公开(公告)号：CN1344974A

公开(公告)日：2002-04-17

申请号：CN01140626.7

申请日：2001-09-18

Applicant: 柯尼卡株式会社

Inventor： 高田宏 ,  日置克彦

IPC: G03C1/015 ,  G03C1/035 ,  G03C1/07

CPC classification number: G03C1/0051 ,  G03C1/07 ,  G03C1/08 ,  G03C2001/0055 ,  G03C2001/0056 ,  G03C2001/03529 ,  G03C2001/03535 ,  G03C2001/03558 ,  G03C2001/03594

Abstract: 一种卤化银乳液,其包括片状卤化银颗粒,该卤化银颗粒的平均碘化物含量为3－15mol%且包括在具有不同卤化物组合物的卤化银相,该片状卤化银颗粒总投影面积的至少50%是由具有纵横比不小于12的颗粒构成,其中第一卤化银相(A)的平均碘化物含量不大于3mol%且占总银量的50－85%,位于相(A)外的第二卤化银相(B)的平均碘化物含量为8－25mol%且占总银量的10－35%。第三最外层相的平均碘化物含量不大于4mol%且占总银量的0.5－15%。

公开(公告)号：CN1198542A

公开(公告)日：1998-11-11

申请号：CN98109481.3

申请日：1998-04-08

Applicant: 柯尼卡株式会社

Inventor： 高田宏 ,  石川贞康 ,  伊藤聪

IPC: G03C1/005

CPC classification number: G03C1/015 ,  G03C1/0051

Abstract: 本发明公开了一种制备卤化银乳剂的装置,其中该装置的工艺条件是,在从卤化银颗粒开始生长到生长结束的整个期间内,任意控制在卤化银乳剂中的卤化银颗粒生长过程中的平均颗粒间距,使其维持在如下所限定的:平均颗粒间距=(反应混合液的体积/反应混合液中的颗粒数量)1/3。

公开(公告)号：CN1138180C

公开(公告)日：2004-02-11

申请号：CN98109481.3

申请日：1998-04-08

Applicant: 柯尼卡株式会社

Inventor： 高田宏 ,  石川贞康 ,  伊藤聪

IPC: G03C1/015 ,  G03C1/005

CPC classification number: G03C1/015 ,  G03C1/0051

Abstract: 本发明公开了一种制备卤化银乳剂的装置，其中该装置的工艺条件是，在从卤化银颗粒开始生长到生长结束的整个期间内，任意控制在卤化银乳剂中的卤化银颗粒生长过程中的平均颗粒间距，使其维持在如下所限定的：平均颗粒间距＝(反应混合液的体积/反应混合液中的颗粒数量)1/3。

公开(公告)号：CN1207625C

公开(公告)日：2005-06-22

申请号：CN01140626.7

申请日：2001-09-18

Applicant: 柯尼卡株式会社

Inventor： 高田宏 ,  日置克彦

IPC: G03C1/005

CPC classification number: G03C1/0051 ,  G03C1/07 ,  G03C1/08 ,  G03C2001/0055 ,  G03C2001/0056 ,  G03C2001/03529 ,  G03C2001/03535 ,  G03C2001/03558 ,  G03C2001/03594

Abstract: 一种卤化银乳液，其包括片状卤化银颗粒，该卤化银颗粒的平均碘化物含量为3-15mol%且包括在具有不同卤化物组合物的卤化银相，该片状卤化银颗粒总投影面积的至少50%是由具有纵横比不小于12的颗粒构成，其中第一卤化银相(A)的平均碘化物含量不大于3mol%且占总银量的60-80%，位于相(A)外的第二卤化银相(B)的平均碘化物含量为8-25mol%且占总银量的10-35%。第三最外层相的平均碘化物含量不大于4mol%且占总银量的0.5-15%。