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公开(公告)号:CN104025278A
公开(公告)日:2014-09-03
申请号:CN201280064260.4
申请日:2012-12-20
IPC: H01L21/677 , C23C14/00 , C23C14/56 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/54 , H01L21/67017 , H01L21/67201
Abstract: 装载闭锁装置(1)具备:装载闭锁室(4),其构成为内部能被真空排气,收纳处理对象物(S);支撑台(13),其收纳于装载闭锁室(4)的内部,支撑处理对象物(S);以及慢速通气单元(15),其设置于装载闭锁室(4),向处于真空状态的装载闭锁室(4)的内部供应通气气体,使装载闭锁室(4)的内部切换为大气压状态。慢速通气单元(15)相对于支撑台(13)左右对称地配置。
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公开(公告)号:CN101784693A
公开(公告)日:2010-07-21
申请号:CN200880103599.4
申请日:2008-08-18
CPC classification number: C23C14/352 , C03C17/2453 , C03C2217/231 , C03C2217/948 , C03C2218/155 , C03C2218/156
Abstract: 本发明提供一种能够抑制由处理基板的充电所引起的异常放电的发生,能够对大面积的处理基板形成良好薄膜的溅射方法。向在溅射室(12)内与处理基板(S)相对并且以规定间隔并列设置的多片靶(41a)至(41h)中各成对的靶施加电力,并按照规定的频率交替改变极性,将各个靶交替转换为阳极电极、阴极电极,在阳极电极和阴极电极之间产生辉光放电,形成等离子体气氛,对各个靶进行溅射。在溅射中间歇地停止向各个靶施加电力。
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公开(公告)号:CN104025278B
公开(公告)日:2017-03-29
申请号:CN201280064260.4
申请日:2012-12-20
Applicant: 夏普株式会社
IPC: H01L21/677 , C23C14/00 , C23C14/56 , C23C16/44
CPC classification number: C23C16/54 , H01L21/67017 , H01L21/67201
Abstract: 装载闭锁装置(1)具备:装载闭锁室(4),其构成为内部能被真空排气,收纳处理对象物(S);支撑台(13),其收纳于装载闭锁室(4)的内部,支撑处理对象物(S);以及慢速通气单元(15),其设置于装载闭锁室(4),向处于真空状态的装载闭锁室(4)的内部供应通气气体,使装载闭锁室(4)的内部切换为大气压状态。慢速通气单元(15)相对于支撑台(13)左右对称地配置。
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