公开(公告)号：CN106003487A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610192105.0

申请日：2016-03-30

Applicant: 东和株式会社

Inventor： 藤原邦彦 ,  东大助 ,  岸本智子

IPC: B29C33/38 ,  C23C14/08

CPC classification number: B29C33/3828 ,  C23C14/083

Abstract: 本发明的成型模具是成型成型品时所使用的成型模具，其包括：金属制的基材(10)；陶瓷层(20)，该陶瓷层设置在基材(10)之上，包含氧化钇、氮及4A族元素的阳离子，用于与成型品接触。上述成型模具还可以包括介于基材(10)和陶瓷层(20)之间的中间层(30)。中间层(30)具有硬度高于基材(10)的硬度并且韧性大于陶瓷层(20)的韧性的部分。上述成型模具在模具表面被清洁后接着用于成型成型品。

公开(公告)号：CN113330140B

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN201980089119.1

申请日：2019-11-26

Applicant: 东和株式会社

Inventor： 竹内慎 ,  浅田武男 ,  荒木宏祐 ,  东大助 ,  岸本智子 ,  保田琢磨 ,  森山和男 ,  清水裕贵

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/06

Abstract: 本发明提供一种成膜品的制造方法及溅射装置，可抑制形成于工件的薄膜的不均的产生。本发明包括：工件保持步骤，以能够以第一旋转轴(20)为中心而公转，且能够以第二旋转轴(60)为中心而自转的方式保持工件(W)，所述第二旋转轴(60)相对于靶材(6)倾斜；以及成膜步骤，一面进行以所述第一旋转轴为中心的公转及以所述第二旋转轴为中心的自转，一面利用所述靶材(6)，对所述工件(W)进行成膜。

公开(公告)号：CN113330140A

公开(公告)日：2021-08-31

申请号：CN201980089119.1

申请日：2019-11-26

Applicant: 东和株式会社

Inventor： 竹内慎 ,  浅田武男 ,  荒木宏祐 ,  东大助 ,  岸本智子 ,  保田琢磨 ,  森山和男 ,  清水裕贵

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/06

Abstract: 本发明提供一种成膜品的制造方法，可抑制形成于工件的薄膜的不均的产生。本发明包括：工件保持步骤，以能够以第一旋转轴(旋转轴20)为中心而公转，且能够以第二旋转轴(工件保持部60)为中心而自转的方式保持工件W，所述第二旋转轴(工件保持部60)相对于靶材6(溅射靶材)倾斜；以及成膜步骤，一面进行以所述第一旋转轴为中心的公转、及以所述第二旋转轴为中心的自转，一面利用所述靶材6，对所述工件W进行成膜。

公开(公告)号：CN105082414A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201510199771.2

申请日：2015-04-23

Applicant: 东和株式会社

Inventor： 坂东和彦 ,  藤原邦彦 ,  东大助 ,  岸本智子 ,  野口欣纪 ,  白井健士郎

IPC: B29C33/56

Abstract: 本发明提供一种脱模性和防污性优异且难以产生裂纹、缺损的成形模。成形模在成形成形品时所使用，该成形模包括：金属制的基材(10)；以及陶瓷层(20)，其设于基材(10)上，包含氧化钇、氮和4A族元素的阳离子，且与成形品相接触。上述成形模也可以还包括介于基材(10)与陶瓷层(20)之间的中间层(30)。中间层(30)具有硬度比基材(10)的硬度高且韧性比陶瓷层(20)的韧性高的部分。