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公开(公告)号：CN118629894A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202311446934.3
申请日：2023-11-02
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种狭缝喷嘴、基板处理装置及基板处理方法，其在使刮刀相对于附着有处理液的狭缝喷嘴的前端部抵接的同时相对移动时，可抑制所述前端部的处理液痕的产生或量。本发明满足接触角条件。即，满足处理液相对于前端部的表面中与刮刀抵接的喷嘴侧抵接区域的接触角(θn)大于处理液相对于刮刀的表面中与前端部抵接的刮刀侧抵接区域的接触角(θs)的条件。因此，随着刮刀的相对移动，位于刮刀与狭缝喷嘴的前端部之间的处理液的移动目的地主要为刮刀。在抵接轨迹上不残存处理液，或者即便残存，处理液的余量也比以往大幅减少。
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公开(公告)号：CN111299018B
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN201911074571.9
申请日：2019-11-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种可顺畅地进行向自下方施加浮力来支撑基板的平台搬送基板且防止基板的搬送不良或损伤的基板搬送装置及涂布装置。在本发明的基板搬送装置中，在将与基板的搬送方向正交的水平方向设为宽度方向时，基板支撑平台在俯视时与搬送辊在宽度方向上不同的位置具有搬送方向上的最上游侧端部至少延伸至搬送辊的旋转轴的位置的延伸部，延伸部的上表面的高度与基板支撑面相同且与基板支撑面连接，由升降机构定位于上部位置的搬送辊搬送基板，直至俯视时基板的前端部到达较搬送辊的旋转轴更靠下游位置处，其后，升降机构使搬送辊下降至下部位置，由此将基板自搬送辊移交至基板支撑平台。
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公开(公告)号：CN111299018A
公开(公告)日：2020-06-19
申请号：CN201911074571.9
申请日：2019-11-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种可顺畅地进行向自下方施加浮力来支撑基板的平台搬送基板且防止基板的搬送不良或损伤的基板搬送装置及涂布装置。在本发明的基板搬送装置中，在将与基板的搬送方向正交的水平方向设为宽度方向时，基板支撑平台在俯视时与搬送辊在宽度方向上不同的位置具有搬送方向上的最上游侧端部至少延伸至搬送辊的旋转轴的位置的延伸部，延伸部的上表面的高度与基板支撑面相同且与基板支撑面连接，由升降机构定位于上部位置的搬送辊搬送基板，直至俯视时基板的前端部到达较搬送辊的旋转轴更靠下游位置处，其后，升降机构使搬送辊下降至下部位置，由此将基板自搬送辊移交至基板支撑平台。
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公开(公告)号：CN111545381B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN201911172486.6
申请日：2019-11-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B13/04 , B05B13/02 , B05B15/555 , B05B14/00
Abstract: 本发明提供一种抑制涂布不均的涂布装置及涂布方法。本发明的课题在于在通过涂布平台而一边使基板以上浮的状态移动一边对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置中抑制涂布不均，所述涂布平台包含朝向上方具有气体的喷出口的多个开口部与具有所述气体的抽吸口的多个开口部。涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域均在水平面内沿与移动方向正交的列方向排列沿着移动方向排列多个开口部而成的开口行而使基板上浮，在涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个开口行，构成开口行的多个开口部在列方向上分散配置。
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公开(公告)号：CN108525942B
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN201810178987.4
申请日：2018-03-05
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05C5/02 , B05C13/02 , G01F23/292 , G01B21/08
Abstract: 本发明提供一种上浮量计算装置、涂覆装置以及涂覆方法。在使基板从载台上浮地进行搬运并向基板涂覆涂覆液的涂覆装置中，无论基板的种类，都能高精度地求出从载台上浮的上浮量。涂覆装置具有：板厚测定用传感器，检测吸附部件中的吸附基板的下表面的吸附面的铅垂方向位置和基板中的被吸附部位的上表面区域的铅垂方向位置；上浮测定用传感器，检测载台的上表面的铅垂方向位置和搬运至载台的上方的基板的上表面的铅垂方向位置；板厚计算部，基于吸附面的铅垂方向位置以及被吸附部位的上表面区域的铅垂方向位置来计算基板的板厚；上浮量计算部，基于载台的上表面的铅垂方向位置和基板的上表面的铅垂方向位置、计算出的板厚来计算基板的上浮量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108525942A
公开(公告)日：2018-09-14
申请号：CN201810178987.4
申请日：2018-03-05
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05C5/02 , B05C13/02 , G01F23/292 , G01B21/08
Abstract: 本发明提供一种上浮量计算装置、涂覆装置以及涂覆方法。在使基板从载台上浮地进行搬运并向基板涂覆涂覆液的涂覆装置中，无论基板的种类，都能高精度地求出从载台上浮的上浮量。涂覆装置具有：板厚测定用传感器，检测吸附部件中的吸附基板的下表面的吸附面的铅垂方向位置和基板中的被吸附部位的上表面区域的铅垂方向位置；上浮测定用传感器，检测载台的上表面的铅垂方向位置和搬运至载台的上方的基板的上表面的铅垂方向位置；板厚计算部，基于吸附面的铅垂方向位置以及被吸附部位的上表面区域的铅垂方向位置来计算基板的板厚；上浮量计算部，基于载台的上表面的铅垂方向位置和基板的上表面的铅垂方向位置、计算出的板厚来计算基板的上浮量。
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公开(公告)号：CN114950810B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202210026200.9
申请日：2022-01-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B15/555 , B05B15/50 , B05C5/02
Abstract: 本发明涉及喷嘴清洗装置、方法及涂敷装置，在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴移动来去除附着于喷嘴的处理液时，能抑制残留在喷嘴的处理液的量。在使喷嘴抵接构件相对于在下端部设置有突出部位和后退部位的喷嘴以与下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向移动时，在下端部的一部分残留有处理液。残留位置是后退部位中的与突出部位相邻的边界位置，即突出量比突出部位的突出量连续或非连续地减少的位置。在本发明中，在喷嘴抵接构件通过边界位置时，即喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位相对地移动时，相对移动速度比在突出部位移动时的第一移动速度减速。结果，处理液的残留量被大幅削减。
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公开(公告)号：CN115739522B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202210509128.5
申请日：2022-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05C5/02 , B05B15/16 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明的课题在于预先防止与狭缝喷嘴一体地下降的喷嘴防护件踩踏突出物而对处理液向基板的涂布带来不良影响的情况。本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使狭缝喷嘴相对于基板相对地移动；喷嘴防护件，在狭缝喷嘴通过移动机构而相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于狭缝喷嘴的前方侧，并与狭缝喷嘴一体地移动；升降机构，使狭缝喷嘴与喷嘴防护件一体地升降；以及碰撞探测部，探测通过升降机构下降的喷嘴防护件的前端在基板的表面侧向上方突出并与阻碍处理液的涂布的突出物碰撞。
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公开(公告)号：CN118616274A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202311438582.7
申请日：2023-11-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供一种狭缝喷嘴及基板处理装置，其在使刮刀相对于附着有处理液的狭缝喷嘴的前端部抵接的同时相对移动时，可抑制所述前端部的处理液痕的产生或量。本发明具有对狭缝喷嘴的前端部的表面实施了疏液处理的表面处理区域。所述表面处理区域与通过刮刀相对于狭缝喷嘴的相对移动而刮刀的上方端所描绘的抵接轨迹重叠。更具体而言，表面处理区域的下方端与抵接轨迹一致，或位于比抵接轨迹更靠下方处，并且上方端位于比抵接轨迹更靠上方处。因此，通过疏液作用，处理液不会沿着抵接轨迹残存，或者即便残存，处理液的余量也比以往大幅减少。
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公开(公告)号：CN114950810A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210026200.9
申请日：2022-01-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B15/555 , B05B15/50 , B05C5/02
Abstract: 本发明涉及喷嘴清洗装置、方法及涂敷装置，在使喷嘴抵接构件以与喷嘴的下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向上相对于喷嘴移动来去除附着于喷嘴的处理液时，能抑制残留在喷嘴的处理液的量。在使喷嘴抵接构件相对于在下端部设置有突出部位和后退部位的喷嘴以与下端部保持抵接的状态在喷出口的延伸设置方向移动时，在下端部的一部分残留有处理液。残留位置是后退部位中的与突出部位相邻的边界位置，即突出量比突出部位的突出量连续或非连续地减少的位置。在本发明中，在喷嘴抵接构件通过边界位置时，即喷嘴抵接构件从突出部位向后退部位相对地移动时，相对移动速度比在突出部位移动时的第一移动速度减速。结果，处理液的残留量被大幅削减。
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