公开(公告)号：CN1226212C

公开(公告)日：2005-11-09

申请号：CN02801814.1

申请日：2002-04-19

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 小峰典男 ,  吉田明子 ,  神保宏树 ,  藤原诚志

IPC: C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C4/0071 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  G02B1/02 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958

Abstract: 本发明的石英玻璃元件是其中当其组成被表示为SiOx时，x不小于1.85，不大于1.95，其中其所包含的氢分子的浓度不小于1×1016分子/cm3，不大于5×1018分子/cm3，并且其中用1×104个ArF准分子激光脉冲、平均一个脉冲能量密度为2mJ/cm2照射结束之前立即测得的吸收系数A，与用该ArF准分子激光照射停止之后600秒的第二吸收系数B之间的差A-B，不大于0.002cm-1。当将该石英玻璃元件应用于投影曝光装置中的照明光学系统和/或投影光学系统时，能够实现均匀曝光，同时减小掩模原版表面以及晶片上曝光区域中的照度改变。

公开(公告)号：CN1657456A

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN200510004707.0

申请日：2001-03-28

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 吉田明子 ,  小峰典男 ,  神保宏树

IPC: C03C3/06 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B1/00

CPC classification number: G03F7/70058 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70958

Abstract: 提供合成石英玻璃部件，光刻装置以及光刻装置的制造方法。构成具有把400nm以下波长的光作为曝光光进行出射的曝光光源，形成了图形原像的调制盘，把从曝光光源输出的光照射到调制盘上的照射光学系统，把从调制盘输出的图像投影到感光基板上的投影光学系统，进行调制盘与感光基板的定位的对准系统的光刻装置。而且，用合成石英玻璃部件组成构成照射光学系统的合成石英玻璃部件，构成投影光学系统的合成石英玻璃部件以及调制盘中的至少一部分，这样的合成石英玻璃部件用ArF受激准分子激光器以0.1μJ/cm2.p～200mJ/cm2·p的能量密度进行了1×104脉冲照射时，照射后所测定的193.4nm中的损失系数为0.0050cm－1以下，所含有的氢分子浓度为1×1016分子/cm3～2×1018分子/cm3，而且紫外光照射前的损失系数为0.0020cm－1以下。

公开(公告)号：CN1463256A

公开(公告)日：2003-12-24

申请号：CN02801814.1

申请日：2002-04-19

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 小峰典男 ,  吉田明子 ,  神保宏树 ,  藤原诚志

IPC: C03C3/06 ,  G02B1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C4/0071 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  G02B1/02 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958

Abstract: 本发明的石英玻璃元件是其中当其组成被表示为SiOx时，x不小于1.85，不大于1.95，其中其所包含的氢分子的浓度不小于1×1016分子/cm3，不大于5×1018分子/cm3，并且其中用1×104个ArF准分子激光脉冲、平均一个脉冲能量密度为2mJ/cm2照射结束之前立即测得的吸收系数A，与用该ArF准分子激光照射停止之后600秒的第二吸收系数B之间的差A－B，不大于0.002cm－1。当将该石英玻璃元件应用于投影曝光装置中的照明光学系统和/或投影光学系统时，能够实现均匀曝光，同时减小掩模原版表面以及晶片上曝光区域中的照度改变。

公开(公告)号：CN1365343A

公开(公告)日：2002-08-21

申请号：CN01800713.9

申请日：2001-03-28

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 吉田明子 ,  小峰典男 ,  神保宏树

IPC: C03C3/06 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B1/00

CPC classification number: G03F7/70058 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  G03F7/70216 ,  G03F7/70958

Abstract: 提供合成石英玻璃部件,光刻装置以及光刻装置的制造方法。构成具有把400nm以下波长的光作为曝光光进行出射的曝光光源,形成了图形原像的调制盘,把从曝光光源输出的光照射到调制盘上的照射光学系统,把从调制盘输出的图像投影到感光基板上的投影光学系统,进行调制盘与感光基板的定位的对准系统的光刻装置。而且,用合成石英玻璃部件组成构成照射光学系统的合成石英玻璃部件,构成投影光学系统的合成石英玻璃部件以及调制盘中的至少一部分,这样的合成石英玻璃部件用ArF受激准分子激光器以0.1μJ/cm2.p～200mJ/cm2·p的能量密度进行了1×104脉冲照射时,照射后所测定的193.4nm中的损失系数为0.0050cm－1以下,所含有的氢分子浓度为1×1016分子/cm3～2×1018分子/cm3,而且紫外光照射前的损失系数为0.0020cm－1以下。

公开(公告)号：CN1219515A

公开(公告)日：1999-06-16

申请号：CN98120822.3

申请日：1998-09-30

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 神保宏树 ,  小峰典男 ,  吉田明子 ,  藤原诚志

IPC: C03B11/00 ,  C03B20/00

CPC classification number: C03B32/00 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

Abstract: 即使是以往的抑制二次光子吸收过程的石英玻璃,在用它构成装置时,存在不能获得充分的成像性能和生产率低的问题。本发明提供一种使溶解的氢分子浓度在5×1018(分子/cm3)以下,用受激准分子激光照射时实际上没有作为一次光子吸收和二次光子吸收的前驱体缺陷的石英玻璃部件。