公开(公告)号：CN1276440A

公开(公告)日：2000-12-13

申请号：CN00108341.4

申请日：2000-05-12

Applicant: 住友特殊金属株式会社

Inventor： 西内武司 ,  栃下佳己 ,  菊井文秋 ,  木泽光央

IPC: C23C14/24 ,  H01F7/02 ,  H01F41/32

CPC classification number: C23C14/223 ,  C23C14/16 ,  C23C14/246 ,  C23C14/505 ,  H01F41/026 ,  Y10S428/928 ,  Y10S428/938 ,  Y10T428/12063 ,  Y10T428/12465 ,  Y10T428/12778

Abstract: 本发明的表面处理方法是在汽相淀积控制气体已供送到至少靠近材料熔化/蒸发源和处理室内的产品的区域的状态下,通过蒸发汽相淀积材料。这样,不需要花较长时间来提高真空度,而且不需要使用专门的设备既可在理想的产品上,形成稳定的汽相淀积膜。本发明的一种表面处理设备包括用来熔化和蒸发包含汽相淀积控制气体的线形汽相淀积材料的熔化/蒸发源。熔化/蒸发源和产品盛放部件布置在表面处理室的处理室内。该设备还包括汽相淀积材料供送装置。

公开(公告)号：CN1319681A

公开(公告)日：2001-10-31

申请号：CN01111757.5

申请日：2001-03-23

Applicant: 住友特殊金属株式会社

Inventor： 西内武司 ,  嶋本育夫 ,  菊井文秋 ,  栃下佳己 ,  佐藤一光

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/14 ,  H01F41/00

CPC classification number: C23C14/505 ,  H01F1/0556 ,  H01F41/026

Abstract: 本发明第一实施例提供了一种沉积膜形成设备,其中筒体和蒸发段之间的距离可以改变,因此可以同时取得在每个装在筒体中的工件表面上有效形成沉积膜以及抑制其软化。则可以抑制在每个工件表面上形成的沉积膜的损坏以及在沉积膜上产生突起,并以高质量的抗腐蚀性和较低的成本形成沉积膜。根据本发明第二实施例的沉积膜形成设备,限定在筒体中的容装段和蒸发段之间的距离改变,此沉积膜形成设备具有与本发明第一实施例的沉积膜沉积设备相似的效果。

公开(公告)号：CN1441855A

公开(公告)日：2003-09-10

申请号：CN01812597.2

申请日：2001-07-06

Applicant: 住友特殊金属株式会社

Inventor： 西内武司 ,  菊井文秋 ,  栃下佳己

IPC: C23C14/50 ,  H01F41/02 ,  C23C14/16

CPC classification number: C23C14/223 ,  C23C14/505 ,  C23C14/541 ,  H01F41/026

Abstract: 本发明的阻止在金属沉积薄膜上形成凸起的方法，其特征在于它使用一种气相沉积设备，所述设备包括真空处理腔内的一用于沉积材料的蒸发部分以及一容置元件或夹持元件，用于容置或夹持工件，通过使容置元件或夹持元件围绕水平轴线转动，可以将金属沉积材料沉积在工件的每个表面上。所进行的气相沉积导致形成在每个工件表面上的薄膜的维氏硬度保持在25或更高。根据本发明，当在诸如稀土金属基磁铁的工件表面上形成铝、锌或类似金属的金属沉积薄膜时，可以有效地阻止在金属沉积薄膜上产生凸起。

公开(公告)号：CN1317393A

公开(公告)日：2001-10-17

申请号：CN01112097.5

申请日：2001-03-30

Applicant: 住友特殊金属株式会社

Inventor： 栃下佳己 ,  奥野和明 ,  三角信弘 ,  西内武司

IPC: B24C3/28

CPC classification number: B24C3/28 ,  C23C14/028

Abstract: 一种喷丸设备，其中喷口设置成可以从由丝网形成用于容装工件并可以绕一个中心轴转动的管筒外侧将喷丸材料喷射到工件上，这样可以均匀而有效地搅动工件，使工件不会彼此堆积，而不会使工件彼此过度地碰撞以及不会使工件彼此以较大的冲击力彼此碰撞。因此处理效率提高并可以抑制工件的破碎和断裂。此外在喷丸设备中，管筒支撑在一个支撑件的中心轴的圆周外侧，支撑件可绕所述中心轴转动，这样可以更加有效地抑制工件的破碎和断裂。