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公开(公告)号:CN107731645B
公开(公告)日:2019-07-12
申请号:CN201711161213.2
申请日:2013-10-24
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J35/08 , C23C16/06 , G01N23/04 , H01J35/116 , H01J35/32 , H01J2235/081
Abstract: 本发明涉及透射型靶、具有该透射型靶的放射线发生管、放射线发生器和放射线成像装置。本发明涉及具有金刚石基材作为透射基材的透射型靶。该透射型靶能够抑制组成随透射型靶的驱动经历而变动并且能够长期抑制放射线的输出变动。该透射型靶包括:靶层,该靶层含有由选自钼、钽和钨中的至少一种金属和碳构成的金属碳化物;和支持该靶层的金刚石基材。
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公开(公告)号:CN107068522A
公开(公告)日:2017-08-18
申请号:CN201710167652.8
申请日:2014-12-05
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J35/08 , C23C16/01 , C23C16/27 , G01N23/04 , H01J35/045 , H01J2235/02 , H01J2235/081 , H01J2235/084 , H01J2235/087 , H01J2235/186 , H01J35/02 , H01J35/04
Abstract: 本公开内容涉及透射型靶和设有透射型靶的X射线发生管。透射型靶包括靶层和被配置为支撑该靶层的透射基板。透射基板具有彼此面对的一对表面,并且由多晶金刚石形成。在透射基板中,所述一对表面中的一个表面包括具有第一平均晶粒直径的多晶金刚石,第一平均晶粒直径小于与该表面相对的另一个表面上所包括的多晶金刚石的第二平均晶粒直径。靶层由所述一对表面中的任何一个表面支撑。
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公开(公告)号:CN104051206B
公开(公告)日:2016-05-11
申请号:CN201410088659.7
申请日:2014-03-12
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J35/18 , H01J2235/084 , H01J2235/087 , H05G1/06
Abstract: 本公开涉及透射型靶、放射线产生管、放射线产生设备和放射线照相系统。提供了放射线发射靶、放射线产生装置以及放射线照相系统,其中靶层和金刚石基板之间的粘合性被提高,并且展现稳定的放射线发射性能。透射型靶包括靶层、包含sp2键的含碳区域、以及支撑该靶层的金刚石基板。含碳区域被定位在该靶层和金刚石基板之间。
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公开(公告)号:CN104701118A
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:CN201410740256.6
申请日:2014-12-05
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J35/04
CPC classification number: H01J35/08 , C23C16/01 , C23C16/27 , G01N23/04 , H01J35/045 , H01J2235/02 , H01J2235/081 , H01J2235/084 , H01J2235/087 , H01J2235/186
Abstract: 本公开内容涉及透射型靶和设有透射型靶的X射线发生管。透射型靶包括靶层和被配置为支撑该靶层的透射基板。透射基板具有彼此面对的一对表面,并且由多晶金刚石形成。在透射基板中,所述一对表面中的一个表面包括具有第一平均晶粒直径的多晶金刚石,第一平均晶粒直径小于与该表面相对的另一个表面上所包括的多晶金刚石的第二平均晶粒直径。靶层由所述一对表面中的任何一个表面支撑。
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公开(公告)号:CN116974162A
公开(公告)日:2023-10-31
申请号:CN202310478142.8
申请日:2023-04-28
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及调色剂、调色剂的生产方法和双组分显影剂。调色剂包括调色剂颗粒和在调色剂颗粒的表面的二氧化硅细颗粒A,其中:调色剂的重均粒径为4.0至15.0μm;二氧化硅细颗粒A为已经进行了表面处理的处理过的二氧化硅细颗粒;通过二氧化硅细颗粒A和用己烷洗涤后的二氧化硅细颗粒A的固态DD/MAS 29Si‑NMR测量得到的各峰的面积在特定范围内,通过二氧化硅细颗粒A的固态DD/MAS 29Si‑NMR测量得到的峰的半值宽度在特定范围内。
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公开(公告)号:CN105914120B
公开(公告)日:2018-05-15
申请号:CN201610267120.7
申请日:2014-03-12
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J35/18 , H01J2235/084 , H01J2235/087 , H05G1/06
Abstract: 本公开涉及X射线产生靶、放射线产生管、放射线产生设备和放射线照相系统。提供了放射线发射靶、放射线产生装置以及放射线照相系统,其中靶层和金刚石基板之间的粘合性被提高,并且展现稳定的放射线发射性能。X射线产生靶包括靶层、包含sp2键的含碳区域、以及支撑该靶层的金刚石基板。含碳区域被定位在该靶层和金刚石基板之间。
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公开(公告)号:CN104701118B
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201410740256.6
申请日:2014-12-05
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J35/04
CPC classification number: H01J35/08 , C23C16/01 , C23C16/27 , G01N23/04 , H01J35/045 , H01J2235/02 , H01J2235/081 , H01J2235/084 , H01J2235/087 , H01J2235/186
Abstract: 本公开内容涉及透射型靶和设有透射型靶的X射线发生管。透射型靶包括靶层和被配置为支撑该靶层的透射基板。透射基板具有彼此面对的一对表面,并且由多晶金刚石形成。在透射基板中,所述一对表面中的一个表面包括具有第一平均晶粒直径的多晶金刚石,第一平均晶粒直径小于与该表面相对的另一个表面上所包括的多晶金刚石的第二平均晶粒直径。靶层由所述一对表面中的任何一个表面支撑。
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公开(公告)号:CN100592204C
公开(公告)日:2010-02-24
申请号:CN200710112260.8
申请日:2003-07-18
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/0035 , G02F1/136286 , G03F7/2022 , G03F7/2024 , H01J9/027
Abstract: 本发明提供一种构件图形、配线结构体以及图像显示装置的制造方法。在基板上具备图形化构件的构件图形的制造方法,包括:使施加到基板上的负性感光材料的所要求区域从第一方向进行曝光的第一曝光工序;从与上述第一曝光方向的相反的第二方向进行曝光的第二曝光工序;在上述曝光工序之后进行显影而形成上述构件的前体图形的显影工序;以及对上述前体图形进行焙烧的工序。
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公开(公告)号:CN100372041C
公开(公告)日:2008-02-27
申请号:CN03178640.5
申请日:2003-07-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J9/00 , H01J9/02 , H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0035 , G02F1/136286 , G03F7/2022 , G03F7/2024 , H01J9/027
Abstract: 提供一种构件图形的制造方法,该构件图形在基板上具备图形化构件,其特征在于包括:使施加到基板上的负型感光性材料的所要求区域从第一方向进行曝光的第一曝光工序;从与上述第一方向相反的第二方向进行曝光的第二曝光工序;在上述曝光工序之后进行显影而形成上述构件的前体图形的显影工序;以及对上述前体图形进行焙烧的工序,且上述负型感光性材料是跨在从预先配置于上述基板上的构件上到上述基板上而施加的。
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公开(公告)号:CN116974160A
公开(公告)日:2023-10-31
申请号:CN202310476701.1
申请日:2023-04-28
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及调色剂、调色剂生产方法和双组分显影剂。一种调色剂,其包括调色剂颗粒和在所述调色剂颗粒的表面上的二氧化硅细颗粒A,其中:所述调色剂的重均粒径为4.0~15.0μm;所述二氧化硅细颗粒A包含硅油,所述二氧化硅细颗粒A用己烷洗涤时的碳减少率为5~70%;并且在二氧化硅细颗粒A和用己烷洗涤后的二氧化硅细颗粒A的固体CP/MAS 29Si‑NMR测量中获得的各峰的面积在特定范围内。
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