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公开(公告)号：CN110537148A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201880026076.8
申请日：2018-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z-因子良好且能够形成图案崩塌得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足要件1和要件2。要件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。要件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为2.5质量％以下。
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公开(公告)号：CN114375421B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202080060142.0
申请日：2020-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X，所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物：其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团，通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110537148B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201880026076.8
申请日：2018-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z‑因子良好且能够形成图案崩塌得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足要件1和要件2。要件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。要件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为2.5质量％以下。
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公开(公告)号：CN114270264A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202080058597.9
申请日：2020-07-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/09 , G03F7/00 , C07C311/51 , C07C309/06 , C07C309/17 , C07C309/12 , C07C311/14 , C07C311/48 , C07C381/12
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存的情况下也可得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。上述感光化射线性或放射线性树脂组合物含有酸分解性树脂及特定化合物，特定化合物具有2个以上的阳离子部位及与阳离子部位相同数量的阴离子部位，阳离子部位中的至少1个具有由通式(I)表示的基团。
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公开(公告)号：CN113993843A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202080042918.6
申请日：2020-06-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。该感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含选自由通式(1)表示的化合物、由通式(2)表示的化合物及由通式(3)表示的化合物组成的组中的1种以上的特定化合物及酸分解性树脂。
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公开(公告)号：CN114375421A
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202080060142.0
申请日：2020-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X，所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物：其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团，通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。
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公开(公告)号：CN112020673A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201980026422.7
申请日：2019-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z‑因子良好，并且能够形成桥接缺陷得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足必要条件1～必要条件3。必要条件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。必要条件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为5.0质量％以下。必要条件3：相对于EUV光用感光性组合物中的总固体成分，光产酸剂的含量为5～50质量％。
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