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公开(公告)号：CN100503265C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200610091716.2
申请日：2006-06-07
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一种用于形成图案的图案形成方法，包括：制备模子104，该模子104具有包括图案区域1000的第一表面、与第一表面相对的第二表面以及被设在远离第二表面并靠近第一表面的位置处的对准标记2070；使模子104的图案区域1000与设在衬底5000上的涂覆材料接触；在涂覆材料被设于衬底5000上的对准标记2070和衬底5000彼此相对的部分处的情况下，通过利用对准标记2070和在衬底5000上设置的标记5300，来获得关于模子104和衬底5000的位置信息；以及在所述信息的基础上，实施衬底5000与模子104的高精度对准。
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公开(公告)号：CN1876395A
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200610091716.2
申请日：2006-06-07
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一种用于形成图案的图案形成方法，包括：制备模子104，该模子104具有包括图案区域1000的第一表面、与第一表面相对的第二表面以及被设在远离第二表面并靠近第一表面的位置处的对准标记2070；使模子104的图案区域1000与设在衬底5000上的涂覆材料接触；在涂覆材料被设于衬底5000上的对准标记2070和衬底5000彼此相对的部分处的情况下，通过利用对准标记2070和在衬底5000上设置的标记5300，来获得关于模子104和衬底5000的位置信息；以及在所述信息的基础上，实施衬底5000与模子104的高精度对准。
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公开(公告)号：CN1412622A
公开(公告)日：2003-04-23
申请号：CN02145784.0
申请日：2002-10-17
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/70525 , G03F7/70633 , G03F9/7046
Abstract: 在运行中，管理作为管理对象设备的设备管理方法，设定用于运行作为管理对象设备的参数(S205)；按照该设定的参数，运行设备(S220)；在该设备的运行中检查运行设备的结果的检查(S225)。从表示对由检查求出的第1参数值的运行结果的第1评价量，和按照与第1参数值不同的第2参数值(S215)表示运行结果的第2评价量(S210、S230)中决定参数值(S255、S260)。把第1参数值更新为决定的参数值，按照该更新后的参数值运行设备。
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公开(公告)号：CN113466982A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110319564.1
申请日：2021-03-25
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 提供了滤色器阵列、电子器件和滤色器阵列的制造方法。所述阵列包括配置于基部构件并且分别具有不同颜色的第一滤色器、第二滤色器和第三滤色器。第一滤色器和第三滤色器彼此相邻地配置，第二滤色器包括布置在第三滤色器的端部和基部构件之间的部分，并且第三滤色器的端部和第二滤色器的所述部分与第一滤色器接触。
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公开(公告)号：CN102200687B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201110071162.0
申请日：2011-03-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B29C59/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明涉及压印设备和制造物品的方法。一种在涂布在基板上的树脂与模子的图案表面彼此接触的同时使所述树脂固化的压印设备包括：供应部分，被配置为向所述模子的图案表面面向的空间供应气体，所述气体用于加速用所述树脂填充所述模子的图案表面的凹陷部分；以及控制器，被配置为控制所述供应部分以便在使所述树脂与所述模子的图案表面彼此接触之前向所述空间供应气体，其中所述供应部分被配置为经由在所述模子的至少一部分中形成的多孔部分来向所述空间供应气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103091840A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210405108.X
申请日：2012-10-23
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F9/7069 , G02B21/08 , H01J37/09 , H01J37/22 , H01J37/26
Abstract: 本发明提供了光学设备、位置检测设备、显微镜设备以及曝光设备。该光学设备包括：孔径光阑，包括第一孔和第二孔并且被固定在照明光学系统的光瞳面上，第一孔被配置为将用于照射照明表面的照明条件限定为第一条件，第二孔被配置为将照明条件限定为第二条件；遮光板；以及驱动单元，被配置为在将照明条件设定为第一条件时定位遮光板以使得遮光区域遮蔽从光源通过第二孔延伸到照明表面的第二路径，以及在将照明条件设定为第二条件时定位遮光板以使得遮光区域遮蔽从光源通过第一孔延伸到照明表面的第一路径。
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公开(公告)号：CN101454636A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200780019866.5
申请日：2007-05-30
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01B11/14 , G03F7/0002 , G03F9/00 , G03F9/703 , G03F9/7092
Abstract: 一种用于通过如下方式来测量两个部件之间的间隙的间隙测量方法，其中，利用来自一个部件侧的光来照射被布置为彼此相对的所述两个部件，以获得关于来自另一部件侧的反射光或透射光的强度的谱数据；通过将获得的谱数据与数据库进行比较来确定第一部件与第二部件之间的间隙，其中，在所述数据库中，间隙长度与强度谱彼此关联。该间隙测量方法用于在压印方法和用于纳米压印的设备中控制模子与基底之间的间隙。
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公开(公告)号：CN101292195A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200680038978.0
申请日：2006-10-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种将提供给模具的图案压印到衬底或衬底上的元件上的压印装置，包括：光源，其用光辐照与所述衬底相对布置的所述模具的表面和所述衬底的表面；光学系统，其用于将来自所述光源的光导引到所述模具的表面和所述衬底的表面并且将来自这些表面的反射光导引到分光镜；分光镜，其用于将所述光学系统导引的反射光散射成光谱；和分析器，其用于分析所述模具的表面和所述衬底的表面之间的距离。所述分析器通过测量所述模具的表面和在远离所述模具的表面的位置形成的表面之间的距离计算所述模具的表面和所述衬底的表面之间的距离。
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公开(公告)号：CN102053490B
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201010539354.5
申请日：2007-04-18
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/00 , G03F9/703 , G03F9/7049 , G03F9/7088
Abstract: 本发明涉及一种压印设备，其执行印模和基片之间的对准并将印模的图案压印到基片的层上，该压印设备包括：支撑部，被配置为支撑印模；工作台，被配置为与支撑部支撑的印模相对地支撑基片；和显微镜，包含图像拾取装置，显微镜被配置为经由图像拾取装置的第一图像拾取区域检测具有第一周期性结构并且形成在印模中的第一对准标记，以及经由图像拾取装置的第二图像拾取区域检测具有第二周期性结构并且形成在印模中的第二对准标记，第一和第二图像拾取区域彼此不重叠，其中，压印设备被配置为使得通过将经由第一图像拾取区域检测到的第一对准标记的基频分量与经由第二图像拾取区域检测到的第二对准标记的基频分量数值相乘而获得莫尔条纹的相位。
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公开(公告)号：CN103295863A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310057029.9
申请日：2013-02-22
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J37/153
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/26 , H01J37/3045 , H01J37/3177
Abstract: 本发明涉及描绘设备以及制造物品的方法。一种利用多个带电粒子束在衬底上描绘图案的描绘设备包括：带电粒子光学系统，被配置为将多个带电粒子束发射到衬底上；以及控制器，被配置为控制带电粒子光学系统的操作。控制器被配置为控制所述操作以便补偿基于衬底的表面的起伏的第一数据和多个带电粒子束中的每一个带电粒子束相对于带电粒子光学系统的轴的倾斜的第二数据而确定的图案的畸变。
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