公开(公告)号：TWI224582B

公开(公告)日：2004-12-01

申请号：TW090107558

申请日：2001-03-28

Applicant: 尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION

Inventor： 吉田明子 ,  小峰典男 KOMINE, NORIO ,  神保宏樹

IPC: C03C ,  G03F ,  G02B

CPC classification number: G03F7/70058 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70958

Abstract: 一種光微影(photolithography)裝置，其係由具有：將400nm以下波長之光線作為曝光光線射出之曝光光源，與形成圖案原像之光罩，將曝光光源輸出之光線照射於光罩之照射光學系，與從光罩輸出之圖案像投影於感光基板上之投影光學系，與進行對準光罩與感光基板位置之對準系所構成。並且，將構成照射光學系之合成玻璃構件及構成投影光學系之合成石英玻璃構件及光罩之至少一部，將ArF準分子雷射以0.1μJ脈衝照射時，在照射後所測定之193.4nm之損失係數為0.0050 cm-1以下，所含有氫分子濃度為1×1016分子／cm3～2×1018分子／cm3，並且，紫外光照射前之損失係數為由0.0020cm-1以下之合成石英玻璃構件所構成。

Abstract in simplified Chinese: 一种光微影(photolithography)设备，其系由具有：将400nm以下波长之光线作为曝光光线射出之曝光光源，与形成图案原像之光罩，将曝光光源输出之光线照射于光罩之照射光学系，与从光罩输出之图案像投影于感光基板上之投影光学系，与进行对准光罩与感光基板位置之对准系所构成。并且，将构成照射光学系之合成玻璃构件及构成投影光学系之合成石英玻璃构件及光罩之至少一部，将ArF准分子激光以0.1μJ脉冲照射时，在照射后所测定之193.4nm之损失系数为0.0050 cm-1以下，所含有氢分子浓度为1×1016分子／cm3～2×1018分子／cm3，并且，紫外光照射前之损失系数为由0.0020cm-1以下之合成石英玻璃构件所构成。

公开(公告)号：TW515782B

公开(公告)日：2003-01-01

申请号：TW087110342

申请日：1998-06-26

Applicant: 尼康股份有限公司

Inventor： 小典男 ,  藤原誠志 ,  神保宏樹

IPC: C03C ,  C03B

CPC classification number: C03B19/1484 ,  C03B19/1423 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/36 ,  C03B2207/66 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/46

Abstract: [課題]提供一種同時具備優異的耐紫外線特性及折射率的均質性之石英玻璃的製造方法。[解決方法]提供一種幾乎不含氯(C1)的石英玻璃之製造方法，係包含：從石英玻璃製噴嘴將四氟化矽(SiF4)氣體、氧氣、氫氣分別噴出之步驟，令前述四氟化矽(SiF4)氣體、和氧氣及氫氣的反應生成物之水反應以產生石英玻璃微粒子之步驟，令該石英玻璃微粒予堆積於靶上之步驟，將堆積於靶上之石英玻璃微粒子溶融‧玻璃化成石英玻璃之步驟；且，四氟化矽(SiF4)氣體之噴出速度在9~20s1m/cm2之範圍內。使用有機矽化合物之石英玻璃的合成中，因有機矽化合物所含之碳會殘留於玻璃中，使用四氯化矽之合成中，因玻璃中會含有氯，故皆無法得出具優異紫外線耐性及透過率之石英玻璃。在原料中使用有機矽化合物和矽的氟化合物之混合物以得出可同時滿足紫外線耐性及透過率之石英玻璃，特別是在混合比95：5~85：15的範圍，不管是對氯或鈉或碳皆可得最佳的效果。

Abstract in simplified Chinese: [课题]提供一种同时具备优异的耐紫外线特性及折射率的均质性之石英玻璃的制造方法。[解决方法]提供一种几乎不含氯(C1)的石英玻璃之制造方法，系包含：从石英玻璃制喷嘴将四氟化硅(SiF4)气体、氧气、氢气分别喷出之步骤，令前述四氟化硅(SiF4)气体、和氧气及氢气的反应生成物之水反应以产生石英玻璃微粒子之步骤，令该石英玻璃微粒予堆积于靶上之步骤，将堆积于靶上之石英玻璃微粒子溶融‧玻璃化成石英玻璃之步骤；且，四氟化硅(SiF4)气体之喷出速度在9~20s1m/cm2之范围内。使用有机硅化合物之石英玻璃的合成中，因有机硅化合物所含之碳会残留于玻璃中，使用四氯化硅之合成中，因玻璃中会含有氯，故皆无法得出具优异紫外线耐性及透过率之石英玻璃。在原料中使用有机硅化合物和硅的氟化合物之混合物以得出可同时满足紫外线耐性及透过率之石英玻璃，特别是在混合比95：5~85：15的范围，不管是对氯或钠或碳皆可得最佳的效果。

公开(公告)号：TW440548B

公开(公告)日：2001-06-16

申请号：TW087106419

申请日：1998-04-27

Applicant: 尼康股份有限公司

Inventor： 藤原誠志 ,  中川和博 ,  神保宏樹 ,  小典男

IPC: C03B

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/22 ,  C03B2207/24 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/36 ,  C03C4/0071 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/26 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/52

Abstract: 使用有機矽化合物之石英玻璃的合成中,因有機矽化合物所含之碳會殘留於玻璃中，使用四氯化矽之合成中，因玻璃中會含有氯，故皆無法得出具優異紫外線耐性及透過率之石英玻璃。
在原料中使用有機矽化合物和矽的氟化合物之混合物以得出可同時滿足紫外線耐性及透過率之石英玻璃，特別是在混合比95:5~85:15的範圍，不管是對氯或鈉或碳皆可得最佳的效果。

Abstract in simplified Chinese: 使用有机硅化合物之石英玻璃的合成中,因有机硅化合物所含之碳会残留于玻璃中，使用四氯化硅之合成中，因玻璃中会含有氯，故皆无法得出具优异紫外线耐性及透过率之石英玻璃。 在原料中使用有机硅化合物和硅的氟化合物之混合物以得出可同时满足紫外线耐性及透过率之石英玻璃，特别是在混合比95:5~85:15的范围，不管是对氯或钠或碳皆可得最佳的效果。

公开(公告)号：TW581747B

公开(公告)日：2004-04-01

申请号：TW089102475

申请日：2000-02-15

Applicant: 尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION

Inventor： 藤原誠志 ,  小典男 KOMINE, NORIO ,  神保宏樹

IPC: C03C

CPC classification number: G02B1/02 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  G03F7/70958 ,  Y10S65/90 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/90

Abstract: 【課題】伴隨曝光裝置中光源之波長的縮短，於透鏡等光學構件與光罩構件上所使用之材料乃要求具極高的光學性能。
【解決手段】用於曝光裝置的合成石英玻璃構件，在250nm以下之波長區域中，將構件中與光軸垂直方向上透過率之變動幅度限於每1cm厚度為±1.0%以內，以達成曝光裝置原有的性能。

Abstract in simplified Chinese: 【课题】伴随曝光设备中光源之波长的缩短，于透镜等光学构件与光罩构件上所使用之材料乃要求具极高的光学性能。 【解决手段】用于曝光设备的合成石英玻璃构件，在250nm以下之波长区域中，将构件中与光轴垂直方向上透过率之变动幅度限于每1cm厚度为±1.0%以内，以达成曝光设备原有的性能。

公开(公告)号：TW418177B

公开(公告)日：2001-01-11

申请号：TW087115888

申请日：1998-09-24

Applicant: 尼康股份有限公司

Inventor： 藤原誠志 ,  小典男 ,  神保宏樹

IPC: C03B

CPC classification number: C03B19/1415 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/34

Abstract: 〔課題〕
用以控制高沸點的矽化合物對合成爐的導入量。〔解決方法〕
對液體原料泵10送入壓送氣體，將高沸點的有機矽化合物的原料液32，通過液體流量計20供給至氣化器12。將該原料液32對氣化器12的導入量藉液體流量計20控制。氣化器12中，將霧狀後的原料液32和載體氣體混合，藉由於比有機矽化合物的沸點高10℃以上的溫度加熱，以生成原料氣體，將其導入合成爐14內。

Abstract in simplified Chinese: 〔课题〕 用以控制高沸点的硅化合物对合成炉的导入量。〔解决方法〕 对液体原料泵10送入压送气体，将高沸点的有机硅化合物的原料液32，通过液体流量计20供给至气化器12。将该原料液32对气化器12的导入量藉液体流量计20控制。气化器12中，将雾状后的原料液32和载体气体混合，借由于比有机硅化合物的沸点高10℃以上的温度加热，以生成原料气体，将其导入合成炉14内。

公开(公告)号：TW409184B

公开(公告)日：2000-10-21

申请号：TW087116531

申请日：1998-10-06

Applicant: 尼康股份有限公司

Inventor： 神保宏樹 ,  小典男 ,  藤原誠志

IPC: G01N

CPC classification number: G01N17/004

Abstract: 【課題】
提供考慮到光學部件的飽和吸收，正確且簡便的對準分子雷射照射的光學部件之耐久性預測方法。【解決方法】
考慮到光學部件中的氫濃度及/或氯濃度、照射的準分子雷射的能量密度及累計脈衝數，以在光學部件的吸收係數和照射的準分子雷射的累計脈衝數的關係是近似直線時求出該直線領域的吸收係數的變化；考慮到光學部件中的氫濃度及/或氯濃度和照射的準分子雷射的能量密度，求出光學部件的吸收在成為飽和狀態的飽和領域的吸收係數的值，從藉此兩者求出的透過率變化，能預測其光學部件的耐久性。

Abstract in simplified Chinese: 【课题】 提供考虑到光学部件的饱和吸收，正确且简便的对准分子激光照射的光学部件之耐久性预测方法。【解决方法】 考虑到光学部件中的氢浓度及/或氯浓度、照射的准分子激光的能量密度及累计脉冲数，以在光学部件的吸收系数和照射的准分子激光的累计脉冲数的关系是近似直线时求出该直线领域的吸收系数的变化；考虑到光学部件中的氢浓度及/或氯浓度和照射的准分子激光的能量密度，求出光学部件的吸收在成为饱和状态的饱和领域的吸收系数的值，从借此两者求出的透过率变化，能预测其光学部件的耐久性。