ガス分析計
    2.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2008129929A1

    公开(公告)日:2010-07-22

    申请号:JP2009510815

    申请日:2008-04-02

    Abstract: 試料ガスをイオン化するイオン化部211と、前記イオン化部211からの距離が互いに異なるように、前記イオン化部211を挟んで設けられ、前記イオン化部211からのイオンを検出する第1イオン検出部212及び第2イオン検出部213と、前記イオン化部211及び前記第1イオン検出部212の間に設けられ、前記イオン化部211からのイオンを選択的に通過させるフィルタ部214と、前記第1イオン検出部212により得られる試料ガスの第1の全圧TP1、及び前記第2イオン検出部213により得られる試料ガスの第2の全圧TP2を用いて、前記第1イオン検出部212により得られる前記フィルタ極部214により選択された特定成分の分圧PP1を補正する演算装置3と、を備え、四重極質量分析法等を用いたガス分析計において、分解能を維持しながら、測定値が雰囲気圧力の変化に追従しなくなった領域においても補正可能にする。

    残留ガス分析計
    3.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2007111110A1

    公开(公告)日:2009-08-06

    申请号:JP2008507413

    申请日:2007-03-09

    CPC classification number: G01N27/62 H01J49/00

    Abstract: 本発明は、半導体装置の狭い場所等にも好適に配して計測することができ、また、外部のパソコン無しで計測から計測結果の表示までを行うことができるといった、優れた残留ガス分析計であり、残留ガスを検知するセンサ部11を備えて成るセンサユニット1と、前記センサ部11を制御するための操作を受け付ける操作部、前記センサ部11の出力に基づいて残留ガスの分析処理を行う残留ガス分析処理部、および、残留ガス分析処理部での分析処理結果を画面表示する分析処理結果画面表示部を備えるとともに、前記センサユニット1を装着させた装着状態(P1)または離脱させた離脱状態(P2)をとる装置本体2とを具備している。

    Capacitance-type pressure sensor and a method of manufacturing the same

    公开(公告)号:JP5260155B2

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:JP2008157256

    申请日:2008-06-16

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce distortion due to a thermal stress as much as possible at the time of welding a frame 4 and a diaphragm 3, enhance rigidity between the frame 4 and the diaphragm 3, and reduce a change of a distance between a fixed electrode 2 and the diaphragm 3 as much as possible to stabilize the output of a pressure sensor 1. SOLUTION: A capacitance type pressure sensor measuring pressure by detecting a change of a capacitance between the diaphragm 3 and the fixed electrode 2 which are displaced by the pressure includes a recessed part 41 which prescribes a distance between opposing surfaces of the fixed electrode 2 and the diaphragm 3, and the cast frame 4 having an electrode plane of the fixed electrode 2 disposed on a plane substantially flush with a bottom surface 411 of the recessed part and the diaphragm 3 disposed on an open periphery 401 of the recessed part 41 to cover the recessed part 41. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

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