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公开(公告)号：CN102301281B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201080005865.7
申请日：2010-01-25
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： A.肖尔茨 , F.施莱森纳 , N.哈弗坎普 , V.戴维登科 , M.格哈德 , G-W.齐格勒 , M.克恩 , T.比肖夫 , T.斯塔姆勒 , S.凯尔纳 , M.莫尔 , D.沃尔多夫 , I.休雷维科 , M.德冈瑟
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
Abstract: 一种用于微光刻的照明系统用于通过一次光源的照明光照明一照明场。第一光栅布置(12)具有布置在照明系统的第一平面或该第一平面附近的成束第一光栅元件(24)。第一光栅布置(12)用于产生二次光源的光栅布置。传输透镜用于将二次光源的照明光的传输叠加到照明场中。传输透镜具有第二光栅布置(15)，第二光栅布置(15)具有成束第二光栅元件(26)。第一光栅布置(12)的每个光栅元件(24)被与第二光栅布置(15)的光栅元件(26)之一相关，用于引导照明光的整个光束的部分光束(25)。例如，第一光栅布置(12)具有至少两个类型(I、II、III)的第一光栅元件(24)，它们具有不同的束影响效果。两个光栅布置(12、15)的光栅元件(24、26)相对于彼此布置，使得每个光栅元件类型(I至III)与至少一个单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)相关，所述单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)在此类型(I至III)的光栅元件(24)与第二光栅布置(15)的所相关的光栅元件(26)之间。结果是一种照明系统，利用该照明系统，可以影响特定的照明参数，从而最大可能地避免了对其它照明参数的不期望的影响。
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公开(公告)号：CN102884480A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：CN201080066624.3
申请日：2010-05-06
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B17/0892 , G03F7/70116 , G03F7/70941
Abstract: 一种微光刻投射曝光装置的照明系统包含空间光调制器(58)，其改变瞳面(38)中的强度分布。调制器(58)包含反射镜(64)的阵列(62)，反射镜(64)将照到的投射光(34)反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向。棱镜(60)朝向空间光调制器(58)导引投射光(34)，并具有投射光(34)照射两次的双通表面(76)，即，第一次为离开棱镜(60)时且在被反射镜(64)反射之前，第二次为进入棱镜(60)时且在被反射镜(64)反射之后。提供瞳干扰抑制装置，当投射光(34)第一次照到双通表面(76)时，降低投射光(34)的反射，和/或避免反射造成的光部分(78)贡献于瞳面(38)中的强度分布。
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公开(公告)号：CN102884480B
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201080066624.3
申请日：2010-05-06
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B17/0892 , G03F7/70116 , G03F7/70941
Abstract: 一种微光刻投射曝光装置的照明系统包含空间光调制器(58)，其改变瞳面(38)中的强度分布。调制器(58)包含反射镜(64)的阵列(62)，反射镜(64)将照到的投射光(34)反射到取决于施加到反射镜的控制信号的方向。棱镜(60)朝向空间光调制器(58)导引投射光(34)，并具有投射光(34)照射两次的双通表面(76)，即，第一次为离开棱镜(60)时且在被反射镜(64)反射之前，第二次为进入棱镜(60)时且在被反射镜(64)反射之后。提供瞳干扰抑制装置，当投射光(34)第一次照到双通表面(76)时，降低投射光(34)的反射，和/或避免反射造成的光部分(78)贡献于瞳面(38)中的强度分布。
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公开(公告)号：CN102301281A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201080005865.7
申请日：2010-01-25
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： A.肖尔茨 , F.施莱森纳 , N.哈弗坎普 , V.戴维登科 , M.格哈德 , G-W.齐格勒 , M.克恩 , T.比肖夫 , T.斯塔姆勒 , S.凯尔纳 , M.莫尔 , D.沃尔多夫 , I.休雷维科 , M.德冈瑟
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
Abstract: 一种用于微光刻的照明系统用于通过一次光源的照明光照明一照明场。第一光栅布置(12)具有布置在照明系统的第一平面或该第一平面附近的成束第一光栅元件(24)。第一光栅布置(12)用于产生二次光源的光栅布置。传输透镜用于将二次光源的照明光的传输叠加到照明场中。传输透镜具有第二光栅布置(15)，第二光栅布置(15)具有成束第二光栅元件(26)。第一光栅布置(12)的每个光栅元件(24)被与第二光栅布置(15)的光栅元件(26)之一相关，用于引导照明光的整个光束的部分光束(25)。例如，第一光栅布置(12)具有至少两个类型(I、II、III)的第一光栅元件(24)，它们具有不同的束影响效果。两个光栅布置(12、15)的光栅元件(24、26)相对于彼此布置，使得每个光栅元件类型(I至III)与至少一个单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)相关，所述单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)在此类型(I至III)的光栅元件(24)与第二光栅布置(15)的所相关的光栅元件(26)之间。结果是一种照明系统，利用该照明系统，可以影响特定的照明参数，从而最大可能地避免了对其它照明参数的不期望的影响。
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