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公开(公告)号:CN219040417U
公开(公告)日:2023-05-16
申请号:CN202190000377.0
申请日:2021-06-28
Applicant: 株式会社海上
Abstract: 本实用新型提供一种清洗系统,其包括:输送基板的输送装置;配置在该输送装置的下方的清洗单元;控制输送装置、清洗单元的控制装置。输送装置包括沿着输送方向隔开规定间隔地配置有多排的辊。清洗单元包括:在上端具有矩形的开口部的壳体;配置在该壳体的内部的振动板;和振动子,对该振动板赋予超声波振动而对壳体内的清洗液赋予振动。以使壳体的开口部的长度方向沿着输送方向的朝向将辊的下部容纳在壳体的上部而能够清洗该辊。另外,通过增加清洗单元,将壳体的开口部的长度方向朝向基板的宽度方向配置,也能够清洗该基板的背面。
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公开(公告)号:CN210497445U
公开(公告)日:2020-05-12
申请号:CN201890000296.9
申请日:2018-08-21
Applicant: 株式会社海上
IPC: B08B3/12 , H01L21/304
Abstract: 本实用新型提供一种超声波洗净装置及超声波洗净系统,其可洗净玻璃基板等半导体基板及可挠性薄膜等大型被洗净物,具备线形冲洗型及号角型的超声波洗净装置的功能,可省液化大幅减低使用的洗净液。该装置具备:筐体,具有底面,该底面与相对向设置的被洗净物形成倾斜面,在内部下面设有超声波振动子;洗净液供应装置,作为将洗净液供应给筐体底面的液膜形成手段;及流速加速装置,将来自作为液膜形成手段的洗净液供应装置的洗净液流速加速,作为喷出洗净液的流速加速部;筐体由本体构成,该本体具有上板、安装于上板下部的凸出部、从凸出部往下方向延伸形成的外部侧面、及在外部侧面的下端部一体连结构成的底面;底面构成仅以规定角度倾斜于水平面。
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