不良检查系统及其方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105319219A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201410352778.9

    申请日:2014-07-23

    Inventor: 姜志浩 柳林水

    Abstract: 本发明公开一种能够降低费用的不良检查系统及其方法。所述不良检查方法包括:第一不良检查步骤,其在向第一方向移送第一基板的同时检查所述第一基板的一部分;以及第二不良检查步骤,其在向第二方向移送所述第一基板的同时检查所述第一基板的其他部分。其中所述第一方向与所述第二方向不同。本发明的不良检查系统及其方法可利用两个摄像头检查向第一方向移送的第一基板的边缘中的一部分,并利用两个摄像头检查向第二方向移送的第一基板的其他边缘。即,所述不良检查系统用四个摄像头即可检查基板上的所有边缘的不良,设置的摄像头数量比现有的不良检查系统少。因此能够大幅降低上述不良检查系统的费用。

    腔体泄漏检测方法及其装置

    公开(公告)号:CN107367356B

    公开(公告)日:2021-07-27

    申请号:CN201610464121.0

    申请日:2016-06-23

    Abstract: 本发明公开一种腔体泄漏检测方法及其装置。腔体泄漏检测方法包括:对所述腔体执行清洗工序后进行等离子体反应的步骤;以及,通过分析所述等离子体反应检测所述腔体的泄漏的步骤。本发明的腔体泄漏检测方法及其装置能够在不影响半导体工序的情况下迅速检测腔体泄漏。

    不良检查系统及其方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105319219B

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201410352778.9

    申请日:2014-07-23

    Inventor: 姜志浩 柳林水

    Abstract: 本发明公开一种能够降低费用的不良检查系统及其方法。所述不良检查方法包括:第一不良检查步骤,其在向第一方向移送第一基板的同时检查所述第一基板的一部分;以及第二不良检查步骤,其在向第二方向移送所述第一基板的同时检查所述第一基板的其他部分。其中所述第一方向与所述第二方向不同。本发明的不良检查系统及其方法可利用两个摄像头检查向第一方向移送的第一基板的边缘中的一部分,并利用两个摄像头检查向第二方向移送的第一基板的其他边缘。即,所述不良检查系统用四个摄像头即可检查基板上的所有边缘的不良,设置的摄像头数量比现有的不良检查系统少。因此能够大幅降低上述不良检查系统的费用。

    工程系统、用于其的切换模块及控制所述工程系统的方法

    公开(公告)号:CN110857922A

    公开(公告)日:2020-03-03

    申请号:CN201910321917.4

    申请日:2019-04-22

    Abstract: 公开能够利用切换模块及一个分光器分析多个位置的腔体内部的光的工程系统、用于其的切换模块及控制所述工程系统的方法。所述切换模块包括多个连接部、切换部及驱动部。在此,所述多个连接部分别与第一光线路相连接,所述切换部与第二光线路相连接,所述切换部排列成光路径与所述多个连接部中的一个的光路径一致,所述切换部随着所述驱动部的驱动进行移动而成为光路径与另一连接部的光路径一致,通过连接于光路径与所述切换部的光路径一致的连接部的第一光线路输入的光传递到与所述切换部连接的第二光线路。本发明能够对工程进行准确的分析且显著降低所述工程系统的费用。

    不良检查系统及其方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108663377A

    公开(公告)日:2018-10-16

    申请号:CN201810293780.1

    申请日:2014-07-23

    Inventor: 姜志浩 柳林水

    Abstract: 本发明公开一种支架结构体,其特征在于,包括:图像获取装置;支架,其支撑所述图像获取装置;以及结合构件,其将所述支架固定到支撑件,其中,第一基板从第一方向向第二方向移动,第二基板从所述第二方向向所述第一方向移动,所述第一基板与所述第二基板同时移动,所述图像获取装置在所述第一基板及所述第二基板移动时检查所述第一基板的不良向。本发明能够大幅降低不良检查系统的费用。

    腔体泄漏检测方法及其装置

    公开(公告)号:CN107367356A

    公开(公告)日:2017-11-21

    申请号:CN201610464121.0

    申请日:2016-06-23

    CPC classification number: G01M3/20

    Abstract: 本发明公开一种腔体泄漏检测方法及其装置。腔体泄漏检测方法包括:对所述腔体执行清洗工序后进行等离子体反应的步骤;以及,通过分析所述等离子体反应检测所述腔体的泄漏的步骤。本发明的腔体泄漏检测方法及其装置能够在不影响半导体工序的情况下迅速检测腔体泄漏。

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