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公开(公告)号：CN102301281B
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：CN201080005865.7
申请日：2010-01-25
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： A.肖尔茨 , F.施莱森纳 , N.哈弗坎普 , V.戴维登科 , M.格哈德 , G-W.齐格勒 , M.克恩 , T.比肖夫 , T.斯塔姆勒 , S.凯尔纳 , M.莫尔 , D.沃尔多夫 , I.休雷维科 , M.德冈瑟
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
Abstract: 一种用于微光刻的照明系统用于通过一次光源的照明光照明一照明场。第一光栅布置(12)具有布置在照明系统的第一平面或该第一平面附近的成束第一光栅元件(24)。第一光栅布置(12)用于产生二次光源的光栅布置。传输透镜用于将二次光源的照明光的传输叠加到照明场中。传输透镜具有第二光栅布置(15)，第二光栅布置(15)具有成束第二光栅元件(26)。第一光栅布置(12)的每个光栅元件(24)被与第二光栅布置(15)的光栅元件(26)之一相关，用于引导照明光的整个光束的部分光束(25)。例如，第一光栅布置(12)具有至少两个类型(I、II、III)的第一光栅元件(24)，它们具有不同的束影响效果。两个光栅布置(12、15)的光栅元件(24、26)相对于彼此布置，使得每个光栅元件类型(I至III)与至少一个单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)相关，所述单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)在此类型(I至III)的光栅元件(24)与第二光栅布置(15)的所相关的光栅元件(26)之间。结果是一种照明系统，利用该照明系统，可以影响特定的照明参数，从而最大可能地避免了对其它照明参数的不期望的影响。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102934030A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN201180022451.X
申请日：2011-05-03
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G02B5/08 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03C3/06 , C03C10/00 , C03C14/00 , C03C2201/42 , G03F7/70891
Abstract: 对于用于EUV光刻的反射镜的制造，建议基底在15℃的温差ΔT上具有不大于10ppb的平均相对纵向热膨胀，并在20℃和40℃之间的范围内具有过零温度。为了该目的，至少选择一个第一材料和一个第二材料，该第一材料和一个第二材料具有低热膨胀系数和作为温度函数的相对热膨胀的相反斜率，并且通过混合和粘合这些材料来制造基底。
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公开(公告)号：CN102934030B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201180022451.X
申请日：2011-05-03
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
CPC classification number: G02B5/08 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03C3/06 , C03C10/00 , C03C14/00 , C03C2201/42 , G03F7/70891
Abstract: 对于用于EUV光刻的反射镜的制造，建议基底在15℃的温差ΔT上具有不大于10ppb的平均相对纵向热膨胀，并在20℃和40℃之间的范围内具有过零温度。为了该目的，至少选择一个第一材料和一个第二材料，该第一材料和一个第二材料具有低热膨胀系数和作为温度函数的相对热膨胀的相反斜率，并且通过混合和粘合这些材料来制造基底。
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公开(公告)号：CN102301281A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201080005865.7
申请日：2010-01-25
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： A.肖尔茨 , F.施莱森纳 , N.哈弗坎普 , V.戴维登科 , M.格哈德 , G-W.齐格勒 , M.克恩 , T.比肖夫 , T.斯塔姆勒 , S.凯尔纳 , M.莫尔 , D.沃尔多夫 , I.休雷维科 , M.德冈瑟
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70191 , G02B3/0043 , G03F7/70058 , G03F7/70075 , G03F7/70083
Abstract: 一种用于微光刻的照明系统用于通过一次光源的照明光照明一照明场。第一光栅布置(12)具有布置在照明系统的第一平面或该第一平面附近的成束第一光栅元件(24)。第一光栅布置(12)用于产生二次光源的光栅布置。传输透镜用于将二次光源的照明光的传输叠加到照明场中。传输透镜具有第二光栅布置(15)，第二光栅布置(15)具有成束第二光栅元件(26)。第一光栅布置(12)的每个光栅元件(24)被与第二光栅布置(15)的光栅元件(26)之一相关，用于引导照明光的整个光束的部分光束(25)。例如，第一光栅布置(12)具有至少两个类型(I、II、III)的第一光栅元件(24)，它们具有不同的束影响效果。两个光栅布置(12、15)的光栅元件(24、26)相对于彼此布置，使得每个光栅元件类型(I至III)与至少一个单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)相关，所述单独自由距离(ΔI、ΔII、ΔIII)在此类型(I至III)的光栅元件(24)与第二光栅布置(15)的所相关的光栅元件(26)之间。结果是一种照明系统，利用该照明系统，可以影响特定的照明参数，从而最大可能地避免了对其它照明参数的不期望的影响。
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公开(公告)号：CN102314096A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110264583.5
申请日：2007-02-16
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： O.伍尔夫 , H.西克曼 , E.卡尔切布莱纳 , S.雷南 , J.旺格勒 , A.布雷桑 , M.格哈德 , N.哈弗坎普 , A.舍尔茨 , R.沙恩韦伯尔 , M.莱 , S.布尔卡特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70958 , G03F7/70075 , Y10T83/0304 , Y10T83/04
Abstract: 一种制造用于微光刻投影曝光设备中的照射系统的长的微透镜阵列的方法，所述方法包括下述步骤：a)提供衬底(30)；b)提供包括切割刃(24)的切割工具(22)；c)在快速切割工艺中相对于所述衬底(30)重复移动所述切割工具(22)，从而使得所述切割刃能够切割入所述衬底(30)；d)在步骤c)中沿着平行于所述微透镜的纵向轴的纵向方向(X)移动所述衬底(30)；e)至少基本垂直于所述纵向方向(X)移动所述衬底(30)；f)重复所述步骤c)和d)。
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公开(公告)号：CN102314096B
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201110264583.5
申请日：2007-02-16
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Inventor： O.伍尔夫 , H.西克曼 , E.卡尔切布莱纳 , S.雷南 , J.旺格勒 , A.布雷桑 , M.格哈德 , N.哈弗坎普 , A.舍尔茨 , R.沙恩韦伯尔 , M.莱 , S.布尔卡特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70958 , G03F7/70075 , Y10T83/0304 , Y10T83/04
Abstract: 一种制造用于微光刻投影曝光设备中的照射系统的长的微透镜阵列的方法，所述方法包括下述步骤：a)提供衬底(30)；b)提供包括切割刃(24)的切割工具(22)；c)在快速切割工艺中相对于所述衬底(30)重复移动所述切割工具(22)，从而使得所述切割刃能够切割入所述衬底(30)；d)在步骤c)中沿着平行于所述微透镜的纵向轴的纵向方向(X)移动所述衬底(30)；e)至少基本垂直于所述纵向方向(X)移动所述衬底(30)；f)重复所述步骤c)和d)。
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