公开(公告)号：CN112585537B

公开(公告)日：2024-07-09

申请号：CN201980045268.8

申请日：2019-07-09

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.凯斯 ,  S.贝佐尔德 ,  M.曼格 ,  C.佩特里 ,  P.亚历克西夫 ,  W.保尔斯

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明有关于一种用以产生用于投射曝光装置(1)的反射光学元件的方法，其中该反射光学元件包含具有基板表面(31)、保护层(38)和适合用于EUV波长范围的层部分系统(39)的基板(30)，所述方法包含以下方法步骤：a)测量基板表面(31)，b)在多个电子(36)的协助下照射基板(30)，c)对基板(30)进行回火。此外，本发明有关于一种用于EUV波长范围的反射光学元件。另外，本发明有关于一种投射镜头，其包含作为反射光学元件的反射镜(18、19、20)，并且本发明有关于一种包含投射镜头的投射曝光装置(1)。

公开(公告)号：CN112585537A

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：CN201980045268.8

申请日：2019-07-09

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： M.凯斯 ,  S.贝佐尔德 ,  M.曼格 ,  C.佩特里 ,  P.亚历克西夫 ,  W.保尔斯

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明有关于一种用以产生用于投射曝光装置(1)的反射光学元件的方法，其中该反射光学元件包含具有基板表面(31)、保护层(38)和适合用于EUV波长范围的层部分系统(39)的基板(30)，所述方法包含以下方法步骤：a)测量基板表面(31)，b)在多个电子(36)的协助下照射基板(30)，c)对基板(30)进行回火。此外，本发明有关于一种用于EUV波长范围的反射光学元件。另外，本发明有关于一种投射镜头，其包含作为反射光学元件的反射镜(18、19、20)，并且本发明有关于一种包含投射镜头的投射曝光装置(1)。