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公开(公告)号：CN119864293A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411436047.2
申请日：2024-10-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明能够提供能够高精度地确定处理液供给部内的处理液的基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)包括喷嘴(136)、处理液供给部(200)、近红外线光源(140)、近红外摄像部(150)及控制部(102)。喷嘴向基板(W)的上表面(Wa)供给处理液。处理液供给部相对于喷嘴供给多种处理液。近红外线光源利用近红外线照射包含处理液供给部的至少一部分在内的区域。近红外摄像部生成对被近红外线照射的处理液进行拍摄得到的拍摄图像。控制部对处理液供给部及近红外摄像部进行控制。控制部基于拍摄图像来确定包含处理液供给部的至少一部分在内的区域内的处理液的种类。
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公开(公告)号：CN110313052B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN201880011744.X
申请日：2018-03-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/677
Abstract: 基板处理装置包括：液体处理单元，在处理室内对基板的表面供给处理液，从而在基板的表面形成处理液膜；固化单元，在固化室内使所述处理液膜固化而在所述基板的表面上形成固化膜；去除处理单元，在去除室内将用于去除所述固化膜的去除液供给至所述基板的表面；主运送单元，向所述处理室送入基板，并从所述去除室送出基板；以及局部运送单元，从所述处理室送出基板并向所述固化室送入基板。
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公开(公告)号：CN110352473B
公开(公告)日：2023-06-09
申请号：CN201880014780.1
申请日：2018-02-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/677
Abstract: 基板处理装置包括：液体处理单元，在处理室内将处理液供给至基板的表面；干燥单元，在干燥室内使基板表面的处理液干燥；主运送单元，将基板送入所述处理室；局部运送单元，从所述处理室将基板运送至所述干燥室；以及防干燥流体供给单元，在利用所述局部运送单元运送基板的期间，将防干燥流体供给至所述基板表面，所述防干燥流体用于防止所述基板表面的处理液干燥。
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公开(公告)号：CN114402420A
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202080064773.X
申请日：2020-05-25
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置1具有处理单元14以及控制部18。处理单元14具有基板保持部31、旋转驱动部35、处理液供给部41、液体回收部50以及防护罩驱动部60。基板保持部31以水平姿势保持基板W。旋转驱动部35旋转基板保持部31。液体回收部50包括第一防护罩51、第二防护罩52以及液体导入口58。第一防护罩51以及第二防护罩52以围绕基板保持部31的侧方的方式配置。液体导入口58由防护罩划分。液体导入口58对被基板保持部31保持的基板W开放。防护罩驱动部60使第二防护罩52在铅垂方向上移动。控制部18根据被基板保持部31保持的基板W的形状控制防护罩驱动部60，由此改变液体导入口58的上端58T的高度位置。
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公开(公告)号：CN107924832A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680044269.7
申请日：2016-06-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67023 , B08B3/041 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B3/106 , B08B5/02 , B08B5/023 , B08B7/0071 , B08B2203/007 , H01L21/304 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/67057
Abstract: 本基板处理方法是使用处理液对基板的表面进行处理的基板处理方法，包括：混合液置换步骤，以第一液体与第二液体的混合液来置换附着在上述基板的表面的处理液，该第二液体的沸点比上述第一液体的沸点高且该第二液体具有比上述第一液体的表面张力低的表面张力；及混合液去除步骤，在上述混合液置换步骤之后，从上述基板的表面去除上述混合液。
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公开(公告)号：CN119864294A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202411437638.1
申请日：2024-10-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够高精度地确定排液部内的处理液的基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)包括腔室(112)、基板保持部(120)、处理液供给部(130)、排液部(190)、至少一个近红外线光源(140)、近红外摄像部(150)及控制部(102)。基板保持部收容于腔室。基板保持部保持基板(W)。处理液供给部在不同的定时向基板供给多种处理液。排液部将多种处理液向腔室外排液。至少一个近红外线光源利用近红外线照射包含排液部的至少一部分的区域(AR1)。近红外摄像部拍摄利用近红外线照射的排液部内的多种处理液并生成拍摄图像。控制部基于拍摄图像来确定排液部内的处理液的种类。
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公开(公告)号：CN110199377B
公开(公告)日：2023-07-25
申请号：CN201780084440.1
申请日：2017-12-19
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 一种基板处理装置，包括：涂布膜形成单元，具有涂布室，且在所述涂布室内部对基板的表面涂布表面张力比水小的低表面张力液体以形成涂布膜；升华单元，具有升华室，且在所述升华室内部使形成于所述基板的表面的涂布膜升华；减压单元，将所述升华室内部减压至比大气压低的压力；主搬运单元，将基板搬入所述涂布室；局部搬运单元，从所述涂布室向所述升华室搬运基板；以及涂布膜状态保持单元，用于在所述局部搬运单元从所述涂布室向所述升华室搬运所述基板的期间保持所述涂布膜的状态。
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公开(公告)号：CN114695184A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202111569127.1
申请日：2021-12-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明涉及一种衬底处理系统及衬底处理方法。衬底处理系统具备：第1衬底保持单元，包含从下侧与具有保护对象面及所述保护对象面相反侧的洗净对象面的衬底对向的第1基座，将所述衬底以所述保护对象面朝向上侧的第1姿势保持；保护膜涂布喷嘴，对于由所述第1衬底保持单元保持的所述衬底的所述保护对象面，至少在周缘部涂布保护膜；第1翻转单元，与所述衬底的周缘部接触并使所述衬底翻转，以使得所述衬底的姿势从所述第1姿势变化为所述保护对象面朝向下侧的第2姿势；第2衬底保持单元，包含从下侧与所述衬底对向的第2基座，将所述衬底以所述第2姿势保持；以及洗净单元，将由所述第2衬底保持单元保持的所述衬底的所述洗净对象面洗净。
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公开(公告)号：CN107924832B
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN201680044269.7
申请日：2016-06-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本基板处理方法是使用处理液对基板的表面进行处理的基板处理方法，包括：混合液置换步骤，以第一液体与第二液体的混合液来置换附着在上述基板的表面的处理液，该第二液体的沸点比上述第一液体的沸点高且该第二液体具有比上述第一液体的表面张力低的表面张力；及混合液去除步骤，在上述混合液置换步骤之后，从上述基板的表面去除上述混合液。
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公开(公告)号：CN110352473A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201880014780.1
申请日：2018-02-15
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304 , H01L21/677
Abstract: 基板处理装置包括：液体处理单元，在处理室内将处理液供给至基板的表面；干燥单元，在干燥室内使基板表面的处理液干燥；主运送单元，将基板送入所述处理室；局部运送单元，从所述处理室将基板运送至所述干燥室；以及防干燥流体供给单元，在利用所述局部运送单元运送基板的期间，将防干燥流体供给至所述基板表面，所述防干燥流体用于防止所述基板表面的处理液干燥。
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