公开(公告)号：CN1198542A

公开(公告)日：1998-11-11

申请号：CN98109481.3

申请日：1998-04-08

Applicant: 柯尼卡株式会社

Inventor： 高田宏 ,  石川贞康 ,  伊藤聪

IPC: G03C1/005

CPC classification number: G03C1/015 ,  G03C1/0051

Abstract: 本发明公开了一种制备卤化银乳剂的装置,其中该装置的工艺条件是,在从卤化银颗粒开始生长到生长结束的整个期间内,任意控制在卤化银乳剂中的卤化银颗粒生长过程中的平均颗粒间距,使其维持在如下所限定的:平均颗粒间距=(反应混合液的体积/反应混合液中的颗粒数量)1/3。

公开(公告)号：CN1295267A

公开(公告)日：2001-05-16

申请号：CN00134408.0

申请日：2000-11-08

Applicant: 柯尼卡株式会社

Inventor： 杉本英夫 ,  石川贞康

IPC: G03C1/005 ,  G03C1/035

CPC classification number: G03C1/0051 ,  G03C7/3022 ,  G03C2001/0055 ,  G03C2001/0056 ,  G03C2001/0058 ,  G03C2001/0157 ,  G03C2001/03558

Abstract: 本发明公开了一种卤化银乳液,其含有卤化银颗粒,其中全部卤化银颗粒的颗粒直径的变化系数不超过25%、其中总颗粒投影面积的至少50%被片状颗粒所占,所说的片状颗粒具有两个双平面和不少于6的纵横比,并且满足以下必要条件(1):1.0=b/a=1.3。本发明还公开了含有该卤化银乳液的照相材料。

公开(公告)号：CN1207624C

公开(公告)日：2005-06-22

申请号：CN00134408.0

申请日：2000-11-08

Applicant: 柯尼卡株式会社

Inventor： 杉本英夫 ,  石川贞康

IPC: G03C1/005 ,  G03C1/035

CPC classification number: G03C1/0051 ,  G03C7/3022 ,  G03C2001/0055 ,  G03C2001/0056 ,  G03C2001/0058 ,  G03C2001/0157 ,  G03C2001/03558

Abstract: 本发明公开了一种卤化银乳液，其含有卤化银颗粒，其中全部卤化银颗粒的颗粒直径的变化系数不超过25%、其中总颗粒投影面积的至少50%被片状颗粒所占，所说的片状颗粒具有两个孪晶面和不少于6的纵横比，并且满足以下必要条件(1)：1.0≤b/a≤1.3。本发明还公开了含有该卤化银乳液的照相材料。

公开(公告)号：CN1138180C

公开(公告)日：2004-02-11

申请号：CN98109481.3

申请日：1998-04-08

Applicant: 柯尼卡株式会社

Inventor： 高田宏 ,  石川贞康 ,  伊藤聪

IPC: G03C1/015 ,  G03C1/005

CPC classification number: G03C1/015 ,  G03C1/0051

Abstract: 本发明公开了一种制备卤化银乳剂的装置，其中该装置的工艺条件是，在从卤化银颗粒开始生长到生长结束的整个期间内，任意控制在卤化银乳剂中的卤化银颗粒生长过程中的平均颗粒间距，使其维持在如下所限定的：平均颗粒间距＝(反应混合液的体积/反应混合液中的颗粒数量)1/3。