一种提高真空面源黑体均匀性的精细划分控制系统

    公开(公告)号:CN103677012B

    公开(公告)日:2016-11-02

    申请号:CN201310629300.1

    申请日:2013-11-28

    Abstract: 本发明公开了一种提高真空面源黑体均匀性的精细划分控制系统,本系统包括温度控制仪表、温度传感器、信号调理电路、面源黑体辐射源;所述面源黑体辐射源设有N个区域,每一区域设置一加热片,所述信号调理电路为一分N信号调理电路;所述信号调理电路的电压信号输入端与所述温度控制仪表的电压信号输出端连接,其每一电压信号输出端口分别经一程控电源与一所述加热片连接;所述温度传感器设于所述面源黑体辐射源上,并通过数据线与所述温度控制仪表的信号输入端连接。本系统具有均匀性好、稳定速度快,而且结构简单、成本低。

    一种适用于真空条件下面源黑体宽温度范围控制系统

    公开(公告)号:CN103677011B

    公开(公告)日:2016-01-27

    申请号:CN201310626223.4

    申请日:2013-11-28

    Abstract: 本发明公开了一种适用于真空条件下面源黑体宽温度范围控制系统。本系统包括温度控制仪表、程控电源、温度传感器、制冷装置、加热片和面源黑体辐射源;其中,所述加热片、所述温度控制仪表分别设置于所述面源黑体辐射源上,所述温度控制仪表的第一路控制信号输出端经所述程控电源与所述加热片连接,所述温度控制仪表的第二路控制信号输出端与所述制冷装置的控制端连接,所述制冷装置与所述面源黑体辐射源连接;所述温度传感器所述温度控制仪表的信号输入端连接。本系统可以有效的提高面源黑体的温度控制范围,特别是制冷方式,能够使得面源黑体控制温度下限达到190K,能逼真的模拟真空低温红外辐射标准源。

    一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统

    公开(公告)号:CN103954366B

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201410174914.X

    申请日:2014-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统。本系统包括红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置、计算机控制单元;其中红外信号传输光学系统位于待校准面源黑体之前,安装在二维扫描转置上,红外信号传输光学系统的输出端与光调制器输入端连接;红外探测器用于接收光调制器的输出信息,其输出端经AD信号卡与计算机控制单元连接;待校准面源黑体、红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置位于同一真空仓内。本发明能够实现真空低温条件下超大面源黑体校准的系统,填补了此项技术空白。

    一种提高真空面源黑体均匀性的精细划分控制系统

    公开(公告)号:CN103677012A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310629300.1

    申请日:2013-11-28

    Abstract: 本发明公开了一种提高真空面源黑体均匀性的精细划分控制系统,本系统包括温度控制仪表、温度传感器、信号调理电路、面源黑体辐射源;所述面源黑体辐射源设有N个区域,每一区域设置一加热片,所述信号调理电路为一分N信号调理电路;所述信号调理电路的电压信号输入端与所述温度控制仪表的电压信号输出端连接,其每一电压信号输出端口分别经一程控电源与一所述加热片连接;所述温度传感器设于所述面源黑体辐射源上,并通过数据线与所述温度控制仪表的信号输入端连接。本系统具有均匀性好、稳定速度快,而且结构简单、成本低。

    用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统

    公开(公告)号:CN103940519A

    公开(公告)日:2014-07-23

    申请号:CN201410174852.2

    申请日:2014-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统。本系统包括转接接口、折转光学系统、成像镜组、调焦镜组、红外面阵探测器、信号处理单元;待测面源黑体与所述折转光学系统位于同一真空舱内,所述成像镜组通过所述转接接口与所述真空舱连接;所述折转光学系统位于待测面源黑体之前,用于将待测面源黑体的红外光线反射入所述成像镜组输入端口,所述成像镜组输出光线经所述调焦镜组输入所述红外面阵探测器,其输出端经AD信号卡与所述信号处理单元连接。本发明能够实现真空低温条件下超大面源黑体校准的系统,填补了此项技术空白。

    一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统

    公开(公告)号:CN103954366A

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201410174914.X

    申请日:2014-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种用于真空低温条件下的超大面源黑体校准系统。本系统包括红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置、计算机控制单元;其中红外信号传输光学系统位于待校准面源黑体之前,安装在二维扫描转置上,红外信号传输光学系统的输出端与光调制器输入端连接;红外探测器用于接收光调制器的输出信息,其输出端经AD信号卡与计算机控制单元连接;待校准面源黑体、红外信号传输光学系统、光调制器、红外探测器、AD信号采集卡、二维扫描装置位于同一真空仓内。本发明能够实现真空低温条件下超大面源黑体校准的系统,填补了此项技术空白。

    一种适用于真空条件下面源黑体宽温度范围控制系统

    公开(公告)号:CN103677011A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310626223.4

    申请日:2013-11-28

    Abstract: 本发明公开了一种适用于真空条件下面源黑体宽温度范围控制系统。本系统包括温度控制仪表、程控电源、温度传感器、制冷装置、加热片和面源黑体辐射源;其中,所述加热片、所述温度控制仪表分别设置于所述面源黑体辐射源上,所述温度控制仪表的第一路控制信号输出端经所述程控电源与所述加热片连接,所述温度控制仪表的第二路控制信号输出端与所述制冷装置的控制端连接,所述制冷装置与所述面源黑体辐射源连接;所述温度传感器所述温度控制仪表的信号输入端连接。本系统可以有效的提高面源黑体的温度控制范围,特别是制冷方式,能够使得面源黑体控制温度下限达到190K,能逼真的模拟真空低温红外辐射标准源。

    一种外场型红外辐射计
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103335730A

    公开(公告)日:2013-10-02

    申请号:CN201310260942.9

    申请日:2013-06-27

    Abstract: 本发明涉及光学测试技术领域,具体的讲是一种外场型红外辐射计,其中汇聚主镜与斩波器相连接,斩波器与标准参考黑体源相连接,斩波器还与滤光片相连接,滤光片与中性衰减片相连接,中性衰减片与光谱校正片相连接,光谱校正片与红外探测器相连接,信号采集部件分别与红外探测器和所述斩波器相连接。通过上述实施例,通过光谱校正片可以使整个系统在测量波段内的光谱相应曲线为一条平坦的曲线,提高了整个系统的线性度和测量精度,避免测量结构受被测目标辐射光谱的影响;采用不同衰减比的中性滤光片,扩展设备的动态范围,使设备具有多个量程,能够测量强辐射和微弱辐射目标。

    一种外场型红外辐射计
    9.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203376060U

    公开(公告)日:2014-01-01

    申请号:CN201320373649.9

    申请日:2013-06-27

    Abstract: 本实用新型涉及光学测试技术领域,具体的讲是一种外场型红外辐射计,其中汇聚主镜与斩波器相连接,斩波器与标准参考黑体源相连接,斩波器还与滤光片相连接,滤光片与中性衰减片相连接,中性衰减片与光谱校正片相连接,光谱校正片与红外探测器相连接,信号采集部件分别与红外探测器和所述斩波器相连接。通过上述实施例,通过光谱校正片可以使整个系统在测量波段内的光谱相应曲线为一条平坦的曲线,提高了整个系统的线性度和测量精度,避免测量结构受被测目标辐射光谱的影响;采用不同衰减比的中性滤光片,扩展设备的动态范围,使设备具有多个量程,能够测量强辐射和微弱辐射目标。

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