公开(公告)号：CN1319681A

公开(公告)日：2001-10-31

申请号：CN01111757.5

申请日：2001-03-23

Applicant: 住友特殊金属株式会社

Inventor： 西内武司 ,  嶋本育夫 ,  菊井文秋 ,  栃下佳己 ,  佐藤一光

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/14 ,  H01F41/00

CPC classification number: C23C14/505 ,  H01F1/0556 ,  H01F41/026

Abstract: 本发明第一实施例提供了一种沉积膜形成设备,其中筒体和蒸发段之间的距离可以改变,因此可以同时取得在每个装在筒体中的工件表面上有效形成沉积膜以及抑制其软化。则可以抑制在每个工件表面上形成的沉积膜的损坏以及在沉积膜上产生突起,并以高质量的抗腐蚀性和较低的成本形成沉积膜。根据本发明第二实施例的沉积膜形成设备,限定在筒体中的容装段和蒸发段之间的距离改变,此沉积膜形成设备具有与本发明第一实施例的沉积膜沉积设备相似的效果。