公开(公告)号：CN1831203A

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：CN200610004607.2

申请日：2000-11-27

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 中野修 ,  片冈卓 ,  妙中咲子 ,  内田直仁 ,  半泽规子

IPC: C25D1/04

CPC classification number: C25D3/38 ,  C25D1/04 ,  H05K1/09 ,  H05K2201/0355 ,  Y10S428/901 ,  Y10T428/12431 ,  Y10T428/12993 ,  Y10T428/31 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31678 ,  Y10T428/31681

Abstract: 公开了电沉积铜箔，其20％或更多的光泽面的晶体具有孪晶结构；用电解工艺制造电沉积铜箔的方法，包括制出分离的铜箔，其特征是将晶粒尺寸号为6.0的钛材料用作旋转阴极鼓，将含0.2－20mg/l的胶和/或明胶的硫酸铜溶液用作电解液。该电沉积铜箔的使用可提供显示与抗蚀层粘合良好的铜箔，无需在铜箔线路蚀刻工艺的表面预处理中进行机械抛光(如磨光)。

公开(公告)号：CN1341164A

公开(公告)日：2002-03-20

申请号：CN00804324.8

申请日：2000-11-27

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 中野修 ,  片冈卓 ,  妙中咲子 ,  内田直仁 ,  半泽规子

IPC: C25D1/04 ,  H05K1/09

CPC classification number: C25D3/38 ,  C25D1/04 ,  H05K1/09 ,  H05K2201/0355 ,  Y10S428/901 ,  Y10T428/12431 ,  Y10T428/12993 ,  Y10T428/31 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31678 ,  Y10T428/31681

Abstract: 公开了电沉积铜箔,其20%或更多的光泽面的晶体具有孪晶结构;用电解工艺制造电沉积铜箔的方法,包括制出分离的铜箔,其特征是将晶粒尺寸号为6.0的钛材料用作旋转阴极鼓,将含0.2－20mg/l的胶和/或明胶的硫酸铜溶液用作电解液。该电沉积铜箔的使用可提供显示与抗蚀层粘合良好的铜箔,无需在铜箔线路蚀刻工艺的表面预处理中进行机械抛光(如磨光)。

公开(公告)号：CN1247821C

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN00804324.8

申请日：2000-11-27

Applicant: 三井金属鉱业株式会社

Inventor： 中野修 ,  片冈卓 ,  妙中咲子 ,  内田直仁 ,  半泽规子

IPC: C25D1/04 ,  H05K1/09

CPC classification number: C25D3/38 ,  C25D1/04 ,  H05K1/09 ,  H05K2201/0355 ,  Y10S428/901 ,  Y10T428/12431 ,  Y10T428/12993 ,  Y10T428/31 ,  Y10T428/31504 ,  Y10T428/31678 ,  Y10T428/31681

Abstract: 公开了电沉积铜箔，其20%或更多的光泽面的晶体具有孪晶结构；用电解工艺制造电沉积铜箔的方法，包括制出分离的铜箔，其特征是将晶粒尺寸号为6.0的钛材料用作旋转阴极鼓，将含0.2-20mg/l的胶和/或明胶的硫酸铜溶液用作电解液。该电沉积铜箔的使用可提供显示与抗蚀层粘合良好的铜箔，无需在铜箔线路蚀刻工艺的表面预处理中进行机械抛光(如磨光)。