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公开(公告)号:CN116685828A
公开(公告)日:2023-09-01
申请号:CN202180087235.7
申请日:2021-12-22
Applicant: 大塚电子株式会社
Inventor: 下田健作
IPC: G01B11/24
Abstract: 提供一种能够抑制噪声来实现更高精度的测定的光学测定系统。光学测定系统包括光源、图像传感器以及光学系统,所述光学系统包括将来自光源的光分支为第一光和第二光的分束器。光学系统能够构成第一光学系统和第二光学系统,所述第一光学系统用于通过图像传感器来记录在不存在试样的状态下利用作为发散光的第二光将第一光进行调制所得到的第一全息图,所述第二光学系统用于通过图像传感器来记录利用第二光将利用第一光对试样进行照明所得到的光进行调制所得到的第二全息图。第二光学系统具有将利用第一光对试样进行照明所得到的光的发散限制在规定范围的限制部。
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公开(公告)号:CN118235026A
公开(公告)日:2024-06-21
申请号:CN202180104033.9
申请日:2021-11-08
Applicant: 大塚电子株式会社
Inventor: 下田健作
Abstract: 光学测定方法包括以下步骤:构成用于记录全息图的光学系统,所述全息图是利用照明光和相干的参考光将利用照明光对试样进行照明所得到的物体光进行调制而生成的全息图;在不存在试样的状态下,在照明光的光学路径上配置包括产生已知的光波分布的光学系统的校正单元;记录在校正单元产生光波分布的状态下生成的第一全息图;以及基于表示校正单元的配置位置的信息、已知的光波分布、以及第一全息图,来计算参考光的光波分布的信息。
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公开(公告)号:CN117940761A
公开(公告)日:2024-04-26
申请号:CN202180102439.3
申请日:2021-09-16
Applicant: 大塚电子株式会社
Abstract: 光学测定系统包括:第一光源,其产生近红外线;硅基的图像传感器;以及光学系统,其包括将来自第一光源的光分支为第一光和第二光的分束器。光学系统构成为利用图像传感器记录第一全息图,该第一全息图是利用作为发散光的第二光将利用第一光对试样进行照明所得到的光进行调制而得到的全息图。
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公开(公告)号:CN308733796S
公开(公告)日:2024-07-16
申请号:CN202330656345.2
申请日:2023-10-11
Applicant: 大塚电子株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称:立体显微镜的主体。
2.本外观设计产品的用途:要求保护的局部外观设计所在的整体和要求保护的局部外观设计均用于观察、测定、分析试样等。
3.本外观设计产品的设计要点:在于要求保护的局部的形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
5.其他需要说明的情形其他说明:涂敷红色的部分为不请求保护的局部,未涂敷红色的部分为请求保护的局部。-
公开(公告)号:CN308680682S
公开(公告)日:2024-06-11
申请号:CN202330656355.6
申请日:2023-10-11
Applicant: 大塚电子株式会社
Abstract: 1.本外观设计产品的名称:立体显微镜的台部。
2.本外观设计产品的用途:要求保护的局部外观设计所在的整体用于观察、测定、分析试样等,要求保护的局部外观设计用于载置试样等。
3.本外观设计产品的设计要点:在于要求保护的局部的形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图1。
5.其他需要说明的情形其他说明:涂覆红色的部分为不请求保护的局部,未涂覆红色的部分为请求保护的局部。
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