公开(公告)号：CN1249499C

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN03110142.9

申请日：2003-04-11

Applicant: 日本电气株式会社

Inventor： 上原伸一 ,  佐藤祐子 ,  住吉研 ,  金子节夫 ,  松嵨仁

IPC: G02F1/1335 ,  G02B3/00 ,  G03F7/26

CPC classification number: G02B3/0056 ,  B81B2207/056 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0133 ,  B81C2201/0142 ,  C03C15/00 ,  C03C17/34 ,  C03C2204/08 ,  C03C2218/34 ,  G02B3/0012 ,  G02F1/133526 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/249969 ,  Y10T428/315

Abstract: 在用于在含有蚀刻控制成分的加工件中形成精细结构的制造方法中，使用各向同性刻蚀工艺，将具有孔口(36)的掩模加到加工件(30)上，且用蚀刻溶液蚀刻加工件，从而在加工件的表面内形成相应于孔口形状的凹槽(40)。由于在各向同性刻蚀工艺期间蚀刻控制成分从凹槽内的蚀刻溶液(38)中的加工件中洗提出来，所述加工件的蚀刻停止。