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公开(公告)号：CN103140600B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201180047007.3
申请日：2011-09-14
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: C23C14/14 , B22F3/14 , B22F2998/10 , C22C1/045 , C23C14/3414 , B22F9/20 , B22F9/04
Abstract: 提供可以活用各钼(Mo)原料粉末的特征并且能够高效地得到低氧且高密度的钼靶的制造方法。本发明是一种钼靶的制造方法，其将混合钼粉末A以及钼粉末B而成的混合粉加压烧结，该钼粉末A为还原氧化钼后接着进行破碎而将平均粒径调整为2～15μm的钼粉末，该钼粉末B为以密度6.64×10(kg/m3)以上的钼块状体作为原料，通过粉碎将平均粒径调整为50～2000μm的钼粉末。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104508173B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：CN201380039352.1
申请日：2013-07-18
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: C23C14/34 , B22F3/00 , B22F3/14 , B22F3/15 , C22C1/04 , C22C19/07 , C22C33/02 , C22C38/00 , G11B5/851
CPC classification number: G11B5/851 , B22F3/14 , B22F5/00 , C22C33/0278 , C22C33/0285 , C22C38/10 , C22C38/12 , C22C2202/02 , C23C14/14 , C23C14/3414 , G11B5/667 , G11B5/8404 , H01J37/3429 , H01J2237/332
Abstract: 本发明提供一种靶材，其中，原子比的组成式表示为(FeX‑Co100‑X)100‑Y‑MY(M表示选自Ta和Nb中的至少一种元素，X、Y分别满足0≤X≤80、10≤Y≤30)，包含由不可避免的杂质构成的余量，并且300℃下的断裂弯曲应变为0.33％以上。
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公开(公告)号：CN104145043B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201380011999.3
申请日：2013-05-30
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01J37/3429 , B22F3/14 , B22F9/082 , C22C1/0433 , C22C19/07 , C22C30/00 , C22C33/0285 , C22C38/00 , C22C38/10 , C22C38/12 , C22C38/26 , C22C2202/02 , C23C14/14 , C23C14/20 , C23C14/3414 , G11B5/851 , H01F41/183 , H01J2237/02
Abstract: 本发明提供原子比的组成式表示为(Fea-Co100-a)100-b-c-d-Tab-Nbc-Md(0＜a≤80、0≤b≤10、0≤c≤15、5≤b+c≤15、2≤d≤20、15≤b+c+d≤25，M表示选自由Mo、Cr和W组成的组中的一种以上的元素)，包含由不可避免的杂质组成的余量，并且300℃下的断裂弯曲应变εfB为0.4％以上的Fe-Co系合金溅射靶材。
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公开(公告)号：CN104508173A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201380039352.1
申请日：2013-07-18
Applicant: 日立金属株式会社
IPC: C23C14/34 , B22F3/00 , B22F3/14 , B22F3/15 , C22C1/04 , C22C19/07 , C22C33/02 , C22C38/00 , G11B5/851
CPC classification number: G11B5/851 , B22F3/14 , B22F5/00 , C22C33/0278 , C22C33/0285 , C22C38/10 , C22C38/12 , C22C2202/02 , C23C14/14 , C23C14/3414 , G11B5/667 , G11B5/8404 , H01J37/3429 , H01J2237/332 , C22C38/00 , C22C19/07
Abstract: 本发明提供一种靶材，其中，原子比的组成式表示为(FeX-Co100-X)100-Y-MY(M表示选自Ta和Nb中的至少一种元素，X、Y分别满足0≤X≤80、10≤Y≤30)，包含由不可避免的杂质构成的余量，并且300℃下的断裂弯曲应变为0.33％以上。
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公开(公告)号：CN104145043A
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201380011999.3
申请日：2013-05-30
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: H01J37/3429 , B22F3/14 , B22F9/082 , C22C1/0433 , C22C19/07 , C22C30/00 , C22C33/0285 , C22C38/00 , C22C38/10 , C22C38/12 , C22C38/26 , C22C2202/02 , C23C14/14 , C23C14/20 , C23C14/3414 , G11B5/851 , H01F41/183 , H01J2237/02
Abstract: 本发明提供原子比的组成式表示为(Fea-Co100-a)100-b-c-d-Tab-Nbc-Md(0＜a≤80、0≤b≤10、0≤c≤15、5≤b+c≤15、2≤d≤20、15≤b+c+d≤25，M表示选自由Mo、Cr和W组成的组中的一种以上的元素)，包含由不可避免的杂质组成的余量，并且300℃下的断裂弯曲应变εfB为0.4％以上的Fe-Co系合金溅射靶材。
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公开(公告)号：CN103140600A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201180047007.3
申请日：2011-09-14
Applicant: 日立金属株式会社
CPC classification number: C23C14/14 , B22F3/14 , B22F2998/10 , C22C1/045 , C23C14/3414 , B22F9/20 , B22F9/04
Abstract: 本发明提供可以活用各钼(Mo)原料粉末的特征并且能够高效地得到低氧且高密度的钼靶的制造方法。本发明是一种钼靶的制造方法，其将混合钼粉末A以及钼粉末B而成的混合粉加压烧结，该钼粉末A为还原氧化钼后接着进行破碎而将平均粒径调整为2～15μm的钼粉末，该钼粉末B为以密度6.64×10(kg/m3)以上的钼块状体作为原料，通过粉碎将平均粒径调整为50～2000μm的钼粉末。
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