公开(公告)号：CN104145043A

公开(公告)日：2014-11-12

申请号：CN201380011999.3

申请日：2013-05-30

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 福冈淳 ,  齐藤和也 ,  坂卷功一 ,  畠知之

IPC: C23C14/34 ,  B22F3/14 ,  C22C19/07 ,  C22C38/00 ,  G11B5/667 ,  G11B5/851 ,  B22F9/04 ,  B22F9/08

CPC classification number: H01J37/3429 ,  B22F3/14 ,  B22F9/082 ,  C22C1/0433 ,  C22C19/07 ,  C22C30/00 ,  C22C33/0285 ,  C22C38/00 ,  C22C38/10 ,  C22C38/12 ,  C22C38/26 ,  C22C2202/02 ,  C23C14/14 ,  C23C14/20 ,  C23C14/3414 ,  G11B5/851 ,  H01F41/183 ,  H01J2237/02

Abstract: 本发明提供原子比的组成式表示为(Fea-Co100-a)100-b-c-d-Tab-Nbc-Md(0＜a≤80、0≤b≤10、0≤c≤15、5≤b+c≤15、2≤d≤20、15≤b+c+d≤25，M表示选自由Mo、Cr和W组成的组中的一种以上的元素)，包含由不可避免的杂质组成的余量，并且300℃下的断裂弯曲应变εfB为0.4％以上的Fe-Co系合金溅射靶材。

公开(公告)号：CN106486330A

公开(公告)日：2017-03-08

申请号：CN201610739033.7

申请日：2016-08-26

Applicant: 英飞凌科技股份有限公司

Inventor： 罗兰德·鲁普 ,  鲁道夫·埃尔佩尔特 ,  罗曼·埃斯泰夫

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317 ,  G21K1/10

CPC classification number: G03F7/70008 ,  G03F7/70775 ,  H01J37/3171 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0465 ,  H01L23/544 ,  H01L29/0615 ,  H01L29/1608 ,  H01L29/36 ,  H01L29/6606 ,  H01L29/66068 ,  H01L29/8611 ,  H01L2223/54426 ,  H01L2223/5446 ,  H01J37/09 ,  G21K1/10 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/02 ,  H01J2237/30

Abstract: 本发明涉及粒子辐照设备、束改性装置和包括结终端延伸区的半导体器件。束改性装置撞击到束改性装置(700)的暴露面(701)上的粒子从垂直方向偏离。粒子的总透过率沿着平行于暴露面(701)的侧向方向变化。(700)包括散射部(720)，在散射部(720)中，垂直

公开(公告)号：CN104145043B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201380011999.3

申请日：2013-05-30

Applicant: 日立金属株式会社

Inventor： 福冈淳 ,  齐藤和也 ,  坂卷功一 ,  畠知之

IPC: C23C14/34 ,  B22F3/14 ,  C22C19/07 ,  C22C38/00 ,  G11B5/667 ,  G11B5/851 ,  B22F9/04 ,  B22F9/08

CPC classification number: H01J37/3429 ,  B22F3/14 ,  B22F9/082 ,  C22C1/0433 ,  C22C19/07 ,  C22C30/00 ,  C22C33/0285 ,  C22C38/00 ,  C22C38/10 ,  C22C38/12 ,  C22C38/26 ,  C22C2202/02 ,  C23C14/14 ,  C23C14/20 ,  C23C14/3414 ,  G11B5/851 ,  H01F41/183 ,  H01J2237/02

Abstract: 本发明提供原子比的组成式表示为(Fea-Co100-a)100-b-c-d-Tab-Nbc-Md(0＜a≤80、0≤b≤10、0≤c≤15、5≤b+c≤15、2≤d≤20、15≤b+c+d≤25，M表示选自由Mo、Cr和W组成的组中的一种以上的元素)，包含由不可避免的杂质组成的余量，并且300℃下的断裂弯曲应变εfB为0.4％以上的Fe-Co系合金溅射靶材。

公开(公告)号：CN106997840A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201710056303.9

申请日：2017-01-25

Applicant: 通用电气公司

Inventor： M.A.弗伦特拉 ,  V.B.内库莱斯 ,  J.W.西尔斯 ,  P.A.扎沃什基

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/06

CPC classification number: B22F3/1055 ,  B22F2003/1056 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00 ,  Y02P10/295 ,  H01J37/02 ,  H01J37/06 ,  H01J2237/02

Abstract: 本公开的发明名称是“采用多个电子束源的增材制造”。适应性地形成三维组件可包含提供（410）多个电子束源（200），以及同时控制（420）所述多个电子束源以将多个电子束（210）引导到金属粉末的多个沉积层上，从而顺序地加固所述多个沉积的金属粉末层的图案化部分，以适应性地形成所述三维组件。

公开(公告)号：CN105575748A

公开(公告)日：2016-05-11

申请号：CN201510915124.7

申请日：2015-12-11

Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所

Inventor： 张赛 ,  佘鹏程 ,  陈特超 ,  陈庆广

IPC: H01J37/02 ,  H01J37/04 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/317 ,  H01J37/02 ,  H01J37/04 ,  H01J2237/02

Abstract: 本发明公开了一种提高大口径离子源离子束流均匀性的方法，其步骤为：S1:设置具有引出孔的栅网；将栅网安装在离子源放电室束流出口位置，对其束流密度均匀性进行测试，并绘出束流密度分布图A；S2：调整栅网上引出孔的分布；根据束流密度分布图A，调整栅网上引出孔的分布；将调整引出孔分布后的栅网安装在同一个离子源放电室相同束流出口位置，对其束流密度均匀性进行测试，并绘出束流密度分布图B；S3：二次调整栅网上引出孔的分布；根据束流密度分布图B，再细微调整栅网上引出孔的分布；S4：安装栅网；安装最终的栅网，离子源离子束均匀性即满足要求。本发明具有原理简单、操作简便、能够降低成本等优点。

公开(公告)号：US20100163729A1

公开(公告)日：2010-07-01

申请号：US12653366

申请日：2009-12-11

Applicant: Hisashi Isozaki

Inventor： Hisashi Isozaki

IPC: G01N23/225

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/226 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/02 ,  H01J2237/2445

Abstract: The present invention provides an electron microscope device, comprising a scanning electron microscope 2 provided with scanning means 10 for scanning an electron beam and an electron detector 12 for detecting an electron 11 issued from a specimen 8 where the electron beam is projected for scanning, wherein a scanning electron image is acquired based on a detection result from the electron detector, wherein the electron detector comprises a fluorescent substance layer for performing photoelectric conversion, a wavelength filter giving restriction so that all or almost all of wavelength ranges of fluorescent lights from the fluorescent substance layer can be transmitted, and a wavelength detecting element for receiving the fluorescent light transmitted through the wavelength filter and for performing photoelectric conversion.

Abstract translation: 本发明提供一种电子显微镜装置，包括：扫描电子显微镜2，其具有用于扫描电子束的扫描装置10;以及电子检测器12，用于检测从用于扫描的电子束投射的样本8发出的电子11，其中 基于来自电子检测器的检测结果获取扫描电子图像，其中电子检测器包括用于进行光电转换的荧光物质层，波长滤波器提供限制，使得荧光灯的全部或几乎所有的荧光波长范围 可以传输物质层，以及用于接收透过波长滤波器并用于进行光电转换的荧光的波长检测元件。

公开(公告)号：US09312163B2

公开(公告)日：2016-04-12

申请号：US13548254

申请日：2012-07-13

Applicant: Masaru Tanaka ,  Masashi Kuriyama ,  Hiroki Murooka

Inventor： Masaru Tanaka ,  Masashi Kuriyama ,  Hiroki Murooka

IPC: H01J37/32 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687

CPC classification number: H01L21/68764 ,  H01J37/32871 ,  H01J2237/02 ,  H01J2237/0203 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833 ,  Y10T29/49

Abstract: An electrostatic chuck protection method includes providing an exposed chuck surface with a protective surface for preventing adherence of foreign materials including a substance exhibiting volatility in a vacuum environment, and removing the protective surface in order to perform a process of forming a substrate electrostatically held on the chuck surface with a surface layer including a substance having volatility in a vacuum chamber. The protective surface may be provided when a low vacuum pumping mode of operation is performed in a vacuum environment surrounding the chuck surface.

Abstract translation: 静电卡盘保护方法包括：将露出的卡盘表面提供有保护表面，用于防止在真空环境中包括表现出挥发性的物质的异物附着，以及去除保护表面，以便进行静电保持在基板上的基板的形成工艺 卡盘表面具有包括在真空室中具有挥发性的物质的表面层。 当在围绕卡盘表面的真空环境中执行低真空泵送操作模式时，可以提供保护表面。

公开(公告)号：US20150034483A1

公开(公告)日：2015-02-05

申请号：US14382552

申请日：2013-05-30

Applicant: HITACHI METALS, LTD.

Inventor： Jun Fukuoka ,  Kazuya Saito ,  Kouichi Sakamaki ,  Tomoyuki Hata

IPC: C23C14/34 ,  B22F3/14 ,  H01J37/34

CPC classification number: H01J37/3429 ,  B22F3/14 ,  B22F9/082 ,  C22C1/0433 ,  C22C19/07 ,  C22C30/00 ,  C22C33/0285 ,  C22C38/00 ,  C22C38/10 ,  C22C38/12 ,  C22C38/26 ,  C22C38/30 ,  C22C2202/02 ,  C23C14/14 ,  C23C14/20 ,  C23C14/3414 ,  G11B5/851 ,  H01F41/183 ,  H01J2237/02

Abstract: Provided is a Fe—Co-based alloy sputtering target material having a composition represented as an atomic ratio by the compositional formula: (Fea—Co100-a)100-b-c-d—Tab—Nbc-Md, wherein 0

Abstract translation: 本发明提供一种Fe-Co系合金溅射靶材料，其特征在于，组成式为：（Fea-Co100-a）100-bcd-Tab-Nbc-Md以原子比表示的组成，其中0

公开(公告)号：US08791415B2

公开(公告)日：2014-07-29

申请号：US12653366

申请日：2009-12-11

Applicant: Hisashi Isozaki

Inventor： Hisashi Isozaki

IPC: G01N23/225

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/226 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/02 ,  H01J2237/2445

Abstract: The present invention provides an electron microscope device, comprising a scanning electron microscope 2 provided with scanning means 10 for scanning an electron beam and an electron detector 12 for detecting an electron 11 issued from a specimen 8 where the electron beam is projected for scanning, wherein a scanning electron image is acquired based on a detection result from the electron detector, wherein the electron detector comprises a fluorescent substance layer for performing photoelectric conversion, a wavelength filter giving restriction so that all or almost all of wavelength ranges of fluorescent lights from the fluorescent substance layer can be transmitted, and a wavelength detecting element for receiving the fluorescent light transmitted through the wavelength filter and for performing photoelectric conversion.

Abstract translation: 本发明提供一种电子显微镜装置，包括：扫描电子显微镜2，其具有用于扫描电子束的扫描装置10;以及电子检测器12，用于检测从用于扫描的电子束投射的样本8发出的电子11，其中 基于来自电子检测器的检测结果获取扫描电子图像，其中电子检测器包括用于进行光电转换的荧光物质层，波长滤波器提供限制，使得荧光灯的全部或几乎所有的荧光波长范围 可以传输物质层，以及用于接收透过波长滤波器并用于进行光电转换的荧光的波长检测元件。

公开(公告)号：US20130019797A1

公开(公告)日：2013-01-24

申请号：US13548254

申请日：2012-07-13

Applicant: Masaru Tanaka ,  Masashi Kuriyama ,  Hiroki Murooka

Inventor： Masaru Tanaka ,  Masashi Kuriyama ,  Hiroki Murooka

IPC: H01L21/687 ,  B23P17/04 ,  B05C13/00

CPC classification number: H01L21/68764 ,  H01J37/32871 ,  H01J2237/02 ,  H01J2237/0203 ,  H01L21/6831 ,  H01L21/6833 ,  Y10T29/49

Abstract: An electrostatic chuck protection method includes providing an exposed chuck surface with a protective surface for preventing adherence of foreign materials including a substance exhibiting volatility in a vacuum environment, and removing the protective surface in order to perform a process of forming a substrate electrostatically held on the chuck surface with a surface layer including a substance having volatility in a vacuum chamber. The protective surface may be provided when a low vacuum pumping mode of operation is performed in a vacuum environment surrounding the chuck surface.

Abstract translation: 静电卡盘保护方法包括：将露出的卡盘表面提供有保护表面，用于防止在真空环境中包括表现出挥发性的物质的异物附着，以及去除保护表面，以便进行静电保持在基板上的基板的形成工艺 卡盘表面具有包括在真空室中具有挥发性的物质的表面层。 当在围绕卡盘表面的真空环境中执行低真空泵送操作模式时，可以提供保护表面。