プリント配線板の製造方法
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2018181742A1

    公开(公告)日:2020-02-13

    申请号:JP2018013312

    申请日:2018-03-29

    Abstract: 本発明の絶縁性樹脂基材の両面に金属箔が積層された金属張積層板を用いた、プリント配線板の製造方法は、少なくとも(1)前記金属張積層板の表面(A)の所定位置にレーザーを照射して、前記表面(A)の反対面の金属箔まで至るバイアホールを設ける工程と、(2)前記表面(A)の反対側の表面(B)の所定位置にレーザーを照射して、前記表面(B)の反対面の金属箔まで至るバイアホールを設ける工程とを含む。

    半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法及び半導体素子実装基板の製造方法

    公开(公告)号:JPWO2018003703A1

    公开(公告)日:2019-05-16

    申请号:JP2017023237

    申请日:2017-06-23

    Abstract: 第1の絶縁樹脂層とケイ素化合物を少なくとも含む剥型層と厚さが1μm〜5μmである極薄銅箔とをこの順で含む回路形成用支持基板を形成する基板形成工程(a);回路形成用支持基板の極薄銅箔上にパターン電解銅めっきによって第1の配線導体を形成する第1の配線導体形成工程(b);第1の配線導体と接するように第2の絶縁樹脂層を配置し第2の絶縁樹脂層を加熱加圧して積層する積層工程(c);第2の絶縁樹脂層に、第1の配線導体に達する非貫通孔を形成し、非貫通孔の内壁を電解銅めっき及び/又は無電解銅めっきによって接続させて第2の配線導体を形成する第2の配線導体形成工程(d);第1の配線導体及び第2の配線導体が形成された回路形成用支持基板から第1の絶縁樹脂層を剥離する剥離工程(e);剥型層及び/又は前記極薄銅箔を除去する除去工程(f)を含む半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法。

    プリプレグ、金属箔張積層板及びプリント配線板

    公开(公告)号:JP2018204037A

    公开(公告)日:2018-12-27

    申请号:JP2018189714

    申请日:2018-10-05

    Abstract: 【課題】薄型化したプリント配線板の製造に用いるプリプレグであって、剛性が高く、且つ面方向の熱膨脹率が小さいことに加え、外観に優れるプリプレグを提供することを目的とする。 【解決手段】 熱硬化性樹脂(A)及び無機充填材(B)を含む熱硬化性樹脂組成物(C)と、該熱硬化性樹脂組成物(C)が含浸又は塗布されたガラスクロス(D)と、を有し、 前記ガラスクロス(D)が、該ガラスクロス(D)を構成するタテ糸の打ち込み本数をX(本/インチ)、ヨコ糸の打ち込み本数をY(本/インチ)、前記タテ糸1本当たりのフィラメント数をx(本)、前記ヨコ糸1本当たりのフィラメント数をy(本)、厚みをt(μm)とした場合に、下記式(I)〜(III)を満たすものであり、 (x+y)≦95 (I) 1.9 t 該熱硬化性樹脂組成物(C)における前記無機充填材(B)の含有量が、前記熱硬化性樹脂(A)100質量部に対して、110〜700質量部である、 プリプレグ。 【選択図】なし

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