公开(公告)号：CN102066602A

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200980122366.3

申请日：2009-06-16

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 菅原聡 ,  枝并泰宏 ,  高桥一树 ,  熊川进 ,  姜友松 ,  塩野一郎 ,  高坂佳弘

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C14/505 ,  C23C14/345 ,  H01J37/32706 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/34

Abstract: 本发明提供一种能减少附着在成膜面上的异物的发生率、具有自转公转机构的偏压溅射装置。在具备具有自转公转机构的基板支架(12)的偏压溅射装置(1)中，基板支架(12)由公转部件(21)和自转部件(23)构成，在安装于自转部件(23)上的各个基板(14)的背面侧，与基板(14)隔开0.5～10mm的位置处，设置有与基板(14)同等尺寸的圆板状基板电极(30)。

公开(公告)号：CN102066602B

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN200980122366.3

申请日：2009-06-16

Applicant: 株式会社新柯隆

Inventor： 菅原聡 ,  枝并泰宏 ,  高桥一树 ,  熊川进 ,  姜友松 ,  塩野一郎 ,  高坂佳弘

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C14/505 ,  C23C14/345 ,  H01J37/32706 ,  H01J37/32733 ,  H01J37/34

Abstract: 本发明提供一种能减少附着在成膜面上的异物的发生率、具有自转公转机构的偏压溅射装置。在具备具有自转公转机构的基板支架(12)的偏压溅射装置(1)中，基板支架(12)由公转部件(21)和自转部件(23)构成，在安装于自转部件(23)上的各个基板(14)的背面侧，与基板(14)隔开0.5～10mm的位置处，设置有与基板(14)同等尺寸的圆板状基板电极(30)。