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公开(公告)号：CN103249858B
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201180058990.9
申请日：2011-12-02
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B05C11/00 , C23C14/12 , C23C14/564
Abstract: 提供能容易地除去着膜于防着板的表面的有机薄膜的有机薄膜形成装置。有机薄膜形成装置，其具有真空槽、配置于真空槽内的基板台、从在真空槽内露出的供给孔向真空槽内供给有机物气体的气体供给部、和安装于真空槽的内壁面的防着板，在配置于基板台的表面的基板上由有机物气体形成有机薄膜，在防着板的露出的表面上，形成有相对于膜整体的体积，以20%～40%的体积比含有聚四氟乙烯的含有氟树脂的非电解镍膜。含有氟树脂的非电解镍膜对有机薄膜具有脱模性，即使附着有机薄膜，也可以通过高压洗涤等方法容易地除去有机薄膜。
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公开(公告)号：CN101454861B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200780019870.1
申请日：2007-05-28
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01J9/20 , C23C14/0042 , C23C14/081 , C23C14/30 , H01J2209/012
Abstract: 提供填充率高的MgO膜。在真空槽(12)内配置蒸发源(23)，边导入氧气和气体的水，边照射电子射线(28)产生MgO蒸气。这时通过使水的导入量达到残留在真空槽内部的水分子数为导入真空槽的水分子数的2.99×10-1倍以上，可以得到(110)峰强度大的MgO膜。(110)优先取向的MgO膜，其填充率高并且气体释放速度慢，因此耐溅射性优异。
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公开(公告)号：CN103249858A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201180058990.9
申请日：2011-12-02
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: B05C11/00 , C23C14/12 , C23C14/564
Abstract: 提供能容易地除去着膜于防着板的表面的有机薄膜的有机薄膜形成装置。有机薄膜形成装置，其具有真空槽、配置于真空槽内的基板台、从在真空槽内露出的供给孔向真空槽内供给有机物气体的气体供给部、和安装于真空槽的内壁面的防着板，在配置于基板台的表面的基板上由有机物气体形成有机薄膜，在防着板的露出的表面上，形成有相对于膜整体的体积，以20%～40%的体积比含有聚四氟乙烯的含有氟树脂的非电解镍膜。含有氟树脂的非电解镍膜对有机薄膜具有脱模性，即使附着有机薄膜，也可以通过高压洗涤等方法容易地除去有机薄膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103154303A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180050603.7
申请日：2011-10-19
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H05B33/10 , G03F1/50 , G03F7/2014
Abstract: 本发明提供一种使有机材料附着之后，使成膜对象物静止，固化有机材料，能将有机膜成膜的有机膜形成装置以及有机膜形成方法。在真空槽（11）内配置的基板台（14）上配置成膜对象物（5），在成膜对象物（5）的表面接触配置掩模（31），冷却成膜对象物（5），将真空槽（11）内进行真空排气的同时，从掩模（31）上喷出当照射光时进行固化的光反应性材料，并使其附着于在掩模（31）的开口（34）底面露出的成膜对象物（5）的表面，在附着的部分形成光反应性材料的液状膜，在停止了真空槽（11）内的真空排气的状态下，在放射光的光照射装置（24）中，使光放射的同时，在掩模上移动，使液状膜固化，形成光反应性材料的有机膜。
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公开(公告)号：CN1957436A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：CN200580016980.3
申请日：2005-10-31
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 本发明的等离子显示屏(1)的维持电极(15)与地址电极(16)上的保护膜(14)的主成分均含有CaO和SrO，而该保护膜(14)中的CaO浓度为20mol％以上、90mol％以下。由于此种保护膜(14)的功函数比以往的MgO膜小，故可用比以往更低的放电电压来发光。当放电电压低时，保护膜(14)被溅射的速度也会变慢，因此等离子显示器(1)可长寿命化。并且，因为等离子气体含有Xe气体，所以本发明的等离子显示器的亮度也高。
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公开(公告)号：CN103154303B
公开(公告)日：2016-01-06
申请号：CN201180050603.7
申请日：2011-10-19
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H05B33/10 , G03F1/50 , G03F7/2014
Abstract: 本发明提供一种使有机材料附着之后，使成膜对象物静止，固化有机材料，能将有机膜成膜的有机膜形成装置以及有机膜形成方法。在真空槽（11）内配置的基板台（14）上配置成膜对象物（5），在成膜对象物（5）的表面接触配置掩模（31），冷却成膜对象物（5），将真空槽（11）内进行真空排气的同时，从掩模（31）上喷出当照射光时进行固化的光反应性材料，并使其附着于在掩模（31）的开口（34）底面露出的成膜对象物（5）的表面，在附着的部分形成光反应性材料的液状膜，在停止了真空槽（11）内的真空排气的状态下，在放射光的光照射装置（24）中，使光放射的同时，在掩模上移动，使液状膜固化，形成光反应性材料的有机膜。
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公开(公告)号：CN101454861A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200780019870.1
申请日：2007-05-28
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01J9/20 , C23C14/0042 , C23C14/081 , C23C14/30 , H01J2209/012
Abstract: 提供填充率高的MgO膜。在真空槽(12)内配置蒸发源(23)，边导入氧气和气体的水，边照射电子射线(28)产生MgO蒸气。这时通过使水的导入量达到残留在真空槽内部的水分子数为导入真空槽的水分子数的2.99×10－1倍以上，可以得到(110)峰强度大的MgO膜。(110)优先取向的MgO膜，其填充率高并且气体释放速度慢，因此耐溅射性优异。
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公开(公告)号：CN104067692A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201280067681.2
申请日：2012-10-30
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: H01L51/5246 , H01L51/5253
Abstract: 本发明提供一种保护元件免受氧气、水分等的侵害，能够抑制元件劣化等的元件结构体以及元件结构体的制造方法。元件结构体(1)具有基板(2)、器件层(3)、第1保护层(4)、第2保护层(5)以及密封层(6)。器件层(3)形成于基板2上的第1区域(11)。第1保护层(4)由无机物构成，具有形成于器件层(3)周围的第1边缘部(4A)，覆盖器件层(3)，形成于基板(2)上包含第1区域(11)的第2区域(12)。第2保护层(5)由有机物构成，形成于第1保护层(4)上与第2区域(12)相对应的第3区域(13)。密封层(6)由无机物构成，具有形成于第1边缘部(4A)与第2保护层(5)周围的第2边缘部(6A)，覆盖第2保护层(5)，形成于基板(2)上包含第2区域(12)的第4区域(14)。
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