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公开(公告)号：WO2020013630A1
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：PCT/KR2019/008569
申请日：2019-07-11
Applicant: (주)플라즈닉스
Abstract: 본 발명은 플라즈마 상에서 대상기체 함유 배출기체를 처리하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 종래 방법은 난변환성 대상기체를 함유하는 배출기체를 처리함에 있어 높은 대상기체의 변환율이 요구되거나 대량의 대상기체 함유 배출기체 처리시 과도한 에너지의 소모와 이에 따른 구성 부품의 수명단축으로 인해 어려움이 있다. 본 발명은 대상기체의 변환이 이루어지는 변환영역에 플라즈마를 생성시키는 단계; 1차 이온화 에너지가 10eV 이하인 원소로서 대상기체의 변환을 촉진시키는 변환촉진원소를 함유하는 변환촉진제를 변환영역에 공급하는 단계; 대상기체의 해리생성물과 결합하여 대상기체로의 재결합을 억제하고 변환생성물로 변환시키는 변환제를 변환영역에 공급하는 단계; 대상기체 함유 배출기체를 변환영역에 공급하는 단계를 포함하는 플라즈마 상에서 대상기체 함유 배출기체를 처리하는 방법과 이를 구현하는 장치를 제공한다. 본 발명으로 인해 대상기체 함유 배출기체를 처리함에 있어 대상기체의 변환율을 높이고 처리 과정에서 필요한 에너지의 소모량을 줄일 수 있다. 또한 이로 인해 처리 장치의 유지 비용을 줄이고 수명을 향상시킬 수 있으며 보다 용이하게 대용량의 처리장치를 구현하는 것이 가능하다. 본 발명은 유해한 물질의 제거 공정 뿐만 아니라 개질, 가스화, GTL(Gas to Liquid), 중합 등 유용한 물질의 합성 공정에도 적용될 수 있다.
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公开(公告)号：KR100736923B1
公开(公告)日：2007-07-06
申请号：KR1020070032569
申请日：2007-04-02
Applicant: (주) 플라즈닉스 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L21/60
Abstract: 본 발명은 폴리이미드 금속 적층체의 제조방법 및 장치, 이로 인해 제조되는 폴리이미드 금속 적층체에 관한 것이고, 보다 상세하게는 고밀도, 미세 패턴용의 기판 재료로 사용할 수 있는 폴리이미드 금속 적층체에 관한 것이다. 본 발명에 따른 폴리이미드의 표면 처리를 위한 대기압 플라즈마 발생 장치 및 처리 방법에 의하면 금속과 적층체 형성시 높고 균일한 박리 강도, 낮은 표면 조도에 의한 광투과성 및 에칭 신뢰성의 증대, 중간층 배제에 의한 에칭 공정 절감, 빠른 처리 속도에 의한 높은 생산성 및 저렴한 생산 비용 등의 장점을 갖게 된다.
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公开(公告)号：KR100549503B1
公开(公告)日：2006-02-09
申请号：KR1020020072426
申请日：2002-11-20
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단 , 주식회사 미래와도전 , (주) 플라즈닉스
IPC: G21F9/30
Abstract: 본 발명은 대기압 플라즈마를 이용한 방사성 폐기물 표면 제염장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 방사성 폐기물의 표면 처리를 통하여 저 레벨의 폐기물 혹은 비 방사성 폐기물로 변환시켜서 방사성 폐기물의 발생량을 저감하고 제염 후의 폐기물의 재활용을 목적으로 금속 표면에 방사성 부식 생성물로 부착되어 있는 코발트 산화막을 대기압 플라즈마를 이용하여 제염하는 장치의 개발에 관한 것이다.
이를 위해 본 발명에서는 대기압에서 플라즈마를 발생하는 플라즈마 발생장치, 플라즈마 처리후 플라즈마 라디칼과 표면간의 반응으로 생성된 2차 생성물을 외부와 격리하여 포집하는 포집부, 제거된 코발트 기화물을 수거하는 수거부, 제염대상 표면에 부착하는 표면 부착부를 포함하는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR100817038B1
公开(公告)日：2008-04-07
申请号：KR1020050095130
申请日：2005-10-10
Applicant: (주) 플라즈닉스 , 재단법인서울대학교산학협력재단
Abstract: 본 발명은 물질의 표면 처리를 위한 대기압 플라즈마 발생 장치와 이를 이용한 표면 처리 방법에 관한 것으로서 높은 처리 효과와 다양한 피처리물 형상 및 재질에 대한 적용 가능성을 높임과 동시에 경제적인 장치 구현 및 운전이 가능하도록 하여 보다 넓은 영역에의 적용이 가능하도록 한 것이다.
본 발명에서는 공기, 질소, 산소 등 저렴한 기체를 플라즈마 발생 장치의 기체 주입구를 통해 플라즈마 발생 영역으로 고속 주입한 다음 핀 혹은 원통 형태의 파워 전극과 원통형의 접지 전극 사이에 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키고 발생된 플라즈마를 플라즈마 이송 통로 및 분사 노즐을 통하여 플라즈마 발생 장치 외부로 분사하고 분사된 플라즈마를 통해 금속 혹은 비금속 피처리물의 표면을 처리하여 표면 특성을 개선한다.-
公开(公告)号：KR1020070064460A
公开(公告)日：2007-06-21
申请号：KR1020050124930
申请日：2005-12-17
Applicant: (주) 플라즈닉스 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L21/60
Abstract: A method for fabricating polyimide metal laminates and the polyimide metal laminate manufactured by the same are provided to achieve a uniform peeling strength of the metal laminate in a width direction which is formed by using atmosphere plasma. Polyimide is processed by using atmosphere plasma(313) comprising resonance-excited atom or molecular, or metastable atom or molecular. Metal is deposited on the polyimide. To generate the atmosphere plasma comprising resonance-excited atom or molecular, or metastable atom or molecular, at least one of nitrogen, helium and argon is used as a plasma generating gas. Energy of the resonance-excited atom or molecular, or the metastable atom or molecular is over 2eV.
Abstract translation: 提供了一种用于制造聚酰亚胺金属层压体的方法和由其制造的聚酰亚胺金属层压板，以通过使用气氛等离子体形成的宽度方向上的金属层压板的均匀剥离强度。 聚酰亚胺通过使用包含共振激发原子或分子或亚稳原子或分子的气氛等离子体（313）进行处理。 金属沉积在聚酰亚胺上。 为了产生包含共振激发原子或分子或亚稳原子或分子的气氛等离子体，使用氮，氦和氩中的至少一种作为等离子体产生气体。 共振激发原子或分子的能量，或亚稳原子或分子的能量超过2eV。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020070039824A
公开(公告)日：2007-04-13
申请号：KR1020050095130
申请日：2005-10-10
Applicant: (주) 플라즈닉스 , 재단법인서울대학교산학협력재단
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/32174 , H01J37/3244 , H01J37/3255 , H05H1/46
Abstract: 본 발명은 물질의 표면 처리를 위한 대기압 플라즈마 발생 장치와 이를 이용한 표면 처리 방법에 관한 것으로서 높은 처리 효과와 다양한 피처리물 형상 및 재질에 대한 적용 가능성을 높임과 동시에 경제적인 장치 구현 및 운전이 가능하도록 하여 보다 넓은 영역에의 적용이 가능하도록 한 것이다.
본 발명에서는 공기, 질소, 산소 등 저렴한 기체를 플라즈마 발생 장치의 기체 주입구를 통해 플라즈마 발생 영역으로 고속 주입한 다음 핀 혹은 원통 형태의 파워 전극과 원통형의 접지 전극 사이에 전압을 인가하여 플라즈마를 발생시키고 발생된 플라즈마를 플라즈마 이송 통로 및 분사 노즐을 통하여 플라즈마 발생 장치 외부로 분사하고 분사된 플라즈마를 통해 금속 혹은 비금속 피처리물의 표면을 처리하여 표면 특성을 개선한다.-
公开(公告)号：KR1020040043956A
公开(公告)日：2004-05-27
申请号：KR1020020072426
申请日：2002-11-20
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단 , 주식회사 미래와도전 , (주) 플라즈닉스
IPC: G21F9/30
Abstract: PURPOSE: An apparatus for processing radioactive wastes using atmospheric plasma is provided to remove contaminants from the radioactive waste at atmospheric pressure without using an additional vacuum system. CONSTITUTION: An apparatus for processing radioactive wastes using atmospheric plasma includes a surface adhesion part, an atmospheric plasma generator, a secondary product collection unit, a secondary product absorption unit, and a fixing unit. The surface adhesion part(50) adheres the apparatus to a contaminated surface of a target. The atmospheric plasma generator(10) is used for generating the atmospheric glow plasma to the surface adhesion part. The secondary product collection unit(20) collects the secondary products, which are generated, from the chemical reaction between the plasma radical of the atmospheric plasma generator and the contaminated surface of the target. The secondary product absorption unit(30) absorbs the secondary products from the secondary product collection unit. The fixing unit(40) fixes the atmospheric plasma generator to the secondary product collection unit.
Abstract translation: 目的：提供使用大气等离子体处理放射性废物的装置，以在大气压力下除去放射性废物中的污染物，而不需要使用额外的真空系统。 构成：使用大气等离子体处理放射性废物的装置包括表面粘附部分，大气等离子体发生器，二次产品收集单元，二次产品吸收单元和定影单元。 表面粘合部分（50）将装置粘附到目标物的污染表面上。 大气等离子体发生器（10）用于向表面粘附部分产生大气辉光等离子体。 二次产品收集单元（20）从大气等离子体发生器的等离子体基团与目标物的污染表面之间的化学反应中收集产生的二次产物。 第二产品吸收单元（30）从次级产品收集单元吸收二次产品。 固定单元（40）将大气等离子体发生器固定到二次产品收集单元。
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公开(公告)号：KR100752780B1
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：KR1020050124930
申请日：2005-12-17
Applicant: (주) 플라즈닉스 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L21/60
Abstract: 본 발명은 폴리이미드 금속 적층체의 제조방법 및 장치, 이로 인해 제조되는 폴리이미드 금속 적층체에 관한 것이고, 보다 상세하게는 고밀도, 미세 패턴용의 기판 재료로 사용할 수 있는 폴리이미드 금속 적층체에 관한 것이다. 본 발명에 따른 폴리이미드의 표면 처리를 위한 대기압 플라즈마 발생 장치 및 처리 방법에 의하면 금속과 적층체 형성시 높고 균일한 박리 강도, 낮은 표면 조도에 의한 광투과성 및 에칭 신뢰성의 증대, 중간층 배제에 의한 에칭 공정 절감, 빠른 처리 속도에 의한 높은 생산성 및 저렴한 생산 비용 등의 장점을 갖게 된다.
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公开(公告)号：KR1020070064561A
公开(公告)日：2007-06-21
申请号：KR1020070032569
申请日：2007-04-02
Applicant: (주) 플라즈닉스 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L21/60
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L23/492 , H01L23/4985
Abstract: A method and an apparatus for fabricating polyimide metal laminates and the polyimide metal laminate manufactured by the same are provided to increase uniform peeling strength and light transmittance of the metal laminate which is formed by using atmosphere plasma. A power source(28) generates atmosphere plasma, and a power electrode(12) is applied with a voltage generated by the power source. A ground electrode(18) is connected to a ground of the power source, in which plasma(313) is generated between the power electrode and the ground electrode. An electrode support(20) has two parallel plates, in which the power electrode is attached to one plate, and the ground electrode is attached to the other plate. A dielectric(312) is provided at one side of the power electrode and the ground electrode to prevent concentration of charge. A gas injecting part(16) injects a plasma generating gas(25) between the power electrode and the ground electrode.
Abstract translation: 提供了一种用于制造聚酰亚胺金属层压体的方法和装置以及由其制造的聚酰亚胺金属层压体，以增加通过使用气氛等离子体形成的金属层压体的均匀的剥离强度和透光率。 电源（28）产生大气等离子体，并且向电源电极（12）施加由电源产生的电压。 接地电极（18）连接到电源的接地，其中在电源电极和接地电极之间产生等离子体（313）。 电极支撑件（20）具有两个平行板，其中功率电极附接到一个板，并且接地电极附接到另一个板。 电源（312）设置在功率电极和接地电极的一侧，以防止电荷集中。 气体注入部（16）在电力电极和接地电极之间注入等离子体产生气体（25）。
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公开(公告)号：KR1020060099911A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：KR1020050021454
申请日：2005-03-15
Applicant: (주) 플라즈닉스
IPC: H01L21/304 , H01L21/3065
Abstract: 본 발명은 대기압 분위기에서 발생되는 플라즈마를 이용하여 테이프캐리어패키지, 칩온플렉스 등의 테이프형 반도체 장치의 표면을 세정, 에칭 및 개질함으로 인하여 수지 밀봉 및 마킹 등의 공정에 있어 신뢰성을 향상시키는 표면처리방법에 관한 것이다.
플라즈마, 테이프캐리어패키지, 칩온플렉스, 수지 밀봉, 마킹, 표면처리
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