公开(公告)号：CN1276440A

公开(公告)日：2000-12-13

申请号：CN00108341.4

申请日：2000-05-12

Applicant: 住友特殊金属株式会社

Inventor： 西内武司 ,  栃下佳己 ,  菊井文秋 ,  木泽光央

IPC: C23C14/24 ,  H01F7/02 ,  H01F41/32

CPC classification number: C23C14/223 ,  C23C14/16 ,  C23C14/246 ,  C23C14/505 ,  H01F41/026 ,  Y10S428/928 ,  Y10S428/938 ,  Y10T428/12063 ,  Y10T428/12465 ,  Y10T428/12778

Abstract: 本发明的表面处理方法是在汽相淀积控制气体已供送到至少靠近材料熔化/蒸发源和处理室内的产品的区域的状态下,通过蒸发汽相淀积材料。这样,不需要花较长时间来提高真空度,而且不需要使用专门的设备既可在理想的产品上,形成稳定的汽相淀积膜。本发明的一种表面处理设备包括用来熔化和蒸发包含汽相淀积控制气体的线形汽相淀积材料的熔化/蒸发源。熔化/蒸发源和产品盛放部件布置在表面处理室的处理室内。该设备还包括汽相淀积材料供送装置。