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公开(公告)号:JP5772949B2
公开(公告)日:2015-09-02
申请号:JP2013505976
申请日:2012-03-21
Applicant: 株式会社村田製作所
CPC classification number: H05K1/0298 , H01L23/5389 , H01L24/18 , H05K1/0313 , H05K1/09 , H05K1/181 , H05K1/188 , H05K3/4038 , H05K3/4647 , H01L23/49822 , H01L23/49827 , H01L23/49838 , H01L23/5383 , H01L23/5384 , H01L23/5386 , H05K2201/0367 , H05K2201/10674 , H05K2203/0323 , H05K2203/1476 , H05K3/4007
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公开(公告)号:JP5928601B2
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:JP2014536658
申请日:2013-08-01
Applicant: 株式会社村田製作所
CPC classification number: H05K1/0298 , H05K1/115 , H05K3/06 , H05K3/38 , H05K3/4038 , H05K3/4661 , H05K2201/0338 , H05K2201/0355 , H05K2201/09563 , H05K2203/0369 , H05K2203/0554 , H05K2203/063 , H05K2203/1105 , H05K2203/1461
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公开(公告)号:JP2016009612A
公开(公告)日:2016-01-18
申请号:JP2014130084
申请日:2014-06-25
Applicant: 株式会社村田製作所
Abstract: 【課題】 基板通過前後のガスの圧力損失の小さいプラズマ放電基板を提供する。 【解決手段】 第1放電電極5を備えたガス流入側基板1と、第2放電電極8を備えたガス流出側基板2とが、ギャップ4を設けて対向して配置され、ガス流入側基板1には少なくとも1つのガス流入穴1aが形成され、ガス流出側基板2には少なくとも1つのガス流出穴2aが形成され、ガス流入穴1aのギャップ4側の開口面積がガス流出穴2aのギャップ4側の開口面積よりも小さくなるようにした。 【選択図】 図2
Abstract translation: 要解决的问题:提供在气体通过基板之前和之后气体压降低的等离子体放电基板。解决方案:在等离子体放电基板中,包括第一放电电极5和气体的气体流入侧基板1 包括第二放电电极8的流出侧基板2以形成在其间的间隙4相对配置,在气体流入侧基板1上形成有至少一个气体流入孔1a,至少一个气体流出孔2a形成在 气体流出侧基板2和气体流入孔1a的间隙4侧的开口面积比气体流出孔2a的间隙4侧的开口面积小。
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