-01-28
Applicant: (주)트리플코어스코리아
CPC classification number: H01J37/32229 , H01J37/32201 , H05H1/46 , H05H2001/4622
Abstract: PURPOSE: An atmospheric pressure plasma apparatus and a waveguide therefor are provided to achieve an effect which stably maintains generated plasma and a convergence effect which is applied through a waveguide having a height difference of more than 2. CONSTITUTION: An oscillator supplies electro-magnetic waves to a first high height part(210). A first tapered part(220) is connected with the end part of the first high height part. A second high height part(230) is connected with the end part of the first tapered part. A second tapered part(240) is connected with the end part of the second high height part. A low height part(250) is connected with the end part of the second tapered part.
Abstract translation: 目的：提供一种大气压等离子体装置及其波导，以实现稳定地维持产生的等离子体的效果和通过高度差大于2的波导应用的会聚效应。构成：振荡器提供电磁波 到第一高高度部分（210）。 第一锥形部分（220）与第一高高度部分的端部连接。 第二高高度部分（230）与第一锥形部分的端部连接。 第二锥形部分（240）与第二高高度部分的端部连接。 低高度部分（250）与第二锥形部分的端部连接。
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公开(公告)号：KR101265818B1
公开(公告)日：2013-05-20
申请号：KR1020110113497
申请日：2011-11-02
Applicant: (주)트리플코어스코리아
IPC: H05H1/46 , H01L21/205
Abstract: 본발명에따른플라즈마반응기및 이를이용한가스스크러버는플라즈마가형성되는방전아우터바디(32) 내부에자기력을발생시키는자기력발생유닛(40)이배치되고상기자기력발생유닛(40)이쿨러(44)에의해냉각됨으로서고온으로형성되는방전아우터바디(32) 내부에서도자기력을효과적으로발생시키는효과가있다.
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公开(公告)号：KR101100916B1
公开(公告)日：2012-01-02
申请号：KR1020090116798
申请日：2009-11-30
Applicant: (주)트리플코어스코리아
Abstract: 상압 플라즈마 발생 장치 및 이를 이용한 상압 플라즈마 발생 방법이 제공된다.
본 발명에 따른 상압 플라즈마 발생 장치는 마이크로 웨이브가 인가되는 도파관 및 상기 도파관을 관통하며 토치 가스가 유입되어 플라즈마가 발생하는 유전관을 포함하는 상압 플라즈마 발생 장치에 있어서, 도파관의 직경은 동일하고, 상기 도파관의 단부는 곡면을 이루는 것을 특징으로 하며, 본 발명에 따른 도파관은 평행한 형태를 이루므로, 도파관 제조 공정이 간단하고, 도파관 간의 접합 수를 줄임으로써 마이크로 웨이브의 방출 및 접합 공정 중에 유입된 이물질에 의한 문제를 해결할 수 있다. 더 나아가 본 발명은 도파관 단부의 형태를 곡면으로 형성함으로써, 곡면에서 반사되는 마이크로 웨이브의 강화 효과를 향상시켰으며, 상기 곡면을 이동시킴으로써 최대 전장이 발생하는 지점을 사용자가 용이하게 파악할 수 있다는 효과를 갖는다.-
公开(公告)号：KR1020110092983A
公开(公告)日：2011-08-18
申请号：KR1020100012729
申请日：2010-02-11
Applicant: (주)트리플코어스코리아
CPC classification number: B01D53/32 , B01D47/06 , B01D53/75 , B01D53/78 , B01D2258/0216 , B01D2259/806 , B01D2259/818 , H05H1/24 , H05H2001/4622
Abstract: PURPOSE: An atmospheric pressure plasma gas scrubbing apparatus is provided to process wasted gas based on multi-stepped processes by continuously arranging a plurality of unit plasma reactors along the moving direction of the gas. CONSTITUTION: An inlet line is in connection with a water tank. Atmospheric plasma reactors(130a, 130b, 130c) are continuously arranged on wasted gas inflowing lines(120a, 120b, 120c) along the inflowing path of wasted gas. A water spraying part is arranged to dissolve and collects wasted gas which is decomposed by the atmospheric plasma reactors. The water tank includes a plurality of wasted gas inflowing lines and unit chambers. The unit chambers are divided by partition walls arranged in the water tank.
Abstract translation: 目的：提供一种大气压等离子体气体洗涤装置，通过沿着气体的移动方向连续布置多个单元等离子体反应器，基于多步骤处理来处理废气。 构成：入口管线与水箱相连。 大气等离子体反应器（130a，130b，130c）沿着废气的流入路径连续排列在废气流入管线（120a，120b，120c）上。 布置喷水部分以溶解和收集被大气等离子体反应器分解的废气。 水箱包括多个废气流入管线和单元室。 单元室由布置在水箱中的分隔壁分隔开。
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公开(公告)号：KR101026459B1
公开(公告)日：2011-04-01
申请号：KR1020080118402
申请日：2008-11-26
Applicant: (주)트리플코어스코리아
CPC classification number: H05H1/46 , H05H2001/4622 , H05H2240/10
Abstract: 상압 플라즈마 점화 장치 및 이를 이용한 상압 플라즈마 점화 방법이 제공된다.
본 발명에 따른 상압 플라즈마 점화 장치는 마이크로 웨이브가 인가되는 도파관, 상기 도파관을 관통하며 반응 가스가 유입되는 유전관 및 상기 유전관 내에서 마이크로 웨이브를 인가하여 상기 반응가스를 플라즈마화하기 위한 상압 플라즈마의 점화 장치에 있어서, 상기 점화 장치는 상기 유전관을 관통하며, 상기 유전관 내에서 상기 마이크로 웨이브를 인가받음에 따라 열전자를 방출하는 점화봉을 포함하며, 본 발명에 따른 상압 플라즈마 점화 장치는 무전력 방식의 점화를 수행할 수 있으므로, 고전압이 요구되는 종래 기술의 문제(과도한 전력량, 안정상의 문제)를 한꺼번에 피할 수 있다. 또한 본 발명에 따른 상압 플라즈마 점화 장치는 유전관 내, 외부로 점화봉을 이동시킬 수 있으므로, 플라즈마 열에 따른 점화 장치의 물리적 손상을 방지할 수 있으며, 또한 점화장치에 사용되는 금속 재료의 범위가 종래 기술에 비하여 훨씬 넓다는 효과를 갖는다.
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