绝缘结构
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108573843A

    公开(公告)日:2018-09-25

    申请号:CN201810187130.9

    申请日:2018-03-07

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制因污染粒子的堆积而引起的绝缘性能下降的绝缘结构。在将设置于离子注入装置的真空区域内部的电极与其他部件绝缘并支承该电极的绝缘结构中,第1绝缘部件(32)支承电极。第2绝缘部件(34)为了减少污染粒子(18)向第1绝缘部件(32)的附着而嵌合于第1绝缘部件(32)。第2绝缘部件(34)由硬度比第1绝缘部件(32)低的材料形成。第2绝缘部件(34)的外表面的维氏硬度为5GPa以下。第2绝缘部件(34)的弯曲强度为100MPa以下。第2绝缘部件(34)由包含氮化硼、多孔陶瓷及树脂中的至少一种的材料形成。

    绝缘结构
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108573843B

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN201810187130.9

    申请日:2018-03-07

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制因污染粒子的堆积而引起的绝缘性能下降的绝缘结构。在将设置于离子注入装置的真空区域内部的电极与其他部件绝缘并支承该电极的绝缘结构中,第1绝缘部件(32)支承电极。第2绝缘部件(34)为了减少污染粒子(18)向第1绝缘部件(32)的附着而嵌合于第1绝缘部件(32)。第2绝缘部件(34)由硬度比第1绝缘部件(32)低的材料形成。第2绝缘部件(34)的外表面的维氏硬度为5GPa以下。第2绝缘部件(34)的弯曲强度为100MPa以下。第2绝缘部件(34)由包含氮化硼、多孔陶瓷及树脂中的至少一种的材料形成。

    绝缘结构、绝缘结构的制造方法、离子生成装置及离子注入装置

    公开(公告)号:CN114551195A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202111317962.6

    申请日:2021-11-09

    Inventor: 石田勇二

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制由于污染物的附着而导致的绝缘性能的降低的绝缘结构。绝缘结构(74)具备:第1端部(82);第2端部(84);轴部(86),连接第1端部(82)与第2端部(84)之间;及包围部(88),具有与轴部(86)的外表面(94)对置的内表面(96),并从第1端部(82)朝向第2端部(84)延伸。轴部(86)的外表面(94)与包围部(88)的内表面(96)之间的间隙(90)构成为与外部连通。第1端部(82)、第2端部(84)、轴部(86)及包围部(88)由电绝缘材料构成。

    离子生成装置及离子生成方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113498243A

    公开(公告)日:2021-10-12

    申请号:CN202110212058.2

    申请日:2021-02-25

    Inventor: 石田勇二

    Abstract: 本发明提供一种有助于提高离子注入工序的生产率的离子生成装置。离子生成装置(12)具备:等离子体生成室(78),生成用于引出离子的等离子体(P);及加热装置(90),构成为向区划等离子体生成室(78)的部件或暴露于等离子体生成室内的部件照射激光(LB)而加热等离子体生成室(78)。区划等离子体生成室(78)的部件也可以是电弧室(72)。加热装置(90)也可以构成为向电弧室(72)照射激光(LB)。

    离子注入装置的起弧室
    5.
    外观设计

    公开(公告)号:CN305120307S

    公开(公告)日:2019-04-19

    申请号:CN201830563622.4

    申请日:2018-10-10

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:离子注入装置的起弧室。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品作为离子注入装置的起弧室使用。
    3.本外观设计产品的设计要点:各视图所示的形状及图案。
    4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:设计1立体图1。
    5.指定基本设计:设计1。

    离子注入装置的抑制电极

    公开(公告)号:CN305419270S

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201830563644.0

    申请日:2018-10-10

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:离子注入装置的抑制电极。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于作为离子注入装置中的抑制电极使用。
    3.本外观设计产品的设计要点:各视图所示的形状及图案。
    4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:设计1立体图1。
    5.指定基本设计:设计1。

    离子注入装置的接地电极

    公开(公告)号:CN305188088S

    公开(公告)日:2019-05-31

    申请号:CN201830563632.8

    申请日:2018-10-10

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:离子注入装置的接地电极。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于作为离子注入装置中的接地电极使用。
    3.本外观设计产品的设计要点:各视图所示的形状及图案。
    4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:设计1立体图1。
    5.指定基本设计:设计1。

    离子注入装置的前开口部件

    公开(公告)号:CN304829898S

    公开(公告)日:2018-09-25

    申请号:CN201830028189.4

    申请日:2018-01-22

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:离子注入装置的前开口部件。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于供离子注入装置的离子束向外部引出。
    3.本外观设计产品的设计要点:各视图所示的形状及图案。
    4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:设计1立体图1。
    5.指定基本设计:设计1。

    离子注入装置的抑制电极

    公开(公告)号:CN305371835S

    公开(公告)日:2019-10-01

    申请号:CN201830563661.4

    申请日:2018-10-10

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:离子注入装置的抑制电极。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于作为离子注入装置的抑制电极使用。
    3.本外观设计产品的设计要点:各视图所示的形状及图案。
    4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:立体图1。

    离子注入装置的接地电极
    10.
    外观设计

    公开(公告)号:CN305182412S

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201830563636.6

    申请日:2018-10-10

    Abstract: 1.本外观设计产品的名称:离子注入装置的接地电极。
    2.本外观设计产品的用途:本外观设计产品用于作为离子注入装置中的接地电极使用。
    3.本外观设计产品的设计要点:各视图所示的形状及图案。
    4.最能表明本外观设计设计要点的图片或照片:设计1立体图1。
    5.指定基本设计:设计1。

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