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公开(公告)号：CN1971001B
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN200610168921.4
申请日：2006-10-31
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: F01D5/288 , F01D5/284 , F01D25/002 , F05D2220/31 , F05D2230/90 , F05D2260/95 , F05D2300/50 , F05D2300/51 , F05D2300/60 , Y02T50/67 , Y02T50/673
Abstract: 一种蒸汽涡轮机，包括：插入在涡轮转子中的叶片和设置在叶片的上游侧并由涡轮机壳体支撑的喷嘴，其中分别包括所述叶片和喷嘴的多个级轴向布置在涡轮机中，以限定出蒸汽通道。亲水涂覆部分设置在所述涡轮转子的圆周表面、喷嘴表面、叶片表面和涡轮机壳体的内周表面的整个区域上或设置在所述这些表面的至少一部分的区域上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1971001A
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN200610168921.4
申请日：2006-10-31
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: F01D5/288 , F01D5/284 , F01D25/002 , F05D2220/31 , F05D2230/90 , F05D2260/95 , F05D2300/50 , F05D2300/51 , F05D2300/60 , Y02T50/67 , Y02T50/673
Abstract: 一种蒸汽涡轮机，包括：插入在涡轮转子中的叶片和设置在叶片的上游侧并由涡轮机壳体支撑的喷嘴，其中分别包括所述叶片和喷嘴的多个级轴向布置在涡轮机中，以限定出蒸汽通道。亲水涂覆部分设置在所述涡轮转子的圆周表面、喷嘴表面、叶片表面和涡轮机壳体的内周表面的整个区域上或设置在所述这些表面的至少一部分的区域上。
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公开(公告)号：CN1287388C
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN200410032867.1
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种化学去污液的处理方法，包括：制备化学去污液，其中溶解有用于溶解粘附于污染元件上的氧化膜的有机酸；和电解所述化学去污液，从而在阴极将化学去污液中的Fe3+离子还原为Fe2+离子，并在阳极将Fe2+离子氧化为Fe3+离子，并调整化学去污液中的铁离子价数。
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公开(公告)号：CN1540675A
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：CN200410032867.1
申请日：2001-12-21
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 一种化学去污液的处理方法，包括：制备化学去污液，其中溶解有用于溶解粘附于污染元件上的氧化膜的有机酸；和电解所述化学去污液，从而在阴极将化学去污液中的Fe3+离子还原为Fe2+离子，并在阳极将Fe2+离子氧化为Fe3+离子，并调整化学去污液中的铁离子价数。
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