公开(公告)号：CN107850855B

公开(公告)日：2020-05-26

申请号：CN201680042016.6

申请日：2016-07-15

Applicant: 日立化成株式会社 ,  株式会社斯库林集团

Inventor： 山本哲平 ,  中山肇 ,  荻野晴夫 ,  矶田聪 ,  前田晃 ,  山田亮

IPC: G03F7/20 ,  H05K3/00

Abstract: 在使由下底数据的手动测量带来的工作量减少的同时，抑制曝光数据修正量的误差，使电路宽度精度提高。一种曝光数据修正装置，取得基于从第1实际图案的上底得到的数据的第1上底数据，上述第1实际图案通过使用基于设计数据的曝光数据的电路加工得到；取得基于从第1实际图案的下底得到的数据的下底数据；决定第1上底数据与下底数据的相关关系；取得第2上底数据，上述第2上底数据基于从包括与第1实际图案不同的区域在内的区域中的上底得到的数据、或从与第1实际图案不同的第2实际图案的上底得到的数据；基于为了得到第2上底数据而使用的实际图案所用的设计数据、第2上底数据及相关关系，决定修正函数；将为了得到第2上底数据而使用的实际图案所用的曝光数据基于修正函数进行修正。

公开(公告)号：CN116666260A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202310044723.0

申请日：2023-01-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 清水进二 ,  山田亮 ,  增井达哉 ,  出羽裕一 ,  宫胁美和

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  G01N21/88 ,  H04N23/70

Abstract: 本发明提供一种即使在处理槽内贮存有处理液也能够以更高精度监视处理槽的内部的技术。基板处理装置(100)使多个基板(W)浸渍在处理液内来一并处理多个基板(W)。基板处理装置(100)具备处理槽(10)以及摄像头(30)。处理槽(10)贮存处理液。摄像头(30)与处理槽(10)相比设在铅垂上方，拍摄处理槽(10)的内部生成多个拍摄图像数据。控制部(90)基于多个拍摄图像数据的累计生成使在处理液的液面产生的摇晃的亮度分布平滑化的平滑图像数据，基于该平滑图像数据监视处理槽(10)的内部。

公开(公告)号：CN116642902A

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202211677587.0

申请日：2022-12-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 清水进二 ,  山田亮 ,  增井达哉 ,  出羽裕一 ,  宫胁美和

IPC: G01N21/95 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66 ,  G01N21/88 ,  G01N21/01

Abstract: 提供一种用户能够容易识别异常种类的基板检测装置、基板处理装置及基板检测方法。基板检测装置(102)具备照明部(60)、摄像头(50)、报知部(70)和控制部(103)。照明部(60)向包含插入于多个保持槽中的多个基板(W)在内的拍摄区域照射照明光，多个保持槽包含于基板保持部并沿着规定的排列方向排列。摄像头(50)对拍摄区域进行拍摄而生成拍摄图像数据。控制部(103)进行检测处理，即基于拍摄图像数据检测多个基板(W)中的某一个基板(W)斜着插入的斜插异常、以及在多个保持槽中的某一个保持槽中插入了两个以上基板(W)的多插异常中的至少某一方，并使报知部(70)报知所检测出的异常。

公开(公告)号：CN118830061A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202380025906.6

申请日：2023-01-31

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 清水进二 ,  山田亮 ,  增井达哉 ,  出羽裕一 ,  宫胁美和

IPC: H01L21/304 ,  B05C11/00 ,  B05C11/08 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供一种能够抑制液滴的影响而以更高的精度对监视对象物进行监视的技术。基板处理装置具有腔室(10)、基板保持部(20)、喷嘴(30)、摄像头(70)以及控制部(9)。基板保持部(20)在腔室(10)内保持基板(W)。喷嘴(30)朝向由基板保持部(20)保持的基板(W)喷出处理液。摄像头(70)拍摄包括腔室(10)内的监视对象物的拍摄区域，生成拍摄图像数据。在拍摄图像数据包含有液滴时，控制部(9)使用拍摄图像数据中去除了表示液滴的液滴区域的至少一部分的区域，对监视对象物进行监视。

公开(公告)号：CN107850855A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680042016.6

申请日：2016-07-15

Applicant: 日立化成株式会社 ,  株式会社斯库林集团

Inventor： 山本哲平 ,  中山肇 ,  荻野晴夫 ,  矶田聪 ,  前田晃 ,  山田亮

IPC: G03F7/20 ,  H05K3/00

Abstract: 在使由下底数据的手动测量带来的工作量减少的同时，抑制曝光数据修正量的误差，使电路宽度精度提高。一种曝光数据修正装置，取得基于从第1实际图案的上底得到的数据的第1上底数据，上述第1实际图案通过使用基于设计数据的曝光数据的电路加工得到；取得基于从第1实际图案的下底得到的数据的下底数据；决定第1上底数据与下底数据的相关关系；取得第2上底数据，上述第2上底数据基于从包括与第1实际图案不同的区域在内的区域中的上底得到的数据、或从与第1实际图案不同的第2实际图案的上底得到的数据；基于为了得到第2上底数据而使用的实际图案所用的设计数据、第2上底数据及相关关系，决定修正函数；将为了得到第2上底数据而使用的实际图案所用的曝光数据基于修正函数进行修正。