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公开(公告)号：CN109153155A
公开(公告)日：2019-01-04
申请号：CN201780031301.2
申请日：2017-05-19
Applicant: 日立化成株式会社
Inventor： 森修一 , 田村辽 , 尾友竹夫 , 佐佐木和歌
IPC: B29C33/68 , B32B27/00 , B32B27/20 , B32B27/36 , H01L21/56
Abstract: 一种脱模膜，其具有基材、以及设置于所述基材上且包含树脂成分和填料的脱模层，所述填料的体积平均粒径A(μm)与所述脱模层的每1m2的质量B(g/m2)之比(A/B)小于或等于1。
