公开(公告)号：CN107430987B

公开(公告)日：2021-04-02

申请号：CN201680017231.0

申请日：2016-02-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 秋月佑介

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  B05D3/00 ,  B05D7/24 ,  B05C11/08

Abstract: 为了解决从基板的表面良好地去除抗蚀剂的课题，在包括旋转卡盘(5)以及向被旋转卡盘(5)保持的基板(W)供给SPM的SPM供给单元(6)的基板处理装置(1)中，所述SPM供给单元(6)具有：混合单元(30)，将过氧化氢溶液和氢氟酸混合，从而生成过氧化氢溶液和氢氟酸的混合液；以及HF混合SPM生成单元(14)，将所述混合液与硫酸混合，从而生成HF混合SPM。

公开(公告)号：CN107430987A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680017231.0

申请日：2016-02-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 秋月佑介

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  B05D3/00 ,  B05D7/24 ,  B05C11/08

CPC classification number: B05C11/1039 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1042 ,  B05D7/24 ,  C09K13/08 ,  G03F7/423 ,  G03F7/425 ,  H01L21/027

Abstract: 为了解决从基板的表面良好地去除抗蚀剂的课题，在包括旋转卡盘(5)以及向被旋转卡盘(5)保持的基板(W)供给SPM的SPM供给单元(6)的基板处理装置(1)中，所述SPM供给单元(6)具有：混合单元(30)，将过氧化氢溶液和氢氟酸混合，从而生成过氧化氢溶液和氢氟酸的混合液；以及HF混合SPM生成单元(14)，将所述混合液与硫酸混合，从而生成HF混合SPM。

公开(公告)号：CN114402420A

公开(公告)日：2022-04-26

申请号：CN202080064773.X

申请日：2020-05-25

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 日野出大辉 ,  太田乔 ,  高桥光和 ,  本庄一大 ,  秋月佑介

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置1具有处理单元14以及控制部18。处理单元14具有基板保持部31、旋转驱动部35、处理液供给部41、液体回收部50以及防护罩驱动部60。基板保持部31以水平姿势保持基板W。旋转驱动部35旋转基板保持部31。液体回收部50包括第一防护罩51、第二防护罩52以及液体导入口58。第一防护罩51以及第二防护罩52以围绕基板保持部31的侧方的方式配置。液体导入口58由防护罩划分。液体导入口58对被基板保持部31保持的基板W开放。防护罩驱动部60使第二防护罩52在铅垂方向上移动。控制部18根据被基板保持部31保持的基板W的形状控制防护罩驱动部60，由此改变液体导入口58的上端58T的高度位置。