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公开(公告)号：CN114643165B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202111567532.X
申请日：2021-12-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05C5/02 , B05B13/04 , B05B15/555 , B05B15/50 , B05C11/10
Abstract: 为了对喷出分散系涂敷液的喷嘴进行有效地清洗，本发明提供一种喷嘴清洗装置，该喷嘴清洗装置具有：清洗槽，具有设置有贮存对喷嘴下端部进行清洗的清洗液的贮存区域的清洗槽下端部以及能够将喷嘴下端部浸渍于由贮存区域贮存的清洗液中的开口部；液体槽，贮存液体，并且在使清洗槽下端部浸渍在液体中的状态下设置于清洗槽的下方；以及超声波振子，在液体槽中贮存的液体中产生超声波振动，并经由液体、清洗槽下端部以及清洗液向喷嘴下端部施加超声波振动。当从第一水平方向观察时，清洗槽下端部以及贮存区域被加工成越朝超声波振子而顶端越变细的形状。
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公开(公告)号：CN114950809B
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202111353549.5
申请日：2021-11-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 提供一种将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部的喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置，其包括：附着物去除部，由支撑构件予以支撑；移动部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下，使附着物去除部沿喷出口的延伸设置方向移动；回收部，在附着物去除部的下方，对通过移动部所造成的喷嘴抵接构件的移动被去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；及排出部，将由回收部所回收的涂布液引导并排出至涂布装置的外部，回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由底部及侧壁所形成的回收区域使涂布液朝向排出部流动，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。
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公开(公告)号：CN115739522B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202210509128.5
申请日：2022-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05C5/02 , B05B15/16 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明的课题在于预先防止与狭缝喷嘴一体地下降的喷嘴防护件踩踏突出物而对处理液向基板的涂布带来不良影响的情况。本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使狭缝喷嘴相对于基板相对地移动；喷嘴防护件，在狭缝喷嘴通过移动机构而相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于狭缝喷嘴的前方侧，并与狭缝喷嘴一体地移动；升降机构，使狭缝喷嘴与喷嘴防护件一体地升降；以及碰撞探测部，探测通过升降机构下降的喷嘴防护件的前端在基板的表面侧向上方突出并与阻碍处理液的涂布的突出物碰撞。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118616274A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202311438582.7
申请日：2023-11-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种狭缝喷嘴及基板处理装置，其在使刮刀相对于附着有处理液的狭缝喷嘴的前端部抵接的同时相对移动时，可抑制所述前端部的处理液痕的产生或量。本发明具有对狭缝喷嘴的前端部的表面实施了疏液处理的表面处理区域。所述表面处理区域与通过刮刀相对于狭缝喷嘴的相对移动而刮刀的上方端所描绘的抵接轨迹重叠。更具体而言，表面处理区域的下方端与抵接轨迹一致，或位于比抵接轨迹更靠下方处，并且上方端位于比抵接轨迹更靠上方处。因此，通过疏液作用，处理液不会沿着抵接轨迹残存，或者即便残存，处理液的余量也比以往大幅减少。
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公开(公告)号：CN115739522A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202210509128.5
申请日：2022-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05C5/02 , B05B15/16 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明的课题在于预先防止与狭缝喷嘴一体地下降的喷嘴防护件踩踏突出物而对处理液向基板的涂布带来不良影响的情况。本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使狭缝喷嘴相对于基板相对地移动；喷嘴防护件，在狭缝喷嘴通过移动机构而相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于狭缝喷嘴的前方侧，并与狭缝喷嘴一体地移动；升降机构，使狭缝喷嘴与喷嘴防护件一体地升降；以及碰撞探测部，探测通过升降机构下降的喷嘴防护件的前端在基板的表面侧向上方突出并与阻碍处理液的涂布的突出物碰撞。
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公开(公告)号：CN118629894A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202311446934.3
申请日：2023-11-02
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种狭缝喷嘴、基板处理装置及基板处理方法，其在使刮刀相对于附着有处理液的狭缝喷嘴的前端部抵接的同时相对移动时，可抑制所述前端部的处理液痕的产生或量。本发明满足接触角条件。即，满足处理液相对于前端部的表面中与刮刀抵接的喷嘴侧抵接区域的接触角(θn)大于处理液相对于刮刀的表面中与前端部抵接的刮刀侧抵接区域的接触角(θs)的条件。因此，随着刮刀的相对移动，位于刮刀与狭缝喷嘴的前端部之间的处理液的移动目的地主要为刮刀。在抵接轨迹上不残存处理液，或者即便残存，处理液的余量也比以往大幅减少。
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公开(公告)号：CN114950809A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202111353549.5
申请日：2021-11-16
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 提供一种将从喷嘴的下端部去除的涂布液顺利地排出至涂布装置的外部的喷嘴清洗装置、喷嘴清洗方法以及涂布装置，其包括：附着物去除部，由支撑构件予以支撑；移动部，在使喷嘴抵接构件抵接于喷嘴的下端部的状态下，使附着物去除部沿喷出口的延伸设置方向移动；回收部，在附着物去除部的下方，对通过移动部所造成的喷嘴抵接构件的移动被去除后经由附着物去除部朝下方流动的涂布液进行回收；及排出部，将由回收部所回收的涂布液引导并排出至涂布装置的外部，回收部是具有底部与侧壁的结构体，沿着由底部及侧壁所形成的回收区域使涂布液朝向排出部流动，所述底部在附着物去除部的下方具有朝向排出部倾斜的内底面，所述侧壁是从底部的边部竖立设置。
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公开(公告)号：CN114643165A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202111567532.X
申请日：2021-12-20
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05C5/02 , B05B13/04 , B05B15/555 , B05B15/50 , B05C11/10
Abstract: 为了对喷出分散系涂敷液的喷嘴进行有效地清洗，本发明提供一种喷嘴清洗装置，该喷嘴清洗装置具有：清洗槽，具有设置有贮存对喷嘴下端部进行清洗的清洗液的贮存区域的清洗槽下端部以及能够将喷嘴下端部浸渍于由贮存区域贮存的清洗液中的开口部；液体槽，贮存液体，并且在使清洗槽下端部浸渍在液体中的状态下设置于清洗槽的下方；以及超声波振子，在液体槽中贮存的液体中产生超声波振动，并经由液体、清洗槽下端部以及清洗液向喷嘴下端部施加超声波振动。当从第一水平方向观察时，清洗槽下端部以及贮存区域被加工成越朝超声波振子而顶端越变细的形状。
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