公开(公告)号：CN102137951B

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN200980134065.2

申请日：2009-09-14

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 塩野一郎 ,  佐藤寿彦 ,  富樫靖久 ,  姜友松 ,  菅原卓哉

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  G02B5/20

CPC classification number: C23C14/0078 ,  C03C17/001 ,  C03C2218/31 ,  H01J37/32082

Abstract: 本发明提供一种滤光器的制造方法，该制造方法通过在薄膜形成前除去因清洗而附着于基板表面的异物来制造具有良好膜质的滤光器。通过进行使用含有水分的溶液对基板S进行清洗的清洗工序P1、利用氧气的等离子体对经清洗工序P1进行清洗的基板S的表面进行等离子体处理的前处理工序P3、以及在经前处理工序P3进行了等离子体处理的基板S的表面形成薄膜的薄膜形成工序(P4、P5)，能够有效除去附着在基板表面的异物。另外，在前处理工序P3中，向产生等离子体的区域仅导入氧气，且使所导入的氧气流量多于在薄膜形成工序中所导入的氧气流量，从而在薄膜形成工序(P4、P5)之前有效去除在清洗工序中通过OH基键附着在基板S表面的异物、防止脱膜部的发生。

公开(公告)号：CN102137951A

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200980134065.2

申请日：2009-09-14

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 塩野一郎 ,  佐藤寿彦 ,  富樫靖久 ,  姜友松 ,  菅原卓哉

IPC: C23C14/02 ,  C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  G02B5/20

CPC classification number: C23C14/0078 ,  C03C17/001 ,  C03C2218/31 ,  H01J37/32082

Abstract: 本发明提供一种滤光器的制造方法，该制造方法通过在薄膜形成前除去因清洗而附着于基板表面的异物来制造具有良好膜质的滤光器。通过进行使用含有水分的溶液对基板S进行清洗的清洗工序P1、利用氧气的等离子体对经清洗工序P1进行清洗的基板S的表面进行等离子体处理的前处理工序P3、以及在经前处理工序P3进行了等离子体处理的基板S的表面形成薄膜的薄膜形成工序(P4、P5)，能够有效除去附着在基板表面的异物。另外，在前处理工序P3中，向产生等离子体的区域仅导入氧气，且使所导入的氧气流量多于在薄膜形成工序中所导入的氧气流量，从而在薄膜形成工序(P4、P5)之前有效去除在清洗工序中通过OH基键附着在基板S表面的异物、防止脱膜部的发生。